CN213752633U - 一种湿法蚀刻机台清洗装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种湿法蚀刻机台清洗装置。包括：储液箱，存储清洗液；至少包括顺次设置于储液箱一侧的第二冲洗单元、第一冲洗单元，第一、第二冲洗单元分别对待清洗物进行第一次冲洗、第二次冲洗；储液箱通过第一输液管与第一、第二冲洗单元连通向第一、第二冲洗单元输送清洗液；第一冲洗单元包括第一积液箱，积存经第一冲洗单元清洗后的清洗液，第一积液箱底部设有排流管；第二冲洗单元包括第二积液箱，第二积液箱通过第二输液管与第一冲洗单元连通，第二输液管上设置有过滤装置，过滤第二积液箱内排出的清洗液。通过设置的积液箱和过滤装置将清洗液进行过滤后重复利用，减少了清洗液的用量，降低了厂务处理废水的费用。

Description

一种湿法蚀刻机台清洗装置

技术领域

本实用新型涉及半导体技术领域，尤其涉及一种湿法蚀刻机台清洗装置。

背景技术

目前，在薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)基板制作过程中，需要使用各种湿式机台进行刻蚀、清洗、显影等制程，这些湿式机台会用到各种不同的药液，如湿法刻蚀机进行刻蚀时，会使用含有硝酸、磷酸、醋酸、盐酸等物质的化学药液，如氢氟酸清洗机清洗过程中会用到氢氟酸药液。在传统生产过程中，经过蚀刻药液对基板进行蚀刻后，会使用去离子水(DI water)通过多个清洗水槽对基板进行多次冲洗，从而去除基板上残留杂质以及药液，大量的去离子水(DI water)清洗后被直接排掉，因此传统的方法对去离子水(DIwater)的用量过高，以及厂务处理废水的费用过高。

因此，如何避免过量使用去离子水(DI water)造成的浪费，降低厂务处理废水的费用是亟需解决的问题。

实用新型内容

鉴于上述相关技术的不足，本申请的目的在于提供一种湿法蚀刻机台清洗装置，旨在解决在基板制作的过程中进行清洗时，大量的去离子水(DI water)被浪费，厂务处理废水的费用高昂的问题。

一种湿法蚀刻机台清洗装置，包括：

储液箱，配置为存储用于清洗待清洗物的清洗液；

至少包括顺次设置于所述储液箱一侧的第二冲洗单元、第一冲洗单元，所述第一冲洗单元、第二冲洗单元分别用于对所述待清洗物进行第一次冲洗、第二次冲洗；

第一输液管，所述储液箱通过所述第一输液管与所述第一、第二冲洗单元连通，并通过所述第一输液管向所述第一、第二、冲洗单元输送所述清洗液对待清洗物进行冲洗；

所述第一冲洗单元包括第一积液箱，用于积存经第一冲洗单元清洗后的清洗液；所述第一积液箱底部设置有排流管，用于将所述第一积液箱内的清洗液排出；

所述第二冲洗单元包括第二积液箱，用于积存经第二冲洗单元清洗后的清洗液；所述第二积液箱通过第二输液管与所述第一冲洗单元连通，所述第二输液管上设置有过滤装置，用于过滤所述第二积液箱内排出的清洗液。

上述提供的湿法蚀刻机台清洗装置，通过设置的积液箱以及过滤装置，将清洗过待清洗物的清洗液积存在积液箱中，经过过滤装置过滤后与储液箱中的清洗液混合重复利用清洗待清的基板，可节约清洗基板使用的清洗液的用量，降低生产成本，同时也解决厂务处理大量废水时所出现的难题以及降低处理废水费用。

可选地，上述提供的湿法蚀刻机台清洗装置中，在所述第一输液管上，所述储液箱与所述第二冲洗单元之间设有第一阀门，所述第二冲洗单元与所述第一冲洗单元之间设有第二阀门；所述第一阀门、第二阀门用于控制所述储液箱分别向所述第二冲洗单元、第一冲洗单元输送清洗液。

