KR101665537B1 - 유리기판용 식각 시스템 및 이를 이용한 식각방법 - Google Patents

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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching

Abstract

본 발명은 유리기판들의 반복적인 에칭 공정에도 약액의 오염을 효과적으로 방지하는 동시에 약액의 교체시간을 단축시킬 수 있는 유리기판용 식각 시스템 및 이를 이용한 식각방법에 관한 것이다.
본 발명에 따른 유리기판용 식각 시스템 및 이를 이용한 식각방법은 메인 탱크와 필터 프레스 사이에 제1,2보조 탱크를 구비함으로써, 메인 탱크에 저장된 오염된 약액을 제1보조 탱크에 공급하고, 제1보조탱크에 저장된 오염된 약액을 필터 프레스를 통과하면서 이물질을 걸러준 다음, 깨끗해진 약액을 제2보조 탱크에 저장하고, 제2보조 탱크에 저장된 깨끗한 약액을 빈 메인 탱크로 공급할 수 있다.

Description

유리기판용 식각 시스템 및 이를 이용한 식각방법 {Etching system and method of using it to etch the glass substrate}
본 발명은 유리기판들의 반복적인 에칭 공정에도 약액의 오염을 효과적으로 방지하는 동시에 약액의 교체시간을 단축시킬 수 있는 유리기판용 식각 시스템 및 이를 이용한 식각방법에 관한 것이다.
일반적으로 유리기판은 LCD(Liquid Crystal Display), PDP, OLED(Organic Light Emitting Diode) 등과 같은 평판 디스플레이는, 그 구성요소로서 실리콘 산화물이 주성분으로 이루어진 유리기판을 포함한다.
유리기판의 경우에는, 평판 디스플레이에서 차지하는 중량이 매우 크기 때문에, 평판 디스플레이의 경량·박형화의 일환으로 유리기판의 중량 및 두께를 감소시키는 연구가 활발히 이루어지고 있다.
디스플레이 개발 초기에는 아주 얇은 슬림 패널이 요구되지 않아 기계 연마법을 많이 사용하였으나, 최근에는 초슬림 패널이 요구됨에 따라 생산성이 우수한 화학적 습식 에칭법이 많이 사용된다.
이와 같은 화학적 습식 에칭법은 에칭액의 교반 완료 후 에칭액의 주요 구성 성분인 불소산(HF)과 유리기판의 주요 성분인 이산화규소(SiO2) 사이에 화학 반응을 이용한다. 따라서, 화학적 습식 에칭법은 유리기판을 에칭액에 담근 상태에서 에어 버블을 형성시키는 디핑법, 유리기판에 에칭액을 분사시키는 스프레이법, 유리기판을 에칭액에 담근 상태에서 에칭액의 흐름을 강력하게 발생시키는 젯플로우법이 있다.
그런데, 디핑법과 젯플로우법은 한꺼번에 많은 유리기판을 에칭시킬 수 있지만, 에칭액이 많이 낭비되는 문제점이 있다. 따라서, 스프레이법은 소량의 에칭액으로도 유리기판을 에칭시킬 수 있기 때문에 많이 사용된다.
도 1은 종래에 따른 유리기판용 식각시스템의 약액 흐름이 도시된 도면이다.
종래의 화학적 습식 에칭법을 적용한 유리기판용 식각시스템은 도 1에 도시된 바와 같이 유리기판들이 에칭되는 식각기(1)와, 상기 식각기(1)로 약액을 공급하는 약액탱크(2)와, 상기 약액탱크(2)에 저장된 약액으로부터 이물질을 걸러주는 필터 프레스(filter press : 3)로 구성된다.
따라서, 상기 식각기(1)와 약액탱크(2) 사이에 약액이 순환되는 동안, 상기 식각기 내부에서 유리기판들의 에칭이 진행되고, 에칭 부유물인 이물질에 의해 약액이 오염된다.
