JPH08195372A - 洗浄装置およびその方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 被処理体に対して洗浄処理液による洗浄処理
とリンス処理とを同一の処理槽で行うにあたって、均一
性の高い洗浄処理を行うこと、及び効率よくリンス処理
を行うことを目的とする。 【構成】 処理槽３内の被処理体の両側に、被処理体の
配列方向に伸び、複数の吹き出し孔５１、６１、６２が
長さ方向に形成されたノズル５Ａ、５Ｂ、６Ａ、６Ｂを
設け、洗浄処理後にこのノズルからリンス液を吹き出し
て洗浄処理液を置換する。この場合ノズルの下方側に整
流手段８を設け、先ずノズルからリンス液を吹き出して
洗浄処理液の濃度が低くなった後、処理槽３の底部から
整流手段８を通じてリンス液を供給するとリンス液によ
る置換の時間が短くなる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、被処理基板を洗浄する
洗浄装置及びその方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体デバイスの製造工程では、半導体
ウエハ（以下「ウエハ」という）表面のパーティクル、
有機汚染物、金属不純物等のコンタミネーションを除去
するために洗浄装置が使用されており、その中でもウエ
ット洗浄装置は、前記コンタミネーションを効果的に除
去でき、しかもバッチ処理が可能でスループットが良好
であるため幅広く普及している。

【０００３】この種の洗浄装置では、薬液槽内にてウエ
ハに対してアンモニア、フッ酸、塩酸などの薬液処理を
行った後、リンス槽内にて例えば純水によりリンスを行
っており、その装置構成については、薬液槽及びリンス
槽の組が各薬液毎にシリーズに配列され、例えば５０枚
のウエハを一括して各槽に順次搬送するための搬送系が
設けられている。前記薬液槽やリンス槽は、例えば薬液
あるいはリンス液が底部から供給され、整流板を通った
後ウエハ群の板面に沿って上昇するように構成されてい
るが、最近において装置の小型化を図るために、薬液槽
とリンス槽とを共通化する１バス方式が検討されつつあ
る。

【０００４】このような１バス方式の洗浄装置の一例を
図１３に示すと、１は処理槽であり、処理槽１の上部周
縁にはオーバフローした液を受けるための受容槽１０が
設けられると共に、この処理槽１の底部には薬液の循環
路の一部を兼用するリンス液供給管１１が例えば２ケ所
に接続されている。処理槽１のリンス液供給口には拡散
板１２が取り付けられ、その上方には、複数の通流孔１
３ａを有する整流板１３が配設されている。この装置を
用いた洗浄工程について述べると、先ず処理槽１内に図
示しない洗浄処理液供給部から薬液が供給され、次いで
例えば５０枚のウエハＷを保持具１４に垂直に配列保持
させて薬液内に浸漬し、所定時間薬液を循環させて洗浄
処理を行った後、リンス液供給管１１からリンス液例え
ば純水を処理槽１内に供給し、純水により薬液を置換し
てリンス処理を行う。

【０００５】

【発明が解決しようとしている課題】しかしながら図１
３の洗浄装置では、リンス液により薬液を置換する場
合、整流板１３による処理槽１内の液流れの整流効果の
ために比抵抗の回復時間（純水への置換時間）が短く、
リンス効率が高いという利点はあるが、その反面洗浄処
理にばらつきが起こるという問題があった。即ち図１４
に示すように薬液が処理槽１の下部から徐々にリンス液
に置換されていくため、例えば洗浄処理液としてフッ酸
溶液を用いてウエハの酸化膜をエッチングする場合上部
ほど薬液濃度が高いのでエッチング量が多くなり、上下
方向においてエッチング量にばらつきが生じてしまい、
歩留まりの低下の一因になる。なお薬液濃度を低くすれ
ばエッチング量のばらつきはかなり抑えられるが、この
ようにするとエッチングに長い時間を要し、スループッ
トが低下してしまう。

