CN210286847U - 插片机用水系统及硅片清洗系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种插片机用水系统及硅片清洗系统，包括：依次设置的硅片插片机、回用水池、过滤装置和储水器；所述过滤装置设有第一排污口，所述第一排污口连通至废水站；所述储水器与所述硅片插片机之间设有第一输水管，所述储水器与所述过滤装置之间设有反洗单元，以使所述储水器中的水对所述过滤装置进行清洗。技术效果：对用水系统进行了优化，实现了硅片插片工序的独立用水循环，最大限度地减少自来水用量和废水排放量，避免了工艺浪费的现象，使得水能够重复利用，节约了水资源，降低了用水成本，减轻了废水处理系统的处理压力。

Description

插片机用水系统及硅片清洗系统

技术领域

本实用新型涉及硅片切割技术领域，特别是涉及一种插片机用水系统及硅片清洗系统。

背景技术

在金刚线切片生产工序中，硅片的清洗一般先使用硅片脱胶机对硅片进行简单地处理，去除硅片表面的砂浆和绞丝等杂质，然后使用硅片插片机对硅片进行插片处理和预清洗处理，最后使用硅片清洗机对硅片进行清洗和干燥处理。由于插片机用水量较大，废水产生量高，对用水成本及废水处理系统都造成了较大的压力。

实用新型内容

基于此，有必要针对插片机用水量较大、废水产生量高的问题，提供一种插片机用水系统及硅片清洗系统。

一种插片机用水系统，包括：依次设置的硅片插片机、回用水池、过滤装置和储水器；所述过滤装置设有第一排污口，所述第一排污口连通至废水站；所述储水器与所述硅片插片机之间设有第一输水管，所述储水器与所述过滤装置之间设有反洗单元。

上述技术方案至少具有以下技术效果：本技术方案所提供的插片机用水系统，对用水系统进行了优化，实现了硅片插片工序的独立用水循环，最大限度地减少自来水用量和废水排放量，避免了工艺浪费的现象，使得水能够重复利用，节约了水资源，降低了用水成本，减轻了废水处理系统的处理压力；并且循环用水过程中，可利用反洗单元，对过滤装置进行清洗，保证输送到硅片插片机的回用水的清洁度，从而保证循环用水可靠地进行。

在其中一个实施例中，所述反洗单元包括与所述储水器相连的反洗泵，以及与所述反洗泵相连的反洗阀，所述反洗阀与所述过滤装置之间设有第二输水管。

在其中一个实施例中，所述硅片插片机与所述回用水池之间设有滤网。

在其中一个实施例中，所述回用水池和所述过滤装置之间设有第一水泵。

在其中一个实施例中，还包括与所述过滤装置连接的加药装置。

在其中一个实施例中，所述过滤装置还设有第二排污口，所述第二排污口连通至所述废水站。

在其中一个实施例中，所述储水器与所述硅片插片机之间设有第二水泵。

在其中一个实施例中，还包括与所述储水器连通的自来水口，所述自来水口设有控制阀。

一种硅片清洗系统，包括：依次设置的硅片脱胶机，如上任一实施例所述的插片机用水系统，以及硅片清洗机；其中，所述硅片脱胶机与所述硅片插片机相连。

上述技术方案至少具有以下技术效果：本技术方案所提供的硅片清洗系统，对用水系统进行了优化，实现了硅片插片工序的独立用水循环，最大限度地减少自来水用量和废水排放量，避免了工艺浪费的现象，使得水能够重复利用，节约了水资源，降低了用水成本，减轻了废水处理系统的处理压力。

在其中一个实施例中，所述储水器与所述硅片脱胶机之间设有第三输水管。

附图说明

图1为本实用新型一实施例插片机用水系统的示意图；

图2为本实用新型一实施例硅片清洗系统的示意图。

其中：

100、插片机用水系统 110、硅片插片机 120、回用水池

130、过滤装置 132、第一排污口 134、第二排污口

140、储水器 150、废水站 160、反洗单元

170、加药装置 182、第一水泵 184、第二水泵

190、自来水口

200、硅片清洗系统 210、硅片脱胶机 220、硅片清洗机

具体实施方式

为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进，因此本实用新型不受下面公开的具体实施例的限制。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本实用新型。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

请参考图1，本实用新型的实施例提供了一种插片机用水系统100，包括：依次设置的硅片插片机110、回用水池120、过滤装置130和储水器140；过滤装置130设有第一排污口132，第一排污口132连通至废水站150；储水器140与硅片插片机110之间设有第一输水管，储水器140与过滤装置130之间设有反洗单元160，以使储水器140中的水对过滤装置130进行清洗。本实用新型的实施例中，依次设置的硅片插片机110、回用水池120、过滤装置130和储水器140指各设备安装时液体的流向布置，其中相邻两个设备之间可以是通过管路相连；另外一种特别的情形下，也可是二者之间没有管路相连接，但下级设备能够接收上级设备输出的液体。

过滤装置130包括但不限于陶瓷膜装置、超滤膜装置、砂滤装置、微滤装置、反渗透膜装置等，主要用于去除废水中的颗粒物及悬浮物。

金刚线切片生产工序中，硅片插片机110产生的废水，排放至回用水池120中进行缓存，接着，废水从回用水池120中排放至过滤装置130中进行过滤，过滤得到的浓缩废液经第一排污口132排至废水站150中，得到的回用水排放至储水器140中，为硅片插片机110进行供水。如此设置，实现了硅片插片机110的废水回收和循环使用，减少了自来水用量，降低了废水的产生量，实现了硅片插片工序的独立用水循环，满足系统的水循环，尽可能地实现硅片插片机110运行用水的“零补充”及废水“零排放”。