可选地，在所述第二输液管上设有第三阀门，所述第三阀门用于控制所述第二积液箱向所述第一冲洗单元输送所述积液箱中的清洗液。

通过设置的阀门，在供水时起到开关作用，防止溢流。

可选地，所述储液箱与所述第一输液管连接处设有第一输水装置，所述第一输水装置用于将所述储液箱内的清洗液通过所述第一输液管输送至所述第一冲洗单元和第二冲洗单元。

可选地，所述输水装置包括水泵。

可选地，所述第一冲洗单元包括设置于所述第一积液箱上方的第一清洗槽，用于放置所述待清洗物，对所述待清洗物进行第一次冲洗；所述第一清洗槽与所述第一积液箱连通，经过所述第一清洗槽内清洗后的所述清洗液回流至所述第一积液箱内；

所述第二冲洗单元包括设置于所述第二积液箱上方的第二清洗槽，用于放置所述待清洗物，对所述待清洗物进行第二次冲洗；所述第二清洗槽与所述第二积液箱连通，经过所述第二清洗槽内清洗后的所述清洗液回流至所述第二积液箱内。

可选地，第一冲洗单元还包括设置于所述第一清洗槽上方的第一喷头，所述第一喷头与所述第一输液管接通；所述第一输水装置通过所述第一输液管将所述储液箱内的所述清洗液输送至所述第一喷头，对所述第一清洗槽内的所述待清洗物进行喷淋冲洗。

可选地，第二冲洗单元还包括设置于所述第二清洗槽上方的第二喷头，所述第二喷头与所述第一输液管接通；所述第一输水装置通过所述第一输液管将所述储液箱内的所述清洗液输送至所述第二喷头，对所述第二清洗槽内的所述待清洗物进行喷淋冲洗。

可选地，第二积液箱与所述第二输液管连接处设有第二输水装置，所述第二输液管与所述第一喷头接通，所述第二输水装置用于将所述第二积液箱内的清洗液输送至所述第一喷头，对所述第一清洗槽内的所述待清洗物进行喷淋冲洗。

本使用新型所提供的湿法蚀刻机台清洗装置，通过设置的积液箱以及过滤装置，将清洗过待清洗物的清洗液积存在积液箱中，经过过滤装置过滤后与储液箱中的清洗液混合重复利用清洗待清的基板，达到了减少清洗基板使用的清洗液的用量，降低生产成本，同时也解决厂务处理大量废水时所出现的难题以及降低处理废水费用的效果。

附图说明

图1为本实用新型实施例提供的一种湿法蚀刻机台清洗装置的结构示意图；

图2为本实用新型实施例提供的另一种湿法蚀刻机台清洗装置的结构示意图。

附图标记说明：

110-储液箱，120-第一冲洗单元，121-第一积液箱，122-第一清洗槽，123-第一喷头，130-第二冲洗单元，131-第二积液箱，132-第二清洗槽，133-第二喷头，134-第二输液管，135-过滤装置，136-第三阀门，137-第二输水装置，140-第一输液管，141-第一阀门，142-第二阀门，143-第四阀门，150-第一输水装置,160-第三冲洗单元，161-第三积液箱，162-第三清洗槽，163-第三喷头，164-第三输液管，165-第一过滤装置，166-第五阀门，167-第三输水装置。

具体实施方式

为了便于理解本申请，下面将参照相关附图对本申请进行更全面的描述。附图中给出了本申请的较佳实施方式。但是，本申请可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施方式。相反地，提供这些实施方式的目的是使对本申请的公开内容理解的更加透彻全面。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本申请的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本申请。

目前，在薄膜晶体管基板制作过程中，在经过蚀刻药液对基板进行蚀刻后，会使用去离子水(DI water)通过多个清洗水槽对基板进行多次冲洗，从而去除基板上残留杂质以及药液，大量的去离子水(DI water)清洗后被直接排掉，严重浪费了清洗过冲中大量的去离子水(DI water)，以及增加了厂务处理废水的费用负担。