【０００６】本発明はこのような事情の下になされたも
のであり、その目的は、洗浄処理とリンス処理とを同一
の処理槽で行うにあたって均一性の高い洗浄処理を行う
ことのできる洗浄装置及びその方法を提供することにあ
る。

【０００７】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、複数
の被処理基板を並べて保持するための保持部と、この保
持部に保持された複数の被処理基板を洗浄処理液で洗浄
し、次いでリンス液でリンスするための処理槽と、この
処理槽内に洗浄処理液を供給するための洗浄処理液供給
部と、前記処理槽内の被処理基板の下部側に設けられ、
前記処理槽内にリンス液を吹き出すための複数の吹き出
し孔が被処理基板の配列方向に沿って形成されたリンス
液吹き出し部と、を備え、前記被処理基板を洗浄処理液
により洗浄処理した後、前記リンス液吹き出し部からリ
ンス液を処理槽内に導入してリンス液で洗浄処理液を置
換することを特徴とする。

【０００８】請求項２の発明は、複数の被処理基板を並
べて保持するための保持部と、この保持部に保持された
複数の被処理基板を洗浄処理液で洗浄し、次いでリンス
液でリンスするための処理槽と、この処理槽内に洗浄処
理液を供給するための洗浄処理液供給部と、前記処理槽
の底部に設けられたリンス液供給部と、前記被処理基板
と処理槽の底部との間に設けられ、前記リンス液供給部
からのリンス液の流れを整流化するための複数の通流孔
を備えた整流手段と、前記処理槽内の被処理基板の下部
側に設けられ、前記処理槽内にリンス液を吹き出すため
の複数の吹き出し孔が被処理基板の配列方向に沿って形
成されたリンス液吹き出し部と、前記被処理基板を洗浄
処理液により洗浄処理した後、前記リンス液吹き出し部
からリンス液を処理槽内に導入し、その後前記リンス液
供給部からリンス液を処理槽内に導入してリンス液で洗
浄処理液を置換することを特徴とする。

【０００９】請求項３の発明は、請求項１または２の発
明において、リンス液吹き出し部の吹き出し孔は、被処
理基板の板面に沿ってリンス液を吹き出すように構成さ
れていることを特徴とする。

【００１０】請求項４の発明は、請求項１、２または３
の発明において、リンス液吹き出し部は、被処理基板の
下方側にリンス液を吹き出すための吹き出し孔を更に備
えていることを特徴とする。

【００１１】請求項５の発明は、請求項１、２、３また
は４の発明において、リンス液吹き出し部は、処理槽の
外部から内部に壁部を貫通して設けられていることを特
徴とする。

【００１２】請求項６の発明は、複数の被処理基板を互
いに対向するように並べた状態で処理槽内の洗浄処理液
に浸漬する工程と、次いで前記被処理基板の両側におい
て被処理基板の配列方向に沿って複数形成された吹き出
し口からリンス液を吹き出しこれにより処理槽内の洗浄
処理液をリンス液で置換して洗浄処理液の濃度を低下さ
せる工程と、その後前記処理槽内の底部より整流手段を
通じて上方側にリンス液を供給し、これにより処理槽内
の洗浄処理液をリンス液で置換する工程と、を含むこと
を特徴とする。

【００１３】

【作用】処理槽内に供給された洗浄処理液に被処理体を
浸漬して例えばエッチングを行った後、リンス液吹き出
し部からリンス液を吹き出す。これにより洗浄処理液が
リンス液で置換されるが、リンス液の吹き出しにより処
理槽内が撹拌されるため処理槽内の洗浄処理液の濃度差
が小さい状態でリンス液への置換が行われるため被処理
体に対して高い均一性で洗浄処理が行われる。この場合
リンス液供給部を処理槽の壁部を貫通して設ければ、処
理槽をコンパクト化できる。

