KR101155618B1 - 처리액 저장 탱크 - Google Patents

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이상진
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세메스 주식회사
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    • B05B1/00Nozzles, spray heads or other outlets, with or without auxiliary devices such as valves, heating means
    • B05B1/02Nozzles, spray heads or other outlets, with or without auxiliary devices such as valves, heating means designed to produce a jet, spray, or other discharge of particular shape or nature, e.g. in single drops, or having an outlet of particular shape
    • B05B1/04Nozzles, spray heads or other outlets, with or without auxiliary devices such as valves, heating means designed to produce a jet, spray, or other discharge of particular shape or nature, e.g. in single drops, or having an outlet of particular shape in flat form, e.g. fan-like, sheet-like
    • B05B1/044Slits, i.e. narrow openings defined by two straight and parallel lips; Elongated outlets for producing very wide discharges, e.g. fluid curtains

Abstract

기판의 처리 공정에서 사용되는 처리액 저장 탱크는 처리액의 저장을 위한 용기와, 상기 용기 내부로 연장하며 기판 처리 장치로부터 회수된 처리액을 상기 용기 내부에 저장하기 위한 적어도 하나의 드레인 배관과, 상기 용기 내부의 처리액을 상기 기판 처리 장치로 공급하기 위한 펌프와 연결된 적어도 하나의 처리액 공급 포트와, 상기 드레인 배관의 단부에 장착되며 상기 처리액이 상기 드레인 배관으로부터 상기 용기 내부로 넓게 확산되도록 상기 드레인 배관의 중심축에 대하여 소정의 확산각을 갖는 다수의 개구들이 형성된 확산 노즐을 포함할 수 있다.

Description

처리액 저장 탱크 {Tank for storing process liquid}
본 발명은 처리액 저장 탱크에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 평판 디스플레이 장치의 제조를 위한 기판의 처리 공정에서 처리액의 공급 및 회수에 사용되는 처리액 저장 탱크에 관한 것이다.
일반적으로, 반도체 장치의 제조 또는 액정 디스플레이 장치, 플라즈마 디스플레이 장치 등과 같은 평판 디스플레이 장치의 제조를 위하여 반도체 기판 또는 유리 기판에 대한 다양한 처리 공정들이 순차적으로 또는 반복적으로 수행될 수 있다.
특히, 평판 디스플레이 장치의 제조를 위한 공정에서 대면적 유리 기판에 대한 식각, 스트립, 세정 및 건조 공정들은 직렬로 연결된 다수의 처리조들 내에서 다양한 처리액들을 이용하여 수행될 수 있다. 이 경우, 상기 기판은 상기 처리조들 내에서 다수의 롤러들을 포함하는 이송 장치에 의해 수평 방향으로 이송될 수 있으며, 상기 기판의 이송 중에 상기 기판 상으로 다양한 처리액들이 공급될 수 있다.
상기 공정들에서 사용된 식각액, 스트립 용액, 세정액, 린스액 등과 같은 처리액은 재사용을 위하여 처리액 저장 탱크로 일부 회수될 수 있다. 예를 들면, 상 기 처리액은 처리조로부터 드레인 배관을 통해 처리액 저장 탱크로 회수될 수 있으며, 상기 처리액 저장 탱크로부터 펌프를 통하여 상기 처리조로 재공급될 수 있다.
상기 처리액 탱크 내부에는 상기 처리조로부터 연장된 드레인 배관의 단부가 배치될 수 있으며, 상기 처리액 저장 탱크의 일 측벽에는 상기 펌프와 연결되는 다수의 포트들이 구비될 수 있다. 이 경우, 상기 처리액 저장 탱크 내부에서는 상기 드레인 배관의 단부가 배치된 방향과 상기 펌프와 연결된 처리액 공급 포트들이 배치된 방향에 따라 상기 처리액의 일정한 흐름이 발생될 수 있다.
상기와 같이 처리액 저장 탱크 내에서 처리액이 항상 일정한 흐름을 유지하는 경우, 상기 회수된 처리액과 상기 처리액 저장 탱크로 새로이 공급되는 처리액이 서로 충분히 혼합되지 않을 수 있으며, 이에 따라 처리액의 오염도가 상기 새로운 처리액의 보충 시점에 따라 변화될 수 있으며, 또한 상기 기판 상으로 공급되는 처리액의 온도가 불균일해질 수 있다.