基于此，本申请希望提供一种能够解决上述技术问题的方案，其详细内容将在后续实施例中得以阐述。

本实用新型一实施例中，所提供的湿法蚀刻机台清洗装置，如图1所示，包括：

储液箱110，配置为存储用于清洗待清洗物的清洗液；本实施例中的待清洗物为玻璃基板，清洗液为使用的去离子水(DI water)；

至少包括顺次设置于所述储液箱110一侧的第二冲洗单元130、第一冲洗单元120，所述第一冲洗单元、第二冲洗单元分别用于对所述待清洗物进行第一次冲洗、第二次冲洗、第三次冲洗；

以及第一输液管140，所述储液箱110通过所述第一输液管140与所述第一、第二冲洗单元连通，并通过所述第一输液管向所述第一、第二冲洗单元输送所述清洗液对待清洗物进行冲洗；即所述第一、第二冲洗单元均连接于所述第一输液管140上。

在本实施例中，所述第一冲洗单元120包括第一积液箱121，用于积存经第一冲洗单元120清洗后的清洗液；所述第一积液箱121底部设置有排流管，用于将所述第一积液箱内121含有大量残留物的清洗液排出；所述第二冲洗单元130包括第二积液箱131，用于积存经第二冲洗单元清洗后的清洗液；所述第二积液箱131通过第二输液管134与所述第一冲洗单元120连通，所述第二输液管134上设置有过滤装置135，用于过滤所述第二积液箱131内排出的含有残留物的清洗液。

湿法蚀刻后进行清洗时，将待清洗的基板先在第一冲洗单元120中进行清洗，第一次清洗时，将蚀刻后残留在基板上大部分的药液以及残留物清洗掉，残留物伴随着去离子水(DI water)回流到第一积液箱121中，通过第一积液箱121底部设置的排流管直接排除掉，经过第一冲洗单元120清洗过后的基板在放置于第二冲洗单元130中进行第二次清洗，第二次清洗时清洗过的清洗液即去离子水(DI water)中伴随着少量的残留物，将回流到第二积液箱131中，第二积液箱131与第一冲洗单元是通过第二输液管134连通的，在第二输液管134上设置有过滤装置135，过滤装置135将第二积液箱131中的清洗液进行过滤，将清洗液中少量的残留物过滤后通过第二输液管输送至第一冲洗单元120中进行下一片基板的第一次清洗，此时第一冲洗单元120中的清洗液混合着第二积液箱131中经过滤后的清洗液与储液箱110中的清洗液。这样，将第二冲洗单元130中清洗过的清洗液进行过滤后输送至第一冲洗单元中重复利用，节省了大量的清洗液，降低了处理废水的费用。

本实施例中，在所述第一输液管140上，所述储液箱110与所述第二冲洗单元130之间设有第一阀门141，所述第二冲洗单元130与所述第一冲洗单元120之间设有第二阀门；所述第一阀门141、第二阀门142用于控制所述储液箱110分别向所述第二冲洗单元130、第一冲洗单元120输送清洗液。

在所述第二输液管134上设有第三阀门136，所述第三阀门136用于控制所述第二积液箱131向所述第一冲洗单元120输送所述第二积液箱131中的清洗液。

通过设置的阀门，在供水时起到开关作用的同时，能控制各个冲洗单元的出水量，防止溢流。

在本实施例的一场景中，在清洗机台工作过程，可将第一阀门141与第三阀门136打开，而将第二阀门142关闭，储液箱110中的清洗液将输送至第二冲洗单元130中，对第二冲洗单元中的待清洗物进行清洗，第二冲洗单元中清洗后的清洗液经过滤装置135过滤后输送至第一冲洗单元120，对第一冲洗单元中的待清洗物进行清洗。