【００１４】またリンス液吹き出し部と整流手段とを組
み合わせた場合には、リンス液吹き出し部からリンス液
を吹き出し、洗浄処理の濃度が洗浄処理の均一性にほと
んどあるいは全く影響がない程度まで小さくなった後、
処理槽の底部より整流手段を通じてリンス液を処理槽内
に供給する。従ってリンス液による置換を速やかに行う
ことができ、高いスループットが得られる。

【００１５】

【実施例】本発明の実施例に係る洗浄装置の主要部を述
べる前に、搬送系なども含めた装置全体について図１を
参照しながら簡単に説明すると、装置全体は、洗浄処理
前のウエハをカセット単位で収容する搬入部Ａと、ウエ
ハの洗浄処理が行われる洗浄処理部Ｂと、洗浄処理後の
ウエハをカセット単位で取り出すための搬出部Ｃとの３
つのゾーンによって構成されている。

【００１６】搬入部Ａでは、例えば２５枚のウエハが収
納されたカセットＣが外部からカセット搬送手段２０に
より待機部２１に一旦搬入された後、ローダ部２２に搬
送され、ここで図では見えないウエハチャックによりカ
セットＣ内のウエハが専用のウエハ保持具に移し替えら
れる。洗浄処理部Ｂでは、搬入部Ａと搬出部Ｃとを結ぶ
ラインに沿って例えば３台のウエハ搬送手段Ｒ１〜Ｒ３
が設けられると共に、搬入部Ａ側から順に、ウエハ搬送
手段Ｒ１のウエハ保持具搬送部２３を洗浄、乾燥する搬
送部洗浄・乾燥槽Ｔ１、３つの処理槽Ｔ２〜Ｔ４、ウエ
ハ搬送手段Ｒ３の保持具搬送部２４を洗浄、乾燥する洗
浄・乾燥槽Ｔ５、ウエハを蒸気乾燥させるウエハ乾燥槽
Ｔ６が設けられている。処理槽Ｔ２〜Ｔ４は、洗浄処理
液により洗浄され、かつ夫々例えば純水でリンスされる
ように構成され、ウエハは例えば５０枚一括して後述の
専用の保持具で保持されてウエハ搬送手段Ｒ１〜Ｒ３の
保持具搬送部により順次処理槽Ｔ２〜Ｔ４内に搬送され
て洗浄処理が行われる。洗浄処理部Ｂの上方には、前記
ウエハチャックによってウエハが取り出された後の空の
カセットＣを洗浄、乾燥するための洗浄・乾燥ライン２
５が設けられており、この洗浄乾燥ラインへのカセット
Ｃの供給は、前記ローダ部２２及び昇降機構２６によっ
て行われる。

【００１７】（第１実施例）前記３つの処理槽Ｔ２〜Ｔ
４は、同一の構造であり、各処理槽３（Ｔ２〜Ｔ４）及
びそれに関連する装置構成の第１実施例について図２〜
図５を参照しながら詳述する。処理槽３は、例えば底面
の左右両側が内側に傾斜した矩形状に成形されると共に
上縁部に越流用の三角形状の切欠部３１が形成されてお
り、処理槽３の上縁部の外側には越流した液を受容する
受容槽３２が設けられている。またウエハを保持して処
理槽内に浸漬するときに用いられる保持部をなす専用の
ウエハ保持具４は図２に示すように、保持具本体４０
に、ウエハＷの下端を保持する保持棒４１とウエハＷの
下部両側を保持する保持棒４２、４３とを設けてなり、
これら保持棒４１〜４３にはウエハＷを保持する保持溝
４４が所定間隔で例えば５０本形成されている。前記ロ
ーダ部２２にてウエハチャックにより把持された５０枚
のウエハは、前記保持溝４４内に受容されることにより
ウエハ保持具４に一括して保持される。