또한, 항상 일정한 방향으로 처리액이 흐르기 때문에 상기 처리액 저장 탱크의 내부에서 특정 지역이 이물질이 누적될 수 있으며, 상기 처리액 저장 탱크 내부로 새로이 처리액이 보충되는 경우에 발생되는 흐름의 변화에 의해 상기 누적된 이물질이 부유될 수 있고, 이에 따라 상기 처리액 저장 탱크의 내부에서 오염도가 급격히 상승될 수 있다.
상기 오염도가 상승된 처리액이 기판 상으로 공급되는 경우, 이는 상기 기판 처리 공정에서 상기 기판의 표면을 손상시키거나 공정 품질을 저하시키는 원인이 될 수 있다. 또한, 상기 이물질에 의해 상기 기판 상으로 처리액을 공급하기 위한 노즐 또는 처리액 나이프의 유로 면적이 변화될 수 있으며, 이에 따라 상기 기판 상으로 공급되는 처리액의 유량이 변화될 수 있다.
본 발명의 실시예들은 기판 처리 장치에서 회수된 처리액이 처리액 저장 탱크 내에서 충분히 확산될 수 있도록 하는데 그 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예들에 따른 처리액 저장 탱크는 처리액의 저장을 위한 용기와, 상기 용기 내부로 연장하며 기판 처리 장치로부터 회수된 처리액을 상기 용기 내부에 저장하기 위한 적어도 하나의 드레인 배관과, 상기 용기 내부의 처리액을 상기 기판 처리 장치로 공급하기 위한 펌프와 연결된 적어도 하나의 처리액 공급 포트와, 상기 드레인 배관의 단부에 장착되며 상기 처리액이 상기 드레인 배관으로부터 상기 용기 내부로 넓게 확산되도록 상기 드레인 배관의 중심축에 대하여 소정의 확산각을 갖는 다수의 개구들이 형성된 확산 노즐을 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예들에 따르면, 상기 확산 노즐의 개구들은 상기 확산 노즐의 중심으로부터 외측으로 갈수록 증가하는 확산각을 가질 수 있다.
본 발명의 실시예들에 따르면, 상기 확산 노즐의 개구들은 상기 확산 노즐의 중심을 기준으로 방사상으로 배치되며 반경 방향으로 점차 증가하는 확산각을 갖는 다수의 홀들일 수 있다.
본 발명의 실시예들에 따르면, 상기 확산 노즐의 개구들은 제1 방향으로 서로 평행하게 연장하며 상기 확산 노즐의 중심으로부터 상기 제1 방향에 대하여 수 직하는 제2 방향으로 점차 증가하는 확산각을 갖는 다수의 슬릿들일 수 있다.
본 발명의 실시예들에 따르면, 상기 처리액 저장 탱크는 상기 처리액 공급 포트에 장착되며 상기 처리액 공급 포트의 주위로부터 상기 처리액을 흡입하기 위하여 상기 처리액 공급 포트의 중심축에 대하여 소정의 흡입각을 갖는 다수의 개구들이 형성된 흡입 노즐을 더 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예들에 따르면, 상기 확산 노즐의 개구들은 제1 방향으로 서로 평행하게 연장하며 상기 확산 노즐의 중심으로부터 상기 제1 방향에 대하여 수직하는 제2 방향으로 점차 증가하는 확산각을 갖는 다수의 슬릿들일 수 있으며, 상기 흡입 노즐의 개구들은 상기 제2 방향으로 서로 평행하게 연장하며 상기 흡입 노즐의 중심으로부터 상기 제1 방향으로 점차 증가하는 흡입각을 갖는 다수의 슬릿들일 수 있다.
본 발명의 실시예들에 따르면, 상기 용기 내에는 하나의 드레인 배관과 하나의 확산 노즐이 배치될 수 있으며, 한 쌍의 처리액 공급 포트들과 한 쌍의 흡입 노즐들이 상기 확산 노즐과 마주하며 상기 드레인 배관의 중심축으로부터 소정 거리 이격되도록 상기 용기의 측벽에 배치될 수 있다.
