KR100801298B1 - 기판 이송 기구 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 - Google Patents

기판 이송 기구 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR100801298B1
KR100801298B1 KR1020060137881A KR20060137881A KR100801298B1 KR 100801298 B1 KR100801298 B1 KR 100801298B1 KR 1020060137881 A KR1020060137881 A KR 1020060137881A KR 20060137881 A KR20060137881 A KR 20060137881A KR 100801298 B1 KR100801298 B1 KR 100801298B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
substrate
chemical liquid
transfer
disposed
end portion
Prior art date
Application number
KR1020060137881A
Other languages
English (en)
Inventor
박기홍
현재일
Original Assignee
세메스 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 세메스 주식회사 filed Critical 세메스 주식회사
Priority to KR1020060137881A priority Critical patent/KR100801298B1/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100801298B1 publication Critical patent/KR100801298B1/ko

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65GTRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G49/00Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
    • B65G49/05Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
    • B65G49/06Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
    • B65G49/061Lifting, gripping, or carrying means, for one or more sheets forming independent means of transport, e.g. suction cups, transport frames
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65GTRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G49/00Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
    • B65G49/05Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
    • B65G49/06Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
    • B65G49/063Transporting devices for sheet glass
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67051Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly spraying means, e.g. nozzles
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67703Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
    • H01L21/67706Mechanical details, e.g. roller, belt

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Weting (AREA)

Abstract

기판 처리 장치가 제공된다. 상기 기판 처리 장치는 침액조, 침액조 내에서 기판을 이송하는 기판 이송 기구, 침액조의 하부에서부터 약액을 업플로우(up-flow)하는 약액 공급부, 및 기판의 상부에 약액을 분무하는 약액 스프레이부를 포함하되, 기판 이송 기구는 기판의 하부에 위치하고, 기판을 가로지르도록 배치된 하부 장축와, 하부 장축에 설치된 하부 롤러를 포함하는 하부 이송부와, 기판의 상부에 위치하고, 기판의 종단부까지 연장된 상부 단축와, 상부 단축에 설치되어 기판의 종단부에 접촉하는 상부 롤러를 포함하는 상부 이송부를 포함한다.
상부 단축, 상부 롤러