【００１８】前記処理槽３内には、前記保持棒４２、４
３の左右両側位置及び前記保持棒４２、４３の下方側付
近に夫々リンス液供給のためのノズル５Ａ、５Ｂ、６
Ａ、６Ｂが保持棒４２、４３の長さ方向に沿って配設さ
れている。前記ノズル５Ａ、５Ｂは、例えば内径１０ｍ
ｍのリンス液供給管５０に、各々リンス液をウエハＷの
中心部に向けて吹き出すように多数の吹き出し孔５１
（図４、図５参照）を長さ方向に穿設して構成されてい
る。前記ノズル６Ａ、６Ｂは、リンス液供給管６０に、
各々リンス液をウエハＷの中心部に向けて吹き出すため
の多数の吹き出し孔６１（図４、図５参照）と、ウエハ
Ｗの下方側（中央の保持棒４１の下方側）に向けてリン
ス液を吹き出すための多数の吹き出し孔６２（図５参
照）とを長さ方向に穿設して構成されている。これらノ
ズル５Ａ、５Ｂ、６Ａ、６Ｂは、処理槽３の後面壁部を
貫通して外部の図示しないリンス液供給源に接続されて
いる。

【００１９】前記吹き出し孔５１、６１、６２はいずれ
もウエハ保持具４に保持されたウエハの配列ピッチと同
じピッチで、かつ各吹き出し孔５１、６１、６２の配列
方向の位置がウエハＷ間の中心部の位置となるように
（ただしウエハＷ群の前端及び後端の前後については半
ピッチ分前後にずれた位置となるように）形成されてい
る。前記吹き出し孔５１、６１、６２の孔径について
は、１．０ｍｍより小さいと十分な流量を確保できない
し、また２．０ｍｍを越えると吹き出し距離が短くなっ
てしまうため、１．０ｍｍ〜２．０ｍｍであることが好
ましい。

【００２０】前記処理槽３の上方側には洗浄処理液を処
理槽３内に供給するための洗浄処理液供給部７１が設け
られると共に（図５参照）、処理槽３の底部と受容槽３
２との間には、洗浄処理液を循環するための循環路７２
が設けられ、この循環路７２には、バルブＶ１、Ｖ３、
フィルタＦ及びポンプＰが介設されている。また受容槽
３２にはリンス液を排出する、バルブＶ２を備えた排出
管７３が設けられている。ただし洗浄処理液を処理槽３
内に供給するためには、前記循環路７２の途中に洗浄処
理液を供給するための供給路を接続してもよい。

【００２１】次に上述実施例の作用について説明する。
先ず洗浄処理液供給部７１から洗浄処理液例えば０．５
体積％のフッ酸溶液を処理槽３内に供給しておき、バル
ブＶ１、Ｖ２を開いて循環濾過を行なう。そして既述し
たウエハ搬送手段のウエハチャックにより例えば５０枚
のウエハＷをカセットから前記ウエハ保持具４に移し替
えこのウエハ保持具４をウエハ搬送手段により支持して
処理槽３内に搬送し、ウエハＷを洗浄処理液内に浸漬す
る。こうして例えば前記フッ酸溶液によりウエハＷ表面
の酸化膜をエッチングする。続いてバルブＶ１、Ｖ３を
閉じかつポンプＰを停止し、同時にリンス液供給用のノ
ズル５Ａ、５Ｂ、６Ａ、６Ｂの各吹き出し孔５１、６
１、６２からリンス液例えば純水を吹き出すことによ
り、図６に示すように処理槽３内に乱流が生じ、この乱
流によって処理槽３内が撹拌されながら洗浄処理液が純
水によって置換されていく。このときバルブＶ２が開か
れており処理槽３を越流した液は排出管７３より外部に
排出される。