상술한 바와 같은 본 발명의 실시예들에 따르면, 처리액 저장 용기 내에는 드레인 배관에 설치되는 확산 노즐과 처리액 공급 포트에 설치되는 흡입 노즐이 배치될 수 있다. 상기 확산 노즐과 흡입 노즐은 처리액의 흐름이 넓게 분산되도록 확산각과 흡입각을 각각 갖는 개구들을 가질 수 있으며, 이에 따라 상기 저장 용기 내에서 상기 확산 노즐을 통해 회수되는 처리액과 기존에 저장되어 있는 처리액과의 혼합이 균일하게 이루어질 수 있다.
결과적으로, 상기 저장 용기 내에서 상기 처리액의 온도 분포가 균일하게 될 수 있으며, 또한 특정 영역에서 이물질이 축적되는 것이 감소 또는 방지될 수 있다. 더 나아가, 상기와 같이 온도 분포와 이물질에 의한 오염도가 감소된 처리액을 이용하는 기판 처리 공정에서 공정 불량이 크게 감소될 수 있다.
이하, 본 발명은 본 발명의 실시예들을 보여주는 첨부 도면들을 참조하여 더욱 상세하게 설명된다. 그러나, 본 발명은 하기에서 설명되는 실시예들에 한정된 바와 같이 구성되어야만 하는 것은 아니며 이와 다른 여러 가지 형태로 구체화될 수 있을 것이다. 하기의 실시예들은 본 발명이 온전히 완성될 수 있도록 하기 위하여 제공된다기보다는 본 발명의 기술 분야에서 숙련된 당업자들에게 본 발명의 범위를 충분히 전달하기 위하여 제공된다.
하나의 요소가 다른 하나의 요소 또는 층 상에 배치되는 또는 연결되는 것으로서 설명되는 경우 상기 요소는 상기 다른 하나의 요소 상에 직접적으로 배치되거나 연결될 수도 있으며, 다른 요소들 또는 층들이 이들 사이에 게재될 수도 있다. 이와 다르게, 하나의 요소가 다른 하나의 요소 상에 직접적으로 배치되거나 연결되는 것으로서 설명되는 경우, 그들 사이에는 또 다른 요소가 있을 수 없다. 다양한 요소들, 조성들, 영역들, 층들 및/또는 부분들과 같은 다양한 항목들을 설명하기 위하여 제1, 제2, 제3 등의 용어들이 사용될 수 있으나, 상기 항목들은 이들 용어 들에 의하여 한정되지는 않을 것이다.
하기에서 사용된 전문 용어는 단지 특정 실시예들을 설명하기 위한 목적으로 사용되는 것이며, 본 발명을 한정하기 위한 것은 아니다. 또한, 달리 한정되지 않는 이상, 기술 및 과학 용어들을 포함하는 모든 용어들은 본 발명의 기술 분야에서 통상적인 지식을 갖는 당업자에게 이해될 수 있는 동일한 의미를 갖는다. 통상적인 사전들에서 한정되는 것들과 같은 상기 용어들은 관련 기술과 본 발명의 설명의 문맥에서 그들의 의미와 일치하는 의미를 갖는 것으로 해석될 것이며, 명확히 한정되지 않는 한 이상적으로 또는 과도하게 외형적인 직감으로 해석되지는 않을 것이다.
본 발명의 실시예들은 본 발명의 이상적인 실시예들의 개략적인 도해들인 단면 도해들을 참조하여 설명된다. 이에 따라, 상기 도해들의 형상들로부터의 변화들, 예를 들면, 제조 방법들 및/또는 허용 오차들의 변화들은 예상될 수 있는 것들이다. 따라서, 본 발명의 실시예들은 도해로서 설명된 영역들의 특정 형상들에 한정된 바대로 설명되어지는 것은 아니라 형상들에서의 편차들을 포함하는 것이며, 도면들에 설명된 영역들은 전적으로 개략적인 것이며 이들의 형상들은 영역의 정확한 형상을 설명하기 위한 것이 아니며 또한 본 발명의 범위를 한정하고자 하는 것도 아니다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 처리액 저장 탱크를 설명하기 위한 개략적인 구성도이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 처리액 저장 탱크(100)는 반도체 장치의 제조 또는 평판 디스플레이 장치의 제조를 위한 기판 처리 장치에서 처리액의 회수 및 공급을 위하여 사용될 수 있다. 특히, 액정 디스플레이 장치 또는 플라즈마 디스플레이 장치 등과 같은 평판 디스플레이 장치의 제조를 위하여 유리 기판(2)에 대하여 식각, 스트립, 연마, 세정, 등과 같이 액상 처리 물질을 이용하는 기판 처리 공정을 수행하기 위하여 사용될 수 있다.