이후, 에칭 공정이 완료되면, 상기 약액탱크(2)에 저장된 오염된 약액을 상기 필터 프레스(3)로 공급하여 이물질을 걸러준 다음, 깨끗해진 약액을 상기 약액탱크로 회수한다.
그러나, 종래 기술에 따르면, 약액탱크 내부에 잔류하는 오염된 약액과 필터 프레스를 통과한 깨끗한 약액이 혼합되고, 에칭 공정이 진행될수록 약액의 오염도가 더욱 높아지기 때문에 에칭 정밀도를 떨어뜨리고, 약액의 빈번한 교체로 약액 사용량이 늘어나는 문제점이 있다.
나아가, 약액에 포함된 이물질이 슬러지 형태로 약액탱크 내부에 부착되고, 직접 작업자가 약액탱크 내부로 들어가서 슬러지를 녹이는 형태를 약품을 이용하여 청소를 진행하기 때문에 약액탱크를 청소하기 번거롭고, 에칭 공정 사이에 휴지 시간이 길어짐에 따라 생산 효율을 떨어뜨리는 문제점이 있다.
본 발명은 상기한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 유리기판들의 반복적인 에칭 공정에도 약액의 오염을 효과적으로 방지하는 동시에 약액의 교체시간을 단축시킬 수 있는 유리기판용 식각 시스템 및 이를 이용한 식각방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
본 발명은 복수개의 유리기판이 장착된 카세트; 상기 카세트가 투입/인출되고, 상기 유리기판들을 에칭시키는 약액을 분사하는 복수개의 노즐이 구비된 식각기; 상기 식각기로 순환되는 약액을 저장하는 메인 탱크; 상기 메인 탱크로 회수된 약액으로부터 부유물을 걸러주는 필터 프레스; 상기 메인 탱크와 필터 프레스 사이에 구비되고, 약액을 임시 저장하는 적어도 하나 이상의 보조 탱크; 및 상기 식각기와 메인 탱크와 보조 탱크 및 필터 프레스 사이에 각각 구비되고, 약액을 이동시키는 복수개의 펌프 및 밸브;를 더 포함하는 유리기판용 식각 시스템을 제공한다.
또한, 본 발명은 메인 탱크에 저장된 약액이 식각기로 공급되고, 상기 식각기에서 분사된 약액이 유리기판들을 에칭한 다음, 상기 메인 탱크로 회수되는 과정을 반복하는 유리기판용 식각방법에 있어서, 상기 유리기판들이 에칭되기 전, 제2보조 탱크에 저장된 깨끗한 약액을 상기 메인 탱크로 공급하는 제1단계; 상기 유리기판들이 에칭되는 동안, 제1보조 탱크에 저장된 오염된 약액을 상기 필터 프레스를 통과시켜 걸러준 다음, 깨끗해진 약액을 상기 제2보조탱크로 공급하는 제2단계; 및 상기 유리기판들이 에칭된 후, 상기 메인 탱크에 저장된 오염된 약액을 상기 제1보조 탱크로 공급하는 제3단계;를 포함하고, 상기 제1,2,3단계는 상기 유리기판들의 에칭 공정마다 순차적으로 반복 수행되는 유리기판용 식각방법을 제공한다.
본 발명에 따른 유리기판용 식각 시스템 및 이를 이용한 식각방법은 메인 탱크와 필터 프레스 사이에 제1,2보조 탱크를 구비함으로써, 메인 탱크에 저장된 오염된 약액을 제1보조 탱크에 공급하고, 제1보조탱크에 저장된 오염된 약액을 필터 프레스를 통과하면서 이물질을 걸러준 다음, 깨끗해진 약액을 제2보조 탱크에 저장하고, 제2보조 탱크에 저장된 깨끗한 약액을 빈 메인 탱크로 공급할 수 있다.