【００２２】こうして純水により処理槽３内が置換され
た後所定時間純水をノズル５Ａ、５Ｂ、６Ａ、６Ｂから
吹き出しウエハＷに対してリンス処理を行う。その後ウ
エハ搬送手段によりウエハ保持具４を前記処理槽３から
取り出し、次の洗浄処理を行うための処理槽内に搬送さ
れるか、あるいは前記処理槽３が最終段の処理槽３であ
る場合にはウエハ乾燥槽に搬送されて例えば蒸気乾燥さ
れる。なお処理槽３内のリンス液は図示しないドレイン
管より排出される。

【００２３】上述実施例によれば、吹き出し孔５１、６
１からウエハＷの板面に沿ってその中心に向けて純水が
吹き出すため、ウエハＷの表面付近の洗浄処理液は均一
に撹拌されるので濃度ムラなく全体の濃度が低下し、こ
の結果ウエハＷの表面のエッチング量が場所によって偏
ることなく均一になると共に、吹き出し孔６２からウエ
ハＷの下方側に向けて純水が吹き出すのでウエハＷの下
方側に濃い洗浄処理液が滞留することも防止でき、処理
槽３内が速やかに純水で置換される。そしてウエハＷに
対して洗浄処理例えばエッチングの均一性が高いため、
洗浄処理液例えばフッ酸の濃度を高くすることができ、
従って例えばエッチング時間を短縮でき、高いスループ
ットが得られ、タクトタイムも短縮する。

【００２４】（第２実施例）図７及び図８は本発明の第
２実施例を示す図であり、先の図と同符号のものは同一
部分若しくは相当部分を示す。この実施例では、処理槽
３の底部に例えば純水を供給するためのリンス液供給管
７４が接続されると共にノズル５Ａ、５Ｂ、６Ａ、６Ｂ
の下方側に整流手段８が設けられている。前記リンス液
供給管７４の一部は洗浄処理液の循環路の一部を兼用し
ており、図８に示すバルブＶ１、Ｖ３、Ｖ４によって洗
浄処理液の循環と純水の供給とが切り替えられる。

【００２５】前記整流手段８は、例えばリンス液供給管
７４の供給口に対向して設けられた例えば供給口と略同
径の拡散板８１と、この拡散板８１の上方位置にて図示
しない支脚などによって支持して設けられ、処理槽３の
底面形状に対応して両側が傾斜した形状の整流板８２と
から構成されており、整流板８２は、例えば前後の長さ
がウエハ保持具４の保持棒４１〜４３よりも若干長い板
状体に、前後に平行に伸びる複数の通流孔であるスリッ
ト８３を形成して（ただし前後端部は除かれる）構成さ
れている。整流手段８は、処理槽３の底部から供給され
る特にリンス液が整流化されてウエハＷの板面に沿って
流れるようにする機能を有するものであれば実施例のも
のに限定されず、例えばスリットと多数の丸穴などを組
み合わせて板状体に形成したものや、同一または異なる
整流板８２を複数枚間隔をおいて上下に重ねたもの、あ
るいは整流板８２の両側部付近に前後に伸びる垂直板を
付設したもの、更には拡散板８１を前記保持棒４１〜４
３と略同じ長さの帯状板としたものなど種々の構成を採
用できる。前記整流板８２の両側縁部の上方、及び中央
の水平部と傾斜部との折曲部の上方には、夫々これに接
してあるいは少し浮いた状態で第１実施例と同様なリン
ス液吹き出し部をなすノズル５Ａ、５Ｂ、６Ａ、６Ｂが
設けられている。なおノズル５Ａ、５Ｂ、６Ａ、６Ｂ
は、図９に示すように整流板８２と一体化してもよい。

【００２６】次に第２実施例の作用について述べると、
図１０（ａ）に示すようにウエハ保持具にウエハＷを載
せて処理槽３内の洗浄処理液に浸漬し、ウエハＷの洗浄
処理例えばウエハＷ表面の酸化膜をエッチングする工程
までは第１実施例と同じであるが、リンス液により洗浄
処理液を置換する工程が異なる。