예를 들면, 상기 기판 처리 공정에서 사용되는 식각액, 스트립 용액, 세정액, 탈이온수 등과 같은 처리액은 사용된 후 일부 또는 전부가 회수되어 재사용될 수 있다. 상기 처리액은 상기 기판(2)의 처리 공정이 수행되는 처리조(12)로부터 연장하는 하나 또는 다수의 드레인 배관(18)을 통해 처리액 저장 탱크(100)로 회수될 수 있으며, 상기 처리액 저장 탱크(100)와 연결된 펌프(20)에 의해 상기 처리조(12)로 재공급될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 기판(2)에 대한 처리 공정을 수행하기 위한 장치(10)는 상기 처리 공정이 수행되는 공간을 제공하는 처리조(12)와 상기 처리조(12) 내부에서 상기 기판(2)을 이송하기 위한 이송부 및 상기 처리액을 기판(2) 상으로 공급하기 위한 노즐(14)을 포함할 수 있다.
도시된 바에 의하면, 하나의 처리조(12)가 사용되고 있으나, 상기 처리조(12)와 유사한 구조를 갖는 다수의 처리조들이 직렬로 연결될 수 있으며, 이에 의해 상기 기판(2)에 대한 다수의 처리 공정들이 인라인 방식으로 수행될 수 있다.
상기 이송부는 상기 기판(2)을 지지하며 수평 방향으로 이송하기 위한 다수의 롤러들(16)을 포함할 수 있다. 도시되지는 않았으나, 상기 이송부는 상기 롤러들(16)이 장착되는 다수의 이송축들과 상기 이송축들에 연결되어 구동력을 제공하 는 구동 모터 및 동력 전달 장치를 포함할 수 있다.
또한 도시된 바에 의하면 상기 처리액을 기판(2) 상으로 공급하기 위한 다수의 노즐들(14)이 구비되어 있으나, 처리 공정에 따라 하나 또는 다수의 약액 나이프가 사용될 수도 있다.
상기 기판 처리 장치(10)는 상기 처리액을 공급하고 사용된 처리액을 회수하기 위한 처리액 저장 탱크(100)와 연결될 수 있다. 상기 처리액 저장 탱크(100)는 처리액 공급 배관(22)을 통해 펌프(20)와 연결될 수 있으며 상기 처리액은 상기 펌프(20)에 의해 상기 기판(2) 상으로 공급될 수 있다.
사용된 처리액은 처리액 배출 배관(18)을 통해 배출될 수 있다. 여기서, 상기 사용된 처리액의 일부는 상기 처리액 배출 배관(18)에 연결된 드레인 배관(104)을 통해 상기 처리액 저장 탱크(100)로 회수될 수 있다. 그러나, 경우에 따라서는 사용된 처리액 전체가 상기 처리액 저장 탱크(100)로 회수될 수도 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 처리액 저장 탱크(100)는 처리액의 저장을 위한 용기(102)와, 상기 저장 용기(102) 내부로 연장하며 기판 처리 장치(10)로부터 회수된 처리액을 상기 저장 용기(102) 내부에 저장하기 위한 적어도 하나의 드레인 배관(104)과, 상기 저장 용기(102) 내부의 처리액을 상기 기판 처리 장치(100)로 공급하기 위한 펌프(20)와 연결된 적어도 하나의 처리액 공급 포트(106)와, 상기 드레인 배관(104)의 단부에 장착되며 상기 처리액이 상기 드레인 배관(104)으로부터 상기 저장 용기(102) 내부로 넓게 확산되도록 상기 드레인 배관(104)의 중심축에 대하여 소정의 확산각을 갖는 다수의 개구들이 형성된 확산 노 즐(108)을 포함할 수 있다.
상기 드레인 배관(104)은 상기 저장 용기(102)의 외부로 연장할 수 있으며, 상기 처리조(12)와 연결된 처리액 배출 배관(18)에 연결될 수 있다. 도시된 바에 의하면, 하나의 드레인 배관(104)이 사용되고 있으나, 다수의 드레인 배관들이 상기 저장 용기(102)의 내부로 연장될 수도 있다.