Description

기판 이송 기구 및 이를 포함하는 기판 처리 장치{Substrate carrier and apparatus for processing substrate comprising the same}
도 1은 종래의 기판 처리 장치를 개략적으로 나타낸 평면도이다.
도 2는 도 1의 II-II'를 따라 절단한 단면도이다.
도 3은 본 발명의 실시예들에 따른 기판 처리 장치를 개략적으로 나타낸 평면도이다.
도 4는 도 3의 IV-IV'를 따라 절단한 단면도이다.
(도면의 주요부분에 대한 부호의 설명)
200 : 기판 처리 장치 110 : 침액조
130 : 약액 공급부 222 : 하부 이송부
222a : 하부 장축 222b : 하부 롤러
224 : 상부 이송부 224a : 상부 단축
224b : 상부 롤러
본 발명은 기판 이송 기구 및 이를 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기판 상에 약액이 고르게 분무될 수 있는 기판 이송 기구 및 이를 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.
최근 들어, 정보 처리 기기는 다양한 형태의 기능과 더욱 빨라진 정보 처리 속도를 갖도록 급속하게 발전하고 있다. 이러한 정보 처리 장치는 가동된 정보를 표시하기 위해 디스플레이 장치를 가진다. 지금까지는 디스플레이 장치로 브라운관(cathode ray tube) 모니터가 주로 사용되었으나, 최근에는 반도체 기술의 급속한 발전에 따라 가볍고 공간을 작게 차지하는 평판 디스플레이 장치의 사용이 급격히 증대하고 있다. 평판 디스플레이로는 다양한 종류가 있으며, 이들 중 전력 소모와 부피가 작으며 저전압 구동형인 액정 디스플레이(Liquid Crystal Display)가 널리 사용되고 있다.
이러한 액정 디스플레이를 제조하기 위해 다양한 공정들이 수행된다. 이러한 공정으로는 침액조, 챔버 또는 확산로 등의 기판 처리 장치에서 진행되는 식각, 수세, 건조 또는 열처리 공정 등이 있다. 이 같은 공정들은 기체를 이용하는 건식공정과 액체를 이용하는 습식공정으로 구분되며, 습식 공정은 다시 기판에 액체를 분사하는 스프레이 방식과 기판을 용액에 침강시키는 침강 방식으로 구분된다. 이때, 습식 공정에 사용되는 액체, 즉 기판 처리액은 화학약품이나 탈이온수 또는 순수(DI) 등이 사용된다.
도 1은 종래의 기판 처리 장치를 개략적으로 나타낸 평면도이고, 도 2는 도 1의 II-II'를 따라 절단한 단면도이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 종래의 기판 처리 장치(100)는 침액조(110), 약액 공급부(130), 약액 스프레이부(140), 기판 이송 기구(122, 124)를 포함한다.
기판을 처리하기 위해서는 우선, 기판 이송 기구(122, 124)를 통해 기판(P)을 침액조(110) 내로 로딩한다. 이어서, 약액 공급부(130)는 침액조(110)의 하부에서부터 약액을 업플로우(up-flow)하고, 약액 스프레이부(140)는 기판(P)의 상부에 약액을 분무한다.
그런데, 기판 이송 기구(122, 124)는 기판(P)을 이송하기 위한 하부 이송부(122)와, 기판(P)의 하부에서 약액이 업플로우되기 때문에 기판(P)의 들뜸 현상을 방지하기 위한 상부 이송부(124)를 포함한다.
그런데, 상부 이송부(124)의 상부 장축이 기판(P)을 가로지르도록 형성되어 있기 때문에, 약액 스프레이부(140)에서 약액을 분무할 때, 상부 장축에 가려져 있어서(도 1의 a 부분 참조) 기판(P)에 약액이 고르게 분무되지 않는 현상이 발생할 수 있다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 기판 상에 약액이 고르게 분무될 수 있는 기판 이송 기구를 제공하는 것이다.
본 발명이 이루고자 하는 다른 기술적 과제는, 기판 상에 약액이 고르게 분무될 수 있는 기판 처리 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 기술적 과제는 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 태양에 따른 기판 이송 기구는 기판의 하부에 위치하고, 기판을 가로지르도록 배치된 하부 장축와, 하부 장축에 설치된 하부 롤러를 포함하여, 기판을 이송하는 하부 이송부와, 기판의 상부에 위치하고, 기판의 종단부까지 연장된 상부 단축과, 상부 단축에 설치되어 기판의 종단부에 접촉하는 상부 롤러를 포함하여, 기판의 뜨임 현상을 방지하는 상부 이송부를 포함한다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 태양에 따른 기판 처리 장치는 침액조, 침액조 내에서 기판을 이송하는 기판 이송 기구, 침액조의 하부에서부터 약액을 업플로우(up-flow)하는 약액 공급부, 및 기판의 상부에 약액을 분무하는 약액 스프레이부를 포함하되, 기판 이송 기구는 기판의 하부에 위치하고, 기판을 가로지르도록 배치된 하부 장축와, 하부 장축에 설치된 하부 롤러를 포함하는 하부 이송부와, 기판의 상부에 위치하고, 기판의 종단부까지 연장된 상부 단축와, 상부 단축에 설치되어 기판의 종단부에 접촉하는 상부 롤러를 포함하는 상부 이송부를 포함한다.