在另一场景中，在清洗机台工作过程，同时将第一阀门141、第二阀门142与第三阀门136打开，储液箱110中的清洗液将输送至第二冲洗单元130中以及第一冲洗单元120中，对第二冲洗单元和第一冲洗单元中的待清洗物进行清洗，第二冲洗单元中清洗后的清洗液经过滤装置135过滤后输送至第一冲洗单元120，对第一冲洗单元中的待清洗物进行清洗，因此，第一冲洗单元120中的清洗液混合着经第二冲洗单元清洗之后过滤后的清洗液与储液箱中的清洗液，从而将第二冲洗单元中清洗过后含有少量杂质与化学药液的清洗液过滤后在第一冲洗单元中得到重复利用。

在本实施例中，所述储液箱110与所述第一输液管140连接处设有第一输水装置150，所述第一输水装置150用于将所述储液箱110内的所述清洗液通过所述第一输液管140输送至第一、第二冲洗单元，通过输水装置150将储液箱110中的清洗液通过第一输液管140输送至第一冲洗单元、第二冲洗单元，以提供各个冲洗单元清洗待清洗的基板时所需的清洗液，可通过设置在第一输液管140上的第一阀门141、第二阀门142来控制清洗液输送至各个冲洗单元中的输送开关以及对输送至各冲洗单元中的水量进行控制。在本实施例中，所述输水装置150包括水泵，应当理解的是，本实施例中的输水装置还可以是其他的与水泵达到相同的的输水装置，本实施例并不显限定，可根据实际需要进行灵活的选择。

本实施例中，所述第一冲洗单元120包括设置于所述第一积液箱121上方的第一清洗槽122，用于放置待清洗的基板，对待清洗的基板进行第一次冲洗；所述第一清洗槽122与所述第一积液箱连通121，经过所述第一清洗槽内122清洗后的所述清洗液回流至所述第一积液箱121内，然后通过第一积液箱121上的排流管排出，由于在对基板进行第一次清洗时，基板上面残留的药液以及残留物比较多，清洗后的清洗液中含有大量的残留物，因此，进行第一次清洗后的清洗液可直接排出。第二冲洗单元130包括设置于所述第二积液箱131上方的第二清洗槽132，用于放置待清洗的基板，对所述待清洗的基板进行第二次冲洗；所述第二清洗槽132与所述第二积液箱131连通，经过所述第二清洗槽内132清洗后的所述清洗液回流至所述第二积液箱131内，第二积液箱中的清洗液通过第二输液管输送至第一冲洗单元中，由于经过第一冲洗单元清洗后的基板上的残留物较少，再经过第二冲洗单元清洗后的清洗液中的残留物较少，经第二冲洗单元清洗后的清洗液回流至第二积液箱，经过滤装置过滤后输送至第一冲洗单元中，使得第二冲洗单元中的清洗液得到重复利用。

本实施例中，第一冲洗单元120包括设置于所述第一清洗槽122上方的第一喷头123，所述第一喷头123与所述第一输液管140接通；所述第一输水装置150通过所述第一输液管140将所述储液箱110内的所述清洗液输送至所述第一喷头123，对所述第一清洗槽内123的待清洗物进行喷淋冲洗；第二冲洗单元130包括设置于所述第二清洗槽133上方的第二喷头133，所述第二喷头133与所述第一输液管140接通；所述第一输水装置150通过所述第一输液管140将所述储液箱110内的所述清洗液输送至所述第二喷头133，对所述第二清洗槽内132的待清洗物进行喷淋冲洗。

在所述第二输液管134上处设有第二输水装置137，所述第二输液管134与所述第一喷头123接通，所述第二输水装置137用于将所述第二积液箱131内的清洗液输送至所述第一喷头123，对所述第一清洗槽内122的待清洗物进行喷淋冲洗。

本实施例所提供的湿法蚀刻机台清洗装置，通过设置的积液箱以及过滤装置，将清洗过待清洗物的清洗液积存在积液箱中，经过过滤装置过滤后与储液箱中的清洗液混合重复利用清洗待清的基板，达到了减少清洗基板使用的清洗液的用量，降低生产成本，同时也解决厂务处理大量废水时所出现的难题以及降低处理废水费用的效果。

本实用新型另一可选实施例中：

为了解决在基板制作的过程中进行清洗时，大量的去离子水(DI water)被浪费，厂务处理废水的费用高昂的问题。本实施例提供一种湿法蚀刻机台清洗装置。如图2所示，包括：