【００２７】即ち図１０（ｂ）に示すように先ずノズル
５Ａ、５Ｂ、６Ａ、６ＢからウエハＷの中心部に向け
て、またノズル６Ａ、６ＢからウエハＷの下方側におけ
る整流板８２の表面に沿ってリンス液例えば純水を吹き
出し、これにより処理槽３内に乱流を起こしながら洗浄
処理液を純水によって置換していく。そして洗浄処理液
の濃度がウエハＷのエッチングの均一性に影響を与えな
い程度の小さな値になったときに、純水の吹き出しを停
止し、次いでリンス液供給管７４より処理槽３の底部か
ら純水を供給する。リンス液供給口から供給された純水
は、先ず拡散板８１により拡散され、整流板８２により
整流されてウエハＷの下方側から上昇し、この結果洗浄
処理液が追い出されて処理槽３内が純水に置き換わる。
その後純水をリンス液供給管７４より所定時間供給し続
けてリンス処理を終了する。

【００２８】このような実施例によれば、ノズル５Ａ、
５Ｂ、６Ａ、６Ｂを用いた場合よりもリンス効率が高く
なる。即ちノズルのみによってリンス液による置換を行
う場合には処理槽３内の液の流れが乱れているため置換
に要する時間（液の比抵抗が回復する時間）が比較的長
いが、洗浄処理液が薄くなって洗浄処理速度例えばエッ
チング速度が十分小さくなった後整流手段８を通しての
リンス液の置換を行えば、その後は速やかにリンス液に
置き換わる。従って各ウエハＷにおいて洗浄処理例えば
エッチングの均一性を確保でき、しかも比抵抗の回復が
早くなるのでリンス処理全体に要する時間が短くなる
し、また純水の消費量も減る。そして洗浄処理について
も濃度の高い液を使用できるので（整流手段のみを用い
た場合は既述のように高い濃度の洗浄処理液を使用でき
ない）、洗浄処理を効率よく行うことができ、この結果
高いスループットが得られ、タクトタイム（一のウエハ
が処理された後次のウエハが処理されるまでの時間）も
短縮化される。更にこうした第１実施例や第２実施例の
洗浄装置は、一つの処理槽で多種類の洗浄処理液を用い
て洗浄処理を行うこともでき、このようにすれば装置の
縮小化やコストの低減を図ることができる。

【００２９】ここでノズルによるリンス液の供給から整
流手段を通じたリンス液の供給へと移行するタイミング
は、洗浄処理液の濃度が洗浄処理の均一性に影響を与え
ない程度に低くなったときであるが、そのときの比抵抗
（この比抵抗は濃度に対応している）は例えばフッ酸系
溶液の場合０．５〜３．０Ω・ｃｍ程度が望ましく、例
えば予めその比抵抗の値まで下がるタイミングを調べて
おいてシーケンスを組むことができる。

【００３０】本発明は、濃度差によってエッチング均一
性に大きな影響を与えるフッ酸系の溶液で酸化膜やポリ
シリコンのエッチングを行う場合に大きな効果がある
が、これに限らず例えばリン酸溶液によって窒化膜をエ
ッチングする場合やリン酸、酢酸、硝酸の混合液によっ
てアルミニウムをエッチングする場合にも適用できる。
またその他洗浄処理としては、ＡＰＭ溶液（アンモニア
＋過酸化水素水＋純水）によりパーティクルの除去を行
う場合、ＨＰＭ溶液（塩酸＋過酸化水素水＋純水）によ
り金属汚染を清浄する場合、あるいはＳＰＭ（硫酸＋過
酸化水素水）によりレジスト膜の有機物を除去する場合
などであってもよい。

【００３１】なお第２実施例のようにノズルと整流手段
とを組み合わせた洗浄装置においては、薬液濃度により
洗浄処理の均一性にあまり影響がない場合には、ノズル
を用いずに整流手段を通したリンス液の供給のみによっ
てリンス液の置換を行う使い方をしてもよい。