따라서, 메인 탱크 내부에 오염된 약액이 완전히 비워진 후, 깨끗해진 약액이 빈 메인 탱크로 공급되고, 에칭 공정이 반복되는 중에 약액을 자동으로 정화시키기 때문에 약액을 반복적으로 사용하더라도 에칭 정밀도를 유지할 수 있고, 약액의 교체 주기를 늘릴 수 있어 약액 사용량을 줄일 수 있다.
나아가, 에칭 공정이 반복되더라도 약액의 오염도가 낮아 메인 탱크의 오염을 방지하고, 일부 슬러지가 메인 탱크 내부에 부착되더라도 이를 녹일 수 있는 별도의 약액을 순환시킴으로써, 메인 탱크의 청소를 자동화할 수 있기 때문에 에칭 공정 사이에 유지 시간을 단축할 수 있어 생산 효율을 높일 수 있다.
도 1은 종래에 따른 유리기판용 식각시스템의 약액 흐름이 도시된 도면.
도 2는 본 발명의 유리기판용 식각시스템이 도시된 도면.
도 3은 도 2에 적용된 메인 탱크의 일예가 도시된 도면.
도 4 및 도 5는 도 2에 적용된 제1,2보조 탱크의 일예가 각각 도시된 도면.
도 6은 본 발명의 유리기판용 식각방법이 카세트 이동을 기준으로 도시된 순서도.
도 7은 본 발명의 유리기판용 식각방법이 약액 이동을 기준으로 도시된 순서도.
이하에서는, 본 실시예에 대하여 첨부되는 도면을 참조하여 상세하게 살펴보도록 한다. 다만, 본 실시예가 개시하는 사항으로부터 본 실시예가 갖는 발명의 사상의 범위가 정해질 수 있을 것이며, 본 실시예가 갖는 발명의 사상은 제안되는 실시예에 대하여 구성요소의 추가, 삭제, 변경 등의 실시변형을 포함한다고 할 것이다.
도 2는 본 발명의 유리기판용 식각시스템이 도시된 도면이다.
본 발명의 유리기판용 식각시스템은 도 2에 도시된 바와 같이 식각기(110)와, 메인 탱크(120)와, 필터 프레스(130)와, 제1,2보조 탱크(140,150)와, 복수개의 펌프(P1,P2,P3,P4)와, 복수개의 밸브(V1,V2,V3,V4,V5,V6,V7)를 포함하도록 구성된다.
상기 식각기(110)는 여러 개의 유리기판이 장착된 카세트(C)가 출입될 수 있고, 상기 카세트(C)에 안착된 유리기판들에 물 또는 약액을 분사시킬 수 있도록 구성되는데, 한정되지 아니한다.
실시예에서, 상기 식각기(110)의 내부에는 린스 구간(111)과, 에칭 구간(112)이 구비되고, 상기 식각기(110)의 외부에는 로딩 구간이 구비된다. 이때, 상기 린스 구간(111)과 에칭 구간(112)은 상측에 소정의 분사 노즐이 구비되고, 하측에 상기 카세트(C)를 이동시킬 수 있는 컨베이어 벨트가 구비될 수 있다.
따라서, 상기 카세트(C)가 상기 린스 구간(111)에 투입되면, 상기 린스 구간(111)의 분사노즐을 통하여 물이 분사됨에 따라 유리기판에 묻은 이물질을 씻어내는 린스 공정이 진행되고, 상기 카세트(C)가 에칭 구간에 투입되면, 상기 에칭 구간(112)의 분사노즐을 통하여 유리를 식각할 수 있는 약액이 분사됨에 따라 유리기판의 표면을 식각하는 에칭 공정이 진행될 수 있다.
물론, 상기 린스 구간(111)에서 사용된 물을 배수시키는 배수유로가 구비되고, 상기 에칭 구간(112)에서 사용된 약액을 상기 메인 탱크(120)로 순환시키는 순환유로가 구비된다.