본 발명의 기타 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.
비록 제1, 제2 등이 다양한 소자, 구성요소 및/또는 섹션들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 소자, 구성요소 및/또는 섹션들은 이들 용어에 의해 제한되지 않음은 물론이다. 이들 용어들은 단지 하나의 소자, 구성요소 또는 섹션들을 다른 소자, 구성요소 또는 섹션들과 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에 서 언급되는 제1 소자, 제1 구성요소 또는 제1 섹션은 본 발명의 기술적 사상내에서 제2 소자, 제2 구성요소 또는 제2 섹션일 수도 있음은 물론이다.
본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함한다(comprises)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급된 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자는 하나 이상의 다른 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.
다른 정의가 없다면, 본 명세서에서 사용되는 모든 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 공통적으로 이해될 수 있는 의미로 사용될 수 있을 것이다. 또 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 용어들은 명백하게 특별히 정의되어 있지 않는 한 이상적으로 또는 과도하게 해석되지 않는다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.
도 3은 본 발명의 실시예들에 따른 기판 처리 장치를 개략적으로 나타낸 평 면도이고, 도 4는 도 3의 IV-IV'를 따라 절단한 단면도이다.
도 3 및 도 4를 참조하면, 본 발명의 실시예들에 따른 기판 처리 장치(200)는 침액조(110), 약액 공급부(130), 약액 스프레이부(140), 기판 이송 기구(222, 224)를 포함한다.
기판을 처리하기 위해서는 우선, 기판 이송 기구(222, 224)를 통해 기판(P)을 침액조(110) 내로 로딩한다. 이어서, 약액 공급부(130)는 침액조(110)의 하부에서부터 약액을 업플로우(up-flow)하고, 약액 스프레이부(140)는 기판(P)의 상부에 약액을 분무한다.
그런데, 기판 이송 기구(222, 224)는 기판(P)의 하부에 위치하여 기판(P)을 이송하기 위한 하부 이송부(222)와, 기판(P)의 하부에서 약액이 업플로우되기 때문에 기판(P)의 상부에 위치하여 기판(P)의 들뜸 현상을 방지하기 위한 상부 이송부(224)를 포함한다.
하부 이송부(222)는 기판(P)을 가로지르도록 배치된 하부 장축(222a)과, 하부 장축(222a)에 설치된 하부 롤러(222b)를 포함한다. 상부 이송부(224)는 기판(P)의 종단부까지 연장된 상부 단축(224a)와, 상부 단축(224a)에 설치되어 기판(P)의 종단부에 접촉하는 상부 롤러(224b)를 포함한다.
여기서, 기판(P)의 종단부는 상부 롤러(224b)가 접촉하는 기판(P)의 부분으로, 기판(P)의 유효 패턴 영역 이외의 영역일 수 있다. 유효 패턴 영역은 예를 들어, 디스플레이 기판에서 다수의 화소가 형성되고, 다수의 화소를 구동하는 구동 회로가 형성된 영역 등을 포함하는 부분일 수 있다.
본 발명에서는 상부 이송부(224)가 기판(P)을 가로지르도록 형성되지 않았으므로, 약액 스프레이부(140)가 기판(P)의 상부에서 약액을 분무할 때 기판(P)의 전면에 고르게 약액이 분무될 수 있다. 따라서, 공정 불량을 최소화할 수 있다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.
상기한 바와 같은 기판 이송 기구 및 이를 포함하는 기판 처리 장치는, 약액 스프레이부가 기판의 상부에서 약액을 분무할 때 기판의 전면에 고르게 약액이 분무될 수 있어서 공정 불량을 최소화할 수 있다.