【００３２】ここでノズル５Ａ、５Ｂ、６Ａ、６Ｂの吹
き出し孔５１、６１については、処理槽内に乱流を起こ
して液を撹拌できるものであればリンス液の吹き出しの
向きは限定されないが、例えば吹き出し孔５１を例にと
って図１１に基づいて述べると、吹き出し孔５１の向き
（リンス液の吹き出し方向）は、ウエハＷの面に沿った
方向つまりａ１からａ３の間であることが、液を均一に
撹拌する点で好ましく、ウエハＷの中心を通るａ２の方
向とａ１との間であればより好ましく、ウエハＷの中心
に向いたａ２の方向であればなお一層好ましい。

【００３３】前記ノズル９（５Ａ、５Ｂ、６Ａ、６Ｂを
代表して「９」とする）は、図１２（ａ）に示すように
基端部をＬ字形に屈曲し更に逆Ｌ字形に屈曲した構成と
して処理槽３の上部から外に引き出すようにしてもよい
が、図１２（ｂ）に示すように、つまり先の実施例のよ
うに処理槽３の壁部を貫通させて外から内部へ配管する
ようにしてもよく、後者の場合には、長さα分だけ処理
槽３の前後の寸法を短くすることができるため槽容量を
小さくでき、従って洗浄処理液やリンス液の消費量を低
減でき、リンス効率も高くなるためリンス時間が短縮さ
れ、スループットが向上する。

【００３４】ノズル９を処理槽３の壁部を貫通させる場
合シール材９１を用いてシールしてもよいし溶接構造を
採用してもよい。またノズル９は先の実施例のように４
本用いなくとも例えばウエハの左右両側に１本づつ（合
計２本）設けるようにしてもよい。更にリンス液の吹き
出し孔については、図４に示した配列とする代りに、千
鳥状に、つまり例えば一方のノズル５Ａの吹き出し孔５
１と他方のノズル５Ｂの吹き出し孔５１とが長さ方向に
沿って交互に配列するようにしてもよい。

【００３５】以上において本発明では、専用のウエハ保
持具を用いずに、処理槽内に設けられたウエハボートに
ウエハチャックによりウエハを移載して処理槽内に浸漬
するようにしてもよいし、あるいはウエハカセットにウ
エハを収容したまま処理槽内に浸漬して洗浄処理を行っ
てもよい。なお被処理体としてはウエハに限らず液晶基
板やプリント基板などであってもよい。

【００３６】

【発明の効果】本発明によれば、洗浄処理液による洗浄
処理とリンス液によるリンス処理とを同一の処理槽を用
いて行うにあたり、洗浄処理後リンス液吹き出し部から
リンス液を吹き出して洗浄処理液をリンス液で置換する
ようにしているため、高い均一性で洗浄処理を行うこと
ができる。また他の発明によれば、リンス液吹き出し部
に加えて整流手段を設け、リンス液吹き出し部からリン
ス液を吹き出して洗浄処理液の濃度が低くなった後整流
手段を通じたリンス液の流れによりリンス液で洗浄処理
液の置換を行っているため、高い均一性で洗浄処理を行
うことができ、しかも短時間でリンス液による置換を行
うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例に係る洗浄装置の全体構成を概
略的に示す斜視図である。