상기 메인 탱크(120)는 이산화규소(SiO2)을 주요 성분으로 하는 유리기판들을 에칭시킬 수 있는 약액이 저장되는데, 약액은 불소산(HF)을 주요 성분으로 구성하여 유리기판의 주요 성분인 이산화규소(SiO2)와 화학 반응을 일으킬 수 있도록 하며, 한정되지 아니한다.
물론, 상기 메인 탱크(120)는 약액 저장 용량에 따라 그 크기가 결정되는데, 상기 메인 탱크(120)의 약액은 에칭 공정이 진행되는 동안 상기 식각기(110)로 순환되지만, 에칭 공정이 진행되기 전/후에는 상기 제1,2보조 탱크(140,150)로 순환되며, 상기 메인 탱크(120)의 구성은 하기에서 보다 상세하게 설명하기로 한다.
상기 필터 프레스(130)는 에칭 공정에 사용된 오염된 약액을 정화시켜 줄 수 있도록 구성되는데, 실시예에서 여러 개의 겹쳐진 필터 형태로 구성되고, 소정의 압력에 의해 약액이 공급될 수 있도록 구성된다.
따라서, 소정의 압력에 의해 약액이 여러 개의 겹쳐진 필터를 통과하면, 상기 필터들에 이물질이 걸러지고, 깨끗해진 약액을 얻을 수 있다.
상기 제1보조 탱크(140)는 상기 메인 탱크(120)와 필터 프레스(130) 사이에 구비되는데, 상기 메인 탱크(120)에 저장된 오염된 약액을 상기 필터 프레스(130)로 공급하기 전에 임시로 저장할 수 있도록 구비된다.
또한, 상기 제1보조 탱크(140)는 상기 메인 탱크(120)의 용량을 고려하여 그 크기가 결정되며, 상기 제1보조 탱크(140)의 구성은 하기에서 보다 상세하게 설명하기로 한다.
상기 제2보조 탱크(150)는 상기 필터 프레스(130)와 메인 탱크(120) 사이에 구비되는데, 상기 필터 프레스(130)를 통과한 깨끗한 약액을 상기 메인 탱크(120)로 공급하기 전에 임시로 저장할 수 있도록 구비된다.
마찬가지로, 상기 제2보조 탱크(150)는 상기 메인 탱크의 용량을 고려하여 그 크기가 결정되며, 상기 제2보조 탱크(150)의 구성은 하기에서 보다 상세하게 설명하기로 한다.
상기 펌프들(P1~P4)은 상기 식각기(110)와 메인 탱크(120)와 필터 프레스(130) 및 제1,2보조 탱크(140,150) 사이에 각각 구비된다.
실시예에서, 상기 메인 탱크(120)에 저장된 약액을 상기 식각기(110)로 공급하는 제1펌프(P1)와, 상기 메인 탱크(120)에 저장된 오염된 약액을 상기 제1보조 탱크(140)로 공급하는 제2펌프(P2)와, 상기 제2보조 탱크(150)에 저장된 깨끗한 약액을 상기 메인 탱크(120)로 공급하는 제3펌프(P3)와, 상기 제1보조 탱크(140)에 저장된 오염된 약액을 상기 필터 프레스(130)를 통과하여 상기 제2보조 탱크(150)로 공급하는 제4펌프(P4)로 구성될 수 있다.
이때, 상기 펌프들(P1~P4)은 전자기력에 의해 구동되는 마그네틱 펌프와, 진공 및 가압에 의해 구동되는 다이아프레임 펌프 중 선택적으로 적용되거나, 상기 마그네틱 펌프와 다이아프레임 펌프가 병렬 연결되도록 동시에 구비될 수 있으며, 한정되지 아니한다.
물론, 상기 마그네틱 펌프는 신속하게 약액을 이송시킬 수 있고, 상기 다이아프레임 펌프는 잔류하는 약액이 부족하여 공기가 유입되더라도 오작동되는 것을 방지할 수 있으며, 이를 고려하여 적절한 형태의 펌프가 적용될 수 있다.