도 2는 도 1에 도시된 확산 노즐을 설명하기 위한 개략적인 단면도이며, 도 3은 도 2에 도시된 확산 노즐을 설명하기 위한 개략적인 측면도이다.
도 2 및 도 3을 참조하면, 상기 확산 노즐(108)은 다수의 홀들(108A)을 가질 수 있으며, 상기 홀들(108A)이 상기 개구들로서 기능할 수 있다. 상기 홀들(108A)은 상기 확산 노즐(108)의 중심을 기준으로 방사상으로 배치될 수 있으며, 상기 중심으로부터 외측으로 즉 반경 방향으로 점차 증가하는 확산각을 가질 수 있다.
결과적으로, 상기 회수된 처리액은 상기 저장 용기(102) 내부에서 넓게 확산될 수 있으며, 이에 따라 상기 회수된 처리액과 기존에 저장되어 있는 처리액이 용이하게 혼합될 수 있다. 또한, 상기와 같이 회수된 처리액이 넓게 확산되므로 상기 저장 용기(102) 내에서 이물질이 특정 부위에 축적되는 것이 감소 또는 방지될 수 있으며, 또한 상기 저장 용기(102)의 내부의 처리액 온도가 균일하게 될 수 있다.
도 4는 도 1에 도시된 처리액 저장 탱크를 설명하기 위한 개략적인 평면도이다.
도 1 및 도 4를 참조하면, 상기 처리액 저장 탱크(102)는 상기 펌프(20)와 연결된 처리액 공급 포트(106)를 포함할 수 있다. 상기 처리액 공급 포트(106)는 상기 확산 노즐(108)과 마주하는 상기 저장 용기(102)의 일 측벽에 구비될 수 있다. 도시된 바와 같이 상기 처리액 저장 탱크(100)는 두 개의 처리액 공급 포트(106)를 가질 수 있다. 특히, 상기 저장 용기(102)의 측벽에는 상기 확산 노즐(108)과 마주하며 상기 드레인 배관(104)의 중심축으로부터 수평 방향으로 소정 거리 이격되도록 한 쌍의 공급 포트들(106)과 한 쌍의 흡입 노즐들(110)이 배치될 수 있다. 그러나, 상기 처리액 공급 포트(106)와 흡입 노즐(110)의 수량은 본 발명의 범위를 제한하지 않으며 필요에 따라 다양하게 변경될 수 있다.
상기 처리액 공급 포트(106)에는 상기 처리액 공급 포트(106)의 주위로부터 상기 처리액을 흡입하기 위한 다수의 개구들(미도시)이 형성된 흡입 노즐(110)이 장착될 수 있다. 상기 흡입 노즐(110)은 상기 처리액이 흡입되는 영역을 확장하기 위하여 상기 처리액 공급 포트(106)의 중심축에 대하여 소정의 흡입각을 가질 수 있다. 이는 상기 확산 노즐(108)의 경우와 유사하게 상기 흡입 노즐(110)을 향한 상기 처리액의 흐름 방향을 넓게 분산시킴으로서 상기 저장 용기(102) 내부에서 상기 처리액의 흐름이 하나로 형성되지 않게 하기 위함이다.
한편, 도시되지는 않았으나, 상기 흡입 노즐(110)의 개구들은 도 2 및 도 3에 도시된 확산 노즐(108)의 홀들과 동일한 구조를 가질 수 있다. 따라서, 상기 흡입 노즐(110)의 홀들에 대한 추가적인 상세 설명은 생략하기로 한다.
결과적으로, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 회수된 처리액은 상기 확산 노즐(108)에 의해 상기 저장 용기(102) 내부에서 넓게 확산될 수 있으며, 또한 상기 흡입 노즐(110)과 인접한 영역의 처리액의 흐름은 상기 흡입 노즐(110)에 의 해 넓게 분산될 수 있으므로, 상기 저장 용기(102) 내에서 상기 회수된 처리액과 기존의 저장된 처리액이 균일하게 혼합될 수 있다. 또한, 이에 따라 상기 저장 용기(102) 내의 처리액 온도 분포가 일정하게 될 수 있으며, 특정 영역에 이물질이 축적되는 것이 감소 또는 방지될 수 있다.