储液箱110，配置为存储用于清洗待清洗物的清洗液；本实施例中的待清洗液为使用的去离子水(DI water)；

顺次设置于所述储液箱110一侧的第二冲洗单元130、第一冲洗单元120，所述第一、第二冲洗单元分别用于对所述待清洗物进行第一次冲洗、第二次冲洗；

本实施例中，还包括设置于所述储液箱110与所述第二冲洗单元之间的第三冲洗单元160，所述第三冲洗单元160用于对所述待清洗物进行第三次冲洗。

以及第一输液管140，所述储液箱110通过所述第一输液管140与所述第一、第二、第三冲洗单元连通，并通过所述第一输液管向所述第一、第二、第三冲洗单元输送所述清洗液对待清洗物进行冲洗；即所述第一、第二、第三冲洗单元均连接与所述第一输液管140上。

在本实施例中，所述第一冲洗单元包括第一积液箱121，用于积存经第一冲洗单元120清洗后的清洗液；所述第一积液箱底部设置有排流管，用于将所述第一积液箱内的清洗液排出；所述第二冲洗单元130包括第二积液箱131，用于积存经第二冲洗单元清洗后的清洗液；所述第二积液箱131通过第二输液管134与第一冲洗单元120连通，所述第二输液管134上设置有过滤装置135，用于过滤所述第二积液箱131内排出的含有杂质的清洗液；所述第三冲洗单元160包括第三积液箱161，用于积存经第三冲洗单元160清洗后的清洗液；所述第三积液箱161通过第三输液管164与所述第二冲洗单元130连通，所述第三输液管164上设置有第一过滤装置165，用于过滤所述第三积液箱内排出的含有杂质的清洗液。

湿法蚀刻后进行清洗的过程中，将待清洗的基板先在第一冲洗单元120中进行清洗，第一次清洗时，将蚀刻后残留在基板上大部分的药液以及残留物清洗掉，残留物伴随着去离子水(DI water)回流到第一积液箱121中，通过第一积液箱121底部设置的排流管直接排除掉，经过第一冲洗单元120清洗过后的基板再放置于第二冲洗单元130中进行第二次清洗，第二次清洗时清洗过的清洗液即去离子水(DI water)中伴随着少量的残留物，将回流到第二积液箱131中，第二积液箱131与第一冲洗单元120是通过第二输液管134连通的，在第二输液管134上设置有过滤装置135，过滤装置135将第二积液箱131中含有残留物的清洗液进行过滤，将清洗液中少量的残留物过滤后通过第二输液管134输送至第一冲洗单元120中。经过第二冲洗单元130清洗后的基板将放置于第三冲洗单元160中进行第三次清洗，在第三单元160中清洗后的清洗液将回流至第三积液箱161中，由于进行了第二次的清洗后，基板上基本没有杂质及药物的残留的，因此，在第三次清洗时，清洗液中伴随极少量的残留物，第三积液箱161与第二冲洗单元130是通过第三输液管164进行连通的，在第三输液管上设置有第一过滤装置165，第一过滤装置165将第三积液箱161中的清洗液进行过滤，将清洗液中的残留物过滤后通过第三输液管164输送至第二冲洗单元130中。这样，将第二次以及第三次清洗过的清洗液进行过滤后分别在第一冲洗单元中，第二冲洗单元中得到重复利用，节省了大量的清洗液。降低了生产成本，以及厂务处理废水的费用。

本实施例中，在所述第一输液管140上，所述第三冲洗单元160与所述第二冲洗单元130之间设有第四阀门，在所述第三输液管164上设有第五阀门166；通过设置的阀门，在供水时起到开关作用的同时，能控制各个冲洗单元的出水量，防止溢流。