상기 밸브들(V1~V7)은 약액이 순환되는 유로를 개폐시킬 수 있도록 구비되는데, 실시예에서 약액의 이동 방향을 기준으로 제1,2,3펌프(P1~P3)의 선단에 구비된 수동 밸브(V1,V3,V5)와, 제1,2,3펌프(P1~P3)의 후단에 구비된 자동 밸브(V2,V4,V6)로 구성되고, 고압의 압력을 제공하는 제4펌프(P4)의 선단에 자동 밸브(V7)가 구비될 수 있으며, 한정되지 아니한다.
도 3은 도 2에 적용된 메인 탱크의 일예가 도시된 도면이다.
상기 메인 탱크(120)는 도 3에 도시된 바와 같이 상면을 형성하는 돔부(121)와, 상기 돔부(121)의 하측에 원통 형상의 본체부(122)와, 상기 본체부(122)의 내벽을 따라 구비된 히터부(123)와, 상기 본체부(122) 하측에 하면을 형성하는 호버부(124)를 포함하도록 구성되며, 재질 및 크기는 한정되지 아니한다.
이때, 상기 메인 탱크(120)에 약액이 저장되면, 상기 히터부(123)의 작동을 제어하여 약액의 온도를 에칭하기 유리한 35 ~38℃로 유지할 수 있다.
또한, 상기 메인 탱크(120)는 상기 돔부(121)의 상측에 약액이 상기 식각기(110 : 도 2에 도시) 및 제2보조 탱크(150 : 도 2에 도시)로부터 유입되는 제1,2입구(125in,126in)가 구비되고, 상기 호퍼부(124)의 일측과 최하단에 약액이 상기 식각기(110 : 도 2에 도시) 및 제1보조 탱크(140 : 도 2에 도시)로 유출되는 제1,2출구(125out,126out)가 구비된다.
따라서, 상기 메인 탱크(120)에 저장된 약액이 줄어들더라도 상기 호퍼부(124)의 형상에 의해 최하단으로 모아지고, 상기 제1,2출구(125out,126out)에 의해 완전히 빠져나갈 수 있도록 한다.
도 4 및 도 5는 도 2에 적용된 제1,2보조 탱크의 일예가 각각 도시된 도면이다.
상기 제1,2보조 탱크(140,150)는 도 4 내지 도 5에 도시된 바와 같이 돔부(141,151)와, 본체부(142,152)와, 히터부(143,153)와, 호퍼부(144,154)로 구성되고, 상기 메인 탱크(120)와 동일한 재질 및 크기로 구성된다.
다만, 상기 제1보조 탱크(140)는 상기 돔부(141)의 상측에 약액이 상기 메인 탱크(120 : 도 2에 도시)로부터 유입되는 입구(145in)가 구비되고, 상기 호퍼부(144)의 최하단에 약액이 상기 필터 프레스(130 : 도 2에 도시)로 유출되는 출구(145out)가 구비된다.
또한, 상기 제2보조 탱크(150)는 상기 돔부(151)의 상측에 약액이 상기 제1보조 탱크(140) 및 필터 프레스(130 : 도 2에 도시)로부터 유입되는 입구(155in)가 구비되고, 상기 호퍼부(154)의 최하단에 약액이 상기 메인 탱크(120 : 도 2에 도시)로 유출되는 출구(155out)가 구비된다.
도 6은 본 발명의 유리기판용 식각방법이 카세트 이동을 기준으로 도시된 순서도이고, 도 7은 본 발명의 유리기판용 식각방법이 약액 이동을 기준으로 도시된 순서도이다.
본 발명의 유리기판용 식각방법은 여러 차례에 걸쳐 에칭 공정이 진행되는 동안, 신속하게 약액을 자동으로 정화시킬 수 있는데, 초기에 신규 약액이 메인 탱크(120)와 제2보조 탱크(150)에 담긴 상태에서 에칭 공정 및 약액 정화 공정이 진행되는 반면, 에칭 공정이 적어도 한번 이상 진행된 이후에 오염된 약액이 제1보조 탱크(140)에 담기고 깨끗해진 약액이 제2보조 탱크(150)에 담긴 생태를 에칭 공정 및 약액 정화 공정이 진행되며, 이를 기준으로 도 2와 도 6 및 도 7을 참조하여 살펴보면, 다음과 같다.