Claims (4)

  1. 기판의 하부에 위치하고, 상기 기판을 가로지르도록 배치된 하부 장축과, 상기 하부 장축에 설치된 하부 롤러를 포함하여, 상기 기판을 이송하는 하부 이송부와,
    상기 기판의 상부에 위치하고, 상기 기판의 종단부까지 연장된 상부 단축과, 상기 상부 단축에 설치되어 상기 기판의 종단부에 접촉하는 상부 롤러를 포함하여, 상기 기판의 뜨임 현상을 방지하는 상부 이송부를 포함하는 기판 이송 기구.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 기판의 종단부는 상기 기판의 유효 패턴 영역 이외의 영역인 기판 이송 기구.
  3. 침액조;
    상기 침액조 내에서 기판을 이송하는 기판 이송 기구;
    상기 침액조의 하부에서부터 약액을 업플로우(up-flow)하는 약액 공급부; 및
    상기 기판의 상부에 약액을 분무하는 약액 스프레이부를 포함하되,
    상기 기판 이송 기구는
    상기 기판의 하부에 위치하고, 상기 기판을 가로지르도록 배치된 하부 장축과, 상기 하부 장축에 설치된 하부 롤러를 포함하는 하부 이송부와,
    상기 기판의 상부에 위치하고, 상기 기판의 종단부까지 연장된 상부 단축과, 상기 상부 단축에 설치되어 상기 기판의 종단부에 접촉하는 상부 롤러를 포함하는 상부 이송부를 포함하는 기판 처리 장치.
  4. 제 3항에 있어서,
    상기 기판의 종단부는 상기 기판의 유효 패턴 영역 이외의 영역인 기판 처리 장치.
KR1020060137881A 2006-12-29 2006-12-29 기판 이송 기구 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 KR100801298B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060137881A KR100801298B1 (ko) 2006-12-29 2006-12-29 기판 이송 기구 및 이를 포함하는 기판 처리 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060137881A KR100801298B1 (ko) 2006-12-29 2006-12-29 기판 이송 기구 및 이를 포함하는 기판 처리 장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR100801298B1 true KR100801298B1 (ko) 2008-02-05

Family

ID=39342467

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020060137881A KR100801298B1 (ko) 2006-12-29 2006-12-29 기판 이송 기구 및 이를 포함하는 기판 처리 장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100801298B1 (ko)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08321536A (ja) * 1995-05-25 1996-12-03 Sharp Corp 液処理装置の基板搬送装置
JP2005175091A (ja) 2003-12-09 2005-06-30 Pioneer Electronic Corp レジスト剥離装置及び方法、並びにフラットディスプレイパネルの製造方法
KR20060078538A (ko) * 2004-12-31 2006-07-05 엘지.필립스 엘시디 주식회사 반송 롤러

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08321536A (ja) * 1995-05-25 1996-12-03 Sharp Corp 液処理装置の基板搬送装置
JP2005175091A (ja) 2003-12-09 2005-06-30 Pioneer Electronic Corp レジスト剥離装置及び方法、並びにフラットディスプレイパネルの製造方法
KR20060078538A (ko) * 2004-12-31 2006-07-05 엘지.필립스 엘시디 주식회사 반송 롤러

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4157116B2 (ja) 基板処理装置
KR100801298B1 (ko) 기판 이송 기구 및 이를 포함하는 기판 처리 장치
KR20080059519A (ko) 기판 처리 방법 및 레지스트 표면 처리 장치
US20090108545A1 (en) Spin chuck
KR101141155B1 (ko) 기판 처리 장치
KR20090124519A (ko) 기판 처리 장치
KR20090015413A (ko) 평판표시장치 제조용 슬릿 노즐의 세정 장치
KR20070036398A (ko) 기판세정장치
KR101097932B1 (ko) 약액 분사 장치 및 그것을 구비한 기판 처리 장치
KR101041052B1 (ko) 기판처리장치
KR200331986Y1 (ko) 복수의 기판을 동시에 처리할 수 있는 원 라인을 갖는기판처리장치
JPH08141526A (ja) 基板処理装置およびそれに用いられる処理槽
KR20080047817A (ko) 기판 처리 장치 및 이를 이용한 기판 처리 방법
KR101856197B1 (ko) 약액 공급 장치
KR20080078303A (ko) 평판 패널 처리 장치
KR102473692B1 (ko) 기판 식각 시스템
KR20080071676A (ko) 기판 처리 장치 및 방법
KR101119154B1 (ko) 기판 처리장치
KR101021546B1 (ko) 기판처리장치 및 이를 이용하여 기판을 처리하는 기판처리방법
KR100897581B1 (ko) 웨이퍼 건조 방법
KR20080062117A (ko) 습식 식각 장치
KR20080018320A (ko) 기판 처리 장치
KR20080009833A (ko) 기판 세정 및 건조 방법
KR100809591B1 (ko) 매엽식 기판 세정 방법
KR100819158B1 (ko) 기판 처리 장치 및 방법

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
LAPS Lapse due to unpaid annual fee