在本实施例中，所述储液箱110与所述第一输液管140连接处设有第一输水装置150，所述第一输水装置150用于将所述储液箱110内的所述清洗液通过所述第一输液管140输送至第一、第二、第三冲洗单元，通过输水装置150将储液箱110中的清洗液通过第一输液管140输送至第一冲洗单元、第二冲洗单元、第三冲洗单元，以提供各个冲洗单元清洗待清洗的基板时所需的清洗液，可通过设置在第一输液管140上的第一阀门141、第二阀门142、第三阀143来控制清洗液输送至各个冲洗单元中的输送开关以及对输送至各冲洗单元中的水量进行控制。在本实施例中，所述输水装置150包括水泵，应当理解的是，本实施例中的输水装置还可以是其他的与水泵达到相同的的输水装置，本实施例并不显限定，可根据实际需要进行灵活的选择。

本实施例中，所述第一冲洗单元120包括设置于所述第一积液箱121上方的第一清洗槽122，用于放置待清洗的基板，对待清洗的基板进行第一次冲洗；所述第一清洗槽122与所述第一积液箱连通121，经过所述第一清洗槽内122清洗后的所述清洗液回流至所述第一积液箱121内，然后通过第一积液箱121排出，由于在对基板进行第一次清洗时，基板上面残留的药液以及残留物比较多，清洗后的清洗液中含有大量的残留物，因此，进行第一次清洗后的清洗液可直接排出。第二冲洗单元130包括设置于所述第二积液箱131上方的第二清洗槽132，用于放置待清洗的基板，对所述待清洗的基板进行第二次冲洗；所述第二清洗槽132与所述第二积液箱131连通，经过所述第二清洗槽内132清洗后的所述清洗液回流至所述第二积液箱131内；第三冲洗单元160包括设置于所述第三积液箱161上方的第三清洗槽162，用于放置待清洗的基板，对所述待清洗的基板进行第三次冲洗；所述第三清洗槽162与所述第三积液箱161连通，经过所述第三清洗槽内162清洗后的所述清洗液回流至所述第三积液箱161内。

本实施例中，第一冲洗单元120包括设置于所述第一清洗槽122上方的第一喷头123，所述第一喷头123与所述第一输液管140接通；所述第一输水装置150通过所述第一输液管140将所述储液箱110内的所述清洗液输送至所述第一喷头123，对所述第一清洗槽内123的待清洗物进行喷淋冲洗；第二冲洗单元130包括设置于所述第二清洗槽132上方的第二喷头133，所述第二喷头133与所述第一输液管140接通；所述第一输水装置150通过所述第一输液管140将所述储液箱110内的所述清洗液输送至所述第二喷头133，对所述第二清洗槽内132的待清洗物进行喷淋冲洗；第三冲洗单元包160括设置于所述第三清洗槽162上方的第三喷头163，所述第三喷头163与所述第一输液管140接通；所述第一输水装置150通过所述第一输液管140将所述储液箱110内的所述清洗液输送至所述第三喷头163，对所述第三清洗槽162内的待清洗物进行喷淋冲洗。

在所述第二输液管134上设有第二输水装置137，所述第二输液管134与所述第一喷头123接通，所述第二输水装置137用于将所述第二积液箱131内的清洗液输送至所述第一喷头123，对所述第一清洗槽内122的待清洗物进行喷淋冲洗；

在所述第三输液管164连接上有第三输水装置167，所述第三输液管164与所述第二喷头133接通，所述第三输水装置167用于将所述第三积液箱161内的清洗液输送至所述第二喷头133，对所述第二清洗槽132内的待清洗物进行喷淋冲洗。

本实施例所提供的湿法蚀刻机台清洗装置，通过设置的积液箱以及过滤装置，将清洗过待清洗物的清洗液积存在积液箱中，经过过滤装置过滤后回流至储液箱中与储液箱中的清洗液混合重复利用清洗待清的基板，达到了减少清洗基板使用的清洗液的用量，降低生产成本，同时也解决厂务处理大量废水时所出现的难题以及降低处理废水费用的效果。

应当理解的是，本实用新型的应用不限于上述的举例，对本领域普通技术人员来说，可以根据上述说明加以改进或变换，所有这些改进和变换都应属于本实用新型所附权利要求的保护范围。