먼저, 상기 카세트(C)가 상기 식각기(110) 내부의 로딩구간에서 린스구간(111)으로 이동되는 동안, 상기 제2보조 탱크(150)의 깨끗한 약액이 상기 메인 탱크(120)로 공급된다.(S1,S11 참조)
상기 카세트(C)가 이동하는 동안, 상기 제2보조 탱크(150)로부터 상기 메인 탱크(120)에 깨끗한 약액을 투입하기 때문에 약액 이동 시간을 단축시킬 수 있다.
또한, 상기 메인 탱크(120) 내부의 히터부의 작동을 제어함으로써, 상기 메인 탱크에 저장된 약액을 에칭하기 유리한 온도 환경으로 조절할 수 있다.
다음, 상기 카세트(C)가 상기 식각기(110) 내부의 린스구간(111)에 투입되면, 린스/세정 공정이 진행되고, 에칭구간(112)으로 이동된다.(S2 참조)
다음, 상기 카세트(C)가 상기 식각기(110) 내부의 에칭구간(112)에 투입되면, 상기 메인 탱크(120)와 식각기(110) 사이에 약액이 순환하면서 에칭 공정이 진행되고, 상기 카세트(C)의 유리기판들이 에칭되는 동시에 약액이 오염된다.(S3,S31 참조)
물론, 에칭 공정이 진행되면, 유리기판의 표면이 식각됨에 따라 이물질이 약액에 포함되기 때문에 약액이 오염된다.
또한, 에칭 공정이 진행되는 동안, 상기 제1보조 탱크(140)의 오염된 약액dl 상기 필터 프레스(130)로 공급되면, 상기 필터 프레스(130)에 의해 이물질이 걸러지고, 깨끗한 약액이 상기 제2보조 탱크(150)로 공급된다.(S32,S33 참조)
이때, 상기 제1보조 탱크(140)에는 이전의 에칭 공정으로 인하여 오염된 약액이 저장된 상태이며, 이러한 오염된 약액이 고압으로 상기 필터 프레스(130)를 통과하면서 이물질이 걸러진다.
따라서, 약액이 상기 필터 프레스(130)를 통과하는 시간이 상대적으로 많은 시간이 소요되며, 에칭 공정이 진행되는 동안 이러한 과정을 거치도록 하여 전체적인 공정 시간을 단축시킬 수 있다.
다음, 에칭 공정이 완료되면, 상기 카세트(C)가 상기 식각기(110) 내부의 에칭구간(112)에서 린스구간(111)으로 이동되고, 추가적인 린스/세정 공정이 진행된다.(S4 참조)
이때, 에칭 공정으로 오염된 약액이 상기 메인 탱크(120)에 저장된다.
다음, 린스/세정 공정이 완료되면, 상기 카세트(C)가 상기 식각기(110) 내부의 린스구간(111)에서 로딩구간으로 이동되는 동안, 상기 메인 탱크(120)의 오염된 약액이 상기 제1보조 탱크(140)로 공급된다.(S5,S51 참조)
상기 카세트(C)가 이동하는 동안, 상기 메인 탱크(120)로부터 상기 제1보조 탱크(140)에 오염된 약액을 투입하기 때문에 약액 이동 시간을 단축시킬 수 있다.
상기와 같이 본 발명의 유리기판용 식각방법은 메인 탱크와 보조 탱크들 및 필터 프레스 사이에 약액을 자동으로 이동시킴으로써, 약액을 자동으로 정화시킬 수 있으며, 카세트 이동 중이나, 에칭 공정이 진행하는 중에 약액을 이동시킬 수 있어 전체적인 공정 시간을 단축시킬 수 있고, 나아가 약액을 분산하여 저장하여 각각의 탱크 크기를 줄일 수 있다.
