JP3981393B2 - 化学研磨装置及びガラス基板の製造方法 - Google Patents
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- フッ酸を含有する研磨液を保有する化学研磨槽に配置され、直径0.5mm〜1.5mmの気泡開口を50mm以下の開口ピッチで設けた複数列の中空パイプと、前記複数列の中空パイプにガスを連続的に供給して前記化学研磨槽に気泡を発生させる給気部と、前記複数列の中空パイプの上部で、前記中空パイプから浮上する気泡に対する自由空間たる拡散空間を隔てて複数のガラス基板を垂直姿勢で保持するバスケットとを備え、
前記複数列の中空パイプは、前記気泡開口の開口ピッチと同程度の配設ピッチで前記バスケットの下部に配置され、
前記研磨液が、浮上する気泡に合せて前記バスケットの中を上昇した後、化学研磨液から溢出することなく、前記バスケットの外側を降下するよう構成されている化学研磨装置。 - 前記中空パイプの気泡開口は、全体として略千鳥状に配列されている請求項1に記載の化学研磨装置。
- バスケット単位で実行される化学研磨処理を複数回繰り返した後、洗浄処理して再使用される中空パイプを構成要素とする請求項1又は2に記載の化学研磨装置。
- フッ酸を含有する研磨液を保有する化学研磨槽に配置され、直径0.5mm〜1.5mmの気泡開口を50mm以下の開口ピッチで設けた複数列の中空パイプと、前記複数列の中空パイプにガスを連続的に供給して前記化学研磨槽に気泡を発生させる給気部と、前記複数列の中空パイプの上部で、前記中空パイプから浮上する気泡に対する自由空間たる拡散空間を隔てて複数のガラス基板を垂直姿勢で保持するバスケットとを備え、前記複数列の中空パイプは、前記気泡開口の開口ピッチと同程度の配設ピッチで前記バスケットの下部に配置された化学研磨装置を使用する薄形ガラス基板の製造方法であって、
前記研磨液が、浮上する気泡に合せて前記バスケットの中を上昇した後、化学研磨液から溢出することなく、前記バスケットの外側を降下する研磨液によってガラス基板を化学研磨する薄型ガラス基板の製造方法。
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