【図２】処理槽をウエハ保持具と共に示す斜視図であ
る。

【図３】第１実施例における処理槽の内部を示す斜視図
である。

【図４】リンス液の吹き出しノズルの吹き出し孔の配列
を示す平面図である。

【図５】第１実施例における処理槽の内部を示す断面図
である。

【図６】第１実施例の作用を示す説明図である。

【図７】第２実施例における処理槽の内部を示す斜視図
である。

【図８】第２実施例における処理槽の内部を示す斜視図
である。

【図９】第２実施例の整流手段及びリンス液の吹き出し
ノズルの他の例を示す断面図である。

【図１０】第２実施例の作用を示す説明図である。

【図１１】リンス液の吹き出しノズルにおけるリンス液
の吹き出し方向を説明するための説明図である。

【図１２】リンス液の吹き出しノズルの取り付け例を示
す断面図である。

【図１３】従来の洗浄装置を示す断面図である。

【図１４】図１３の装置の作用を示す説明図である。

【符号の説明】

３ 処理槽 ３２ 受容槽 ４ ウエハ保持具 ４１〜４３ 保持溝 ５Ａ、５Ｂ、６Ａ、６Ｂ ノズル ５１、６１、６２ 吹き出し孔 Ｗ ウエハ ７１ 洗浄処理液供給部 ７２ 洗浄処理液の循環路 ７４ リンス液供給管 ８ 整流手段 ８２ 整流板 ８３ 通流孔

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数の被処理基板を並べて保持するため
   の保持部と、 この保持部に保持された複数の被処理基板を洗浄処理液
   で洗浄し、次いでリンス液でリンスするための処理槽
   と、 この処理槽内に洗浄処理液を供給するための洗浄処理液
   供給部と、 前記処理槽内の被処理基板の下部側に設けられ、前記処
   理槽内にリンス液を吹き出すための複数の吹き出し孔が
   被処理基板の配列方向に沿って形成されたリンス液吹き
   出し部と、を備え、 前記被処理基板を洗浄処理液により洗浄処理した後、前
   記リンス液吹き出し部からリンス液を処理槽内に導入し
   てリンス液で洗浄処理液を置換することを特徴とする洗
   浄装置。
2. 【請求項２】 複数の被処理基板を並べて保持するため
   の保持部と、 この保持部に保持された複数の被処理基板を洗浄処理液
   で洗浄し、次いでリンス液でリンスするための処理槽
   と、 この処理槽内に洗浄処理液を供給するための洗浄処理液
   供給部と、 前記処理槽の底部に設けられたリンス液供給部と、 前記被処理基板と処理槽の底部との間に設けられ、前記
   リンス液供給部からのリンス液の流れを整流化するため
   の複数の通流孔を備えた整流手段と、 前記処理槽内の被処理基板の下部側に設けられ、前記処
   理槽内にリンス液を吹き出すための複数の吹き出し孔が
   被処理基板の配列方向に沿って形成されたリンス液吹き
   出し部と、 前記被処理基板を洗浄処理液により洗浄処理した後、前
   記リンス液吹き出し部からリンス液を処理槽内に導入
   し、その後前記リンス液供給部からリンス液を処理槽内
   に導入してリンス液で洗浄処理液を置換することを特徴
   とする洗浄装置。
3. 【請求項３】 リンス液吹き出し部の吹き出し孔は、被
   処理基板の板面に沿ってリンス液を吹き出すように構成
   されていることを特徴とする請求項１または２記載の洗
   浄装置。
4. 【請求項４】 リンス液吹き出し部は、被処理基板の下
   方側にリンス液を吹き出すための吹き出し孔を更に備え
   ていることを特徴とする請求項１、２または３記載の洗
   浄装置。
5. 【請求項５】 リンス液吹き出し部は、処理槽の外部か
   ら内部に壁部を貫通して設けられていることを特徴とす
   る請求項１、２、３または４記載の洗浄装置。
6. 【請求項６】 複数の被処理基板を並べた状態で処理槽
   内の洗浄処理液に浸漬する工程と、 次いで前記被処理基板の下部側において被処理基板の配
   列方向に沿って複数形成された吹き出し口からリンス液
   を吹き出しこれにより処理槽内の洗浄処理液をリンス液
   で置換して洗浄処理液の濃度を低下させる工程と、 その後前記処理槽内の底部より整流手段を通じて上方側
   にリンス液を供給し、これにより処理槽内の洗浄処理液
   をリンス液で置換する工程と、を含むことを特徴とする
   洗浄方法。