110 : 식각기 120 : 메인 탱크
130 : 필터 프레스 140 : 제1보조 탱크
150 : 제2보조 탱크

Claims (12)

  1. 복수개의 유리기판이 장착된 카세트;
    상기 카세트가 투입/인출되고, 상기 유리기판들을 에칭시키는 약액을 분사하는 복수개의 노즐이 구비된 식각기;
    상기 식각기로 순환되는 약액을 저장하는 메인 탱크;
    상기 메인 탱크로 회수된 약액으로부터 부유물을 걸러주는 필터 프레스;
    상기 메인 탱크로 회수된 약액을 상기 필터 프레스로 공급하기 전에 임시 저장하는 제1보조 탱크;
    상기 필터 프레스를 통과한 약액을 상기 메인 탱크로 공급하기 전에 임시 저장되는 제2보조 탱크;
    상기 메인 탱크에 저장된 약액을 상기 식각기로 공급하는 제1펌프;
    상기 메인 탱크에 저장된 오염된 약액을 상기 제1보조 탱크로 공급하는 제2펌프;
    상기 제2보조 탱크에 저장된 깨끗한 약액을 상기 메인 탱크로 공급하는 제3펌프;
    상기 제1보조 탱크에 저장된 오염된 약액을 상기 필터 프레스를 통과하여 상기 제2보조 탱크로 공급하는 제4펌프; 및
    상기 제1,2,3,4펌프의 선/후단에 구비된 복수개의 밸브;를 포함하고,
    에칭 공정 전 상기 카세트가 상기 식각기에 투입되는 동안, 상기 제3펌프 및 그 선/후단 밸브가 작동되고,
    에칭 공정 중, 상기 제1,4펌프 및 그 선/후단 밸브가 작동되며,
    에칭 공정 후 상기 카세트가 상기 식각기에서 인출되는 동안, 상기 제2펌프 및 그 선/후단 밸브가 작동되는 유리기판용 식각 시스템.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 메인 탱크는,
    상면을 형성하는 돔부와,
    상기 돔부의 하측에 원통 형상의 본체부와,
    상기 본체부의 내벽을 따라 구비된 히터부와,
    상기 본체부 하측에 하면을 형성하는 호퍼부를 포함하는 유리기판용 식각 시스템.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 메인 탱크는,
    상기 돔부의 상측에 약액이 유입되는 한 쌍의 입구가 구비되고,
    상기 호퍼부의 일측과 최하단에 약액이 유출되는 한 쌍의 출구가 구비되는 유리기판용 식각 시스템.
  4. 삭제
  5. 제1항에 있어서,
    상기 제1,2보조 탱크는,
    상면을 형성하는 돔부와,
    상기 돔부의 하측에 원통 형상의 본체부와,
    상기 본체부의 내벽을 따라 구비된 히터부와,
    상기 본체부 하측에 하면을 형성하는 호퍼부를 포함하는 유리기판용 식각 시스템.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 제1,2보조 탱크는,
    상기 돔부의 상측에 약액이 유입되는 입구가 구비되고,
    상기 호퍼부의 최하단에 약액이 유출되는 출구가 구비되는 유리기판용 식각 시스템.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 펌프들은,
    전자기력에 의해 구동되는 마그네틱 펌프와,
    진공 및 가압에 의해 구동되는 다이아프레임 펌프 중 적어도 하나 이상으로 구성되는 유리기판용 식각 시스템.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 밸브들은,
    약액의 이동 방향을 기준으로 상기 펌프들의 선단에 구비된 수동 밸브와,
    상기 펌프들의 후단에 구비된 자동 밸브를 포함하는 유리기판용 식각 시스템.


  9. 삭제
  10. 삭제
  11. 삭제
  12. 삭제
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