도 5는 도 1에 도시된 확산 노즐의 다른 예를 설명하기 위한 개략적인 측면도이다.
도 5를 참조하면, 도시된 확산 노즐(120)은 상기 회수된 처리액을 넓게 분산시키기 위하여 다수의 개구들을 가질 수 있다. 특히, 상기 개구들은 제1 방향, 예를 들면, 도시된 바와 같이 수직 방향으로 서로 평행하게 연장하며, 상기 회수된 처리액을 넓게 분산시키기 위하여 상기 확산 노즐(120)의 중심으로부터 상기 제1 방향에 대하여 수직하는 제2 방향, 예를 들면, 수평 방향으로 점차 증가하는 확산각을 갖는 다수의 슬릿들(120A)일 수 있다.
상기와 같이 다수의 슬릿들(120A)을 갖는 확산 노즐(120)이 사용되는 경우, 상기 저장 용기(102)의 처리액 공급 포트(106)에는 상기 확산 노즐(120)과 동일한 구조를 갖는 흡입 노즐(122; 도 6 및 도 7 참조)이 장착될 수 있다.
도 6은 도 5에 도시된 확산 노즐이 사용되는 경우 처리액의 흐름을 설명하기 위한 개략적인 정면도이며, 도 7은 도 5에 도시된 확산 노즐이 사용되는 경우 처리액의 흐름을 설명하기 위한 개략적인 평면도이다.
도 6 및 도 7을 참조하면, 흡입 노즐(122)은 도 5에 도시된 확산 노즐(120)과 동일한 구조를 가질 수 있다. 이때, 상기 흡입 노즐(122)은 상기 확산 노 즐(120)의 슬릿들(120A)의 연장 방향에 수직하는 방향으로 연장하는 다수의 노즐들(미도시)을 가질 수 있다. 즉, 상기 흡입 노즐(122)은 상기 제2 방향으로 연장하는 슬릿들을 가지며 상기 흡입 노즐(122)의 중심으로부터 상기 제1 방향으로 점차 증가하는 흡입각을 가질 수 있다.
상기와 같이 확산 노즐(120)과 흡입 노즐(122) 각각의 슬릿들이 서로 직교하도록 상기 확산 노즐(120)과 흡입 노즐(122)이 배치되므로, 도 6 및 도 7에 도시된 바와 같이 상기 확산 노즐(120)에 인접하는 영역과 상기 흡입 노즐(122)에 인접하는 영역에서의 처리액 흐름이 서로 직교할 수 있다. 따라서, 상기 저장 용기(102) 내에서 상기 처리액의 혼합이 더욱 균일하게 이루어질 수 있으며, 이에 따라 상기 저장 용기(102) 내에서 처리액의 온도 분포가 더욱 균일하게 될 수 있으며, 특정 영역에서의 이물질 축적이 더욱 감소될 수 있다.
한편, 도시된 바와 다르게, 상기 확산 노즐(120)의 슬릿들(120A)이 수평 방향으로 연장하도록 배치되고, 상기 흡입 노즐(122)의 슬릿들이 수직 방향으로 연장하도록 배치될 수도 있다.
상술한 바와 같은 본 발명의 실시예들에 따르면, 처리액 저장 용기 내에는 드레인 배관에 설치되는 확산 노즐과 처리액 공급 포트에 설치되는 흡입 노즐이 배치될 수 있다. 상기 확산 노즐과 흡입 노즐은 처리액의 흐름이 넓게 분산되도록 확산각과 흡입각을 각각 갖는 개구들을 가질 수 있으며, 이에 따라 상기 저장 용기 내에서 상기 확산 노즐을 통해 회수되는 처리액과 기존에 저장되어 있는 처리액과 의 혼합이 균일하게 이루어질 수 있다.
결과적으로, 상기 저장 용기 내에서 상기 처리액의 온도 분포가 균일하게 될 수 있으며, 또한 특정 영역에서 이물질이 축적되는 것이 감소 또는 방지될 수 있다. 더 나아가, 상기와 같이 온도 분포와 이물질에 의한 오염도가 감소된 처리액을 이용하는 기판 처리 공정에서 공정 불량이 크게 감소될 수 있다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 처리액 저장 탱크를 설명하기 위한 개략적인 구성도이다.