Claims (10)

1.一种湿法蚀刻机台清洗装置，其特征在于，包括：

储液箱，配置为存储用于清洗待清洗物的清洗液；

至少包括顺次设置于所述储液箱一侧的第二冲洗单元、第一冲洗单元，所述第一、第二冲洗单元分别用于对所述待清洗物进行第一次冲洗、第二次冲洗；

第一输液管，所述储液箱通过所述第一输液管与所述第一、第二冲洗单元连通，并通过所述第一输液管向所述第一、第二冲洗单元输送所述清洗液；

所述第一冲洗单元包括第一积液箱，用于积存经第一冲洗单元清洗后的清洗液；所述第一积液箱底部设置有排流管，用于将所述第一积液箱内的清洗液排出；

所述第二冲洗单元包括第二积液箱，用于积存经第二冲洗单元清洗后的清洗液；所述第二积液箱通过第二输液管与所述第一冲洗单元连通，所述第二输液管上设置有过滤装置，用于过滤所述第二积液箱内排出的清洗液。

2.如权利要求1所述的湿法蚀刻机台清洗装置，其特征在于，在所述第一输液管上，所述储液箱与所述第二冲洗单元之间设有第一阀门，所述第二冲洗单元与所述第一冲洗单元之间设有第二阀门；所述第一阀门、第二阀门用于控制所述储液箱分别向所述第二冲洗单元、第一冲洗单元输送清洗液。

3.如权利要求1所述的湿法蚀刻机台清洗装置，其特征在于，在所述第二输液管上设有第三阀门，所述第三阀门用于控制所述第二积液箱向所述第一冲洗单元输送所述第二积液箱中的清洗液。

4.如权利要求3所述的湿法蚀刻机台清洗装置，其特征在于，所述储液箱与所述第一输液管连接处设有第一输水装置，所述第一输水装置用于将所述储液箱内的清洗液通过所述第一输液管输送至所述第一冲洗单元和第二冲洗单元。

5.如权利要求4所述的湿法蚀刻机台清洗装置，其特征在于，所述输水装置包括水泵。

6.如权利要求5所述的湿法蚀刻机台清洗装置，其特征在于，所述第一冲洗单元包括设置于所述第一积液箱上方的第一清洗槽，用于放置待清洗物，对所述待清洗物进行第一次冲洗；所述第一清洗槽与所述第一积液箱连通，经过所述第一清洗槽内清洗后的所述清洗液回流至所述第一积液箱内。

7.如权利要求5所述的湿法蚀刻机台清洗装置，其特征在于，所述第二冲洗单元包括设置于所述第二积液箱上方的第二清洗槽，用于放置所述待清洗物，对所述待清洗物进行第二次冲洗；所述第二清洗槽与所述第二积液箱连通，经过所述第二清洗槽内清洗后的清洗液回流至所述第二积液箱内。

8.如权利要求6所述的湿法蚀刻机台清洗装置，其特征在于，所述第一冲洗单元还包括设置于所述第一清洗槽上方的第一喷头，所述第一喷头与所述第一输液管接通；所述第一输水装置通过所述第一输液管将所述储液箱内的清洗液输送至所述第一喷头，对所述第一清洗槽内的所述待清洗物进行喷淋冲洗。

9.如权利要求7所述的湿法蚀刻机台清洗装置，其特征在于，所述第二冲洗单元还包括设置于所述第二清洗槽上方的第二喷头，所述第二喷头与所述第一输液管接通；所述第一输水装置通过所述第一输液管将所述储液箱内的清洗液输送至所述第二喷头，对所述第二清洗槽内的所述待清洗物进行喷淋冲洗。

10.如权利要求8所述的湿法蚀刻机台清洗装置，其特征在于，所述第二积液箱与所述第二输液管连接处设有第二输水装置，所述第二输液管与所述第一喷头接通，所述第二输水装置用于将所述第二积液箱内的清洗液输送至所述第一喷头，对所述第一清洗槽内的所述待清洗物进行喷淋冲洗。

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