도 2는 도 1에 도시된 확산 노즐을 설명하기 위한 개략적인 단면도이다.
도 3은 도 2에 도시된 확산 노즐을 설명하기 위한 개략적인 측면도이다.
도 4는 도 1에 도시된 처리액 저장 탱크를 설명하기 위한 개략적인 평면도이다.
도 5는 도 1에 도시된 확산 노즐의 다른 예를 설명하기 위한 개략적인 측면도이다.
도 6은 도 5에 도시된 확산 노즐이 사용되는 경우 처리액의 흐름을 설명하기 위한 개략적인 정면도이다.
도 7은 도 5에 도시된 확산 노즐이 사용되는 경우 처리액의 흐름을 설명하기 위한 개략적인 평면도이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *
2 : 기판 10 : 기판 처리 장치
12 : 처리조 14 : 노즐
16 : 롤러 18 : 처리액 배출 라인
20 : 펌프 22 : 처리액 공급 라인
100 : 처리액 저장 탱크 102 : 저장 용기
104 : 드레인 라인 106 : 처리액 공급 포트
108, 120 : 확산 노즐 110, 122 : 흡입 노즐

Claims (7)

  1. 처리액의 저장을 위한 용기;
    상기 용기 내부로 연장하며 기판 처리 장치로부터 회수된 처리액을 상기 용기 내부에 저장하기 위한 적어도 하나의 드레인 배관;
    상기 용기 내부의 처리액을 상기 기판 처리 장치로 공급하기 위한 펌프와 연결된 적어도 하나의 처리액 공급 포트;
    상기 드레인 배관의 단부에 장착되며 상기 처리액이 상기 드레인 배관으로부터 상기 용기 내부로 넓게 확산되도록 상기 드레인 배관의 중심축에 대하여 소정의 확산각을 갖는 다수의 개구들이 형성된 확산 노즐; 및
    상기 처리액 공급 포트에 장착되며 상기 처리액 공급 포트의 주위로부터 상기 처리액을 흡입하기 위하여 상기 처리액 공급 포트의 중심축에 대하여 소정의 흡입각을 갖는 다수의 개구들이 형성된 흡입 노즐을 포함하되,
    상기 흡입 노즐의 개구들은 제2 방향으로 서로 평행하게 연장하며 상기 흡입 노즐의 중심으로부터 상기 제2 방향에 수직하는 제1 방향으로 점차 증가하는 흡입각을 갖는 다수의 슬릿들인 것을 특징으로 하는 처리액 저장 탱크.
  2. 제1항에 있어서, 상기 확산 노즐의 개구들은 상기 확산 노즐의 중심으로부터 외측으로 갈수록 증가하는 확산각을 갖는 것을 특징으로 하는 처리액 저장 탱크.
  3. 제1항에 있어서, 상기 확산 노즐의 개구들은 상기 확산 노즐의 중심을 기준으로 방사상으로 배치되며 반경 방향으로 점차 증가하는 확산각을 갖는 다수의 홀들인 것을 특징으로 하는 처리액 저장 탱크.
  4. 제1항에 있어서, 상기 확산 노즐의 개구들은 제1 방향으로 서로 평행하게 연 장하며 상기 확산 노즐의 중심으로부터 상기 제1 방향에 대하여 수직하는 제2 방향으로 점차 증가하는 확산각을 갖는 다수의 슬릿들인 것을 특징으로 하는 처리액 저장 탱크.
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 제1항에 있어서, 상기 용기 내에는 하나의 드레인 배관과 하나의 확산 노즐이 배치되며, 한 쌍의 처리액 공급 포트들과 한 쌍의 흡입 노즐들이 상기 확산 노즐과 마주하며 상기 드레인 배관의 중심축으로부터 소정 거리 이격되도록 상기 용기의 측벽에 배치되는 것을 특징으로 하는 처리액 저장 탱크.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100512089B1 (ko) 2005-03-11 2005-09-02 구흥회 고속 고효율 폭기장치
JP2007224901A (ja) * 2006-02-23 2007-09-06 Levitronix Llc 回転ポンプ、回転ポンプを有する流体ミキサ、及び流体処理のための回転ポンプの利用法
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