同时，为了增加过滤装置130的使用寿命和清洁效果，利用储水器140中的水为过滤装置130供水进行反洗，当需要进行反洗时，则控制反洗单元160使得水能够流向过滤装置130进行清洗操作。当不需要反洗时，则反洗单元160处于不工作状态。如此设置，也实现了储水器140中水的多重使用，尽量地使用水循环中的水进行系统内的供给要求。

上述技术方案至少具有以下技术效果：本技术方案所提供的插片机用水系统100，对用水系统进行了优化，实现了硅片插片工序的独立用水循环，最大限度地减少自来水用量和废水排放量，避免了工艺浪费的现象，使得水能够重复利用，节约了水资源，降低了用水成本，减轻了废水处理系统的处理压力。并且循环用水过程中，可利用反洗单元，对过滤装置进行清洗，保证输送到硅片插片机的回用水的清洁度，从而保证循环用水可靠地进行。

在一些实施例中，反洗单元160包括与储水器140相连的反洗泵，以及与反洗泵相连的反洗阀，反洗阀与过滤装置130之间设有第二输水管。反洗泵从储水器140中抽水，通过反洗阀控制水是否向过滤装置130供水。在反洗时，可以通过加药装置170向过滤装置130中加入酸碱、沉淀、杀菌等用的药剂，加强清洗效果。

在一些实施例中，硅片插片机110与回用水池120之间设有滤网。为了对从硅片插片机110排出的废水进行初步简单地过滤，去除废水中的大颗粒物，在废水流向回用水池120之前，或流至回用水池120时，经过滤网的拦截，完成初步地简单过滤。滤网结构简单，使用成本相对较低，能够起到较好的初步过滤效果。当然，也可以采用保安过滤器、絮凝过滤器等进行精度相对较高的初步过滤。

在一些实施例中，回用水池120和过滤装置130之间设有第一水泵182。为了保证回用水池120中的水能够顺畅地流向过滤装置130，在回用水池120和过滤装置130之间设有第一水泵182，用于从回用水池120中抽水增压，辅助水的流动，保证水能够流向过滤装置130。

在一些实施例中，插片机用水系统100还包括与过滤装置130连接的加药装置170。加药装置170可以为过滤装置130提供絮凝剂、酸剂、碱剂等药剂，为过滤装置130提供药剂补给或药剂清洗的辅助作用。

进一步地，过滤装置130还设有第二排污口134，第二排污口134连通至废水站150。当对过滤装置130进行加药清洗时，所产生的药洗废液从第二排污口134排出，收集到废水站150中。

在一些实施例中，储水器140与硅片插片机110之间设有第二水泵184。为了保证储水器140中的水能够顺畅地流向硅片插片机110，在储水器140和硅片插片机110之间设有第二水泵184，用于从储水器140中抽水增压，辅助水的流动。

在其他一些实施例中，插片机用水系统100还包括与储水器140连通的自来水口190，自来水口190设有控制阀。该自来水口190可以作为循环开始的起始供水源，也就是为循环用水提供基础水源。在循环过程中，随着浓缩废液的排出，导致循环的水量逐渐减少，当无法完全供应硅片插片机110清洗所需的水量时，则打开控制阀，为插片机用水系统100注入新的循环水，达到目标值时，则关闭控制阀。

为了更好地监测储水器140中的水量，在储水器140中还可以设置有液位计，当液位计达到预设低值或预设高值时，则通过灯光、声音等方式通知操作人员打开或关闭控制阀。或者，液位计和控制阀之间通过电信号连接，当液位计达到预设低值或预设高值时，控制阀自动打开或关闭。

请参考图2，本实用新型的实施例还提供了一种硅片清洗系统200，包括：依次设置的硅片脱胶机210，如上任一实施例所述的插片机用水系统100，以及硅片清洗机220；其中，硅片脱胶机210与硅片插片机110相连。

在金刚线切片生产工序中，首先将硅锭粘胶固定于切割机工作台上，然后利用金刚线对硅锭进行切割，最后得到多个硅片。由于完成切割的硅片表面沾有砂浆、粘胶等杂物，并且散乱堆放，故需要对硅片进行一系列的清洁收集操作。具体地，硅片先运送至硅片脱胶机210，利用自来水进行清洗脱胶等操作，再将废水排出；接着，将硅片运送至硅片插片机110，利用循环水进行清洗并摆放于花篮中；然后，将硅片运送至硅片清洗机220，利用纯水进行清洗干燥操作，将废水排出；最后，对硅片进行分选成品。

上述技术方案至少具有以下技术效果：本技术方案所提供的硅片清洗系统200，对用水系统进行了优化，实现了硅片插片工序的独立用水循环，最大限度地减少自来水用量和废水排放量，避免了工艺浪费的现象，使得水能够重复利用，节约了水资源，降低了用水成本，减轻了废水处理系统的处理压力。由于硅片脱胶过程中的用水水质要求相对较低，当储水器140中的水量较大时，可以同时为硅片脱胶机210供水，具体地，在储水器140与硅片脱胶机210之间设有第三输水管。在储水器140与第三输水管的连接处、或者在第三输水管、或者第三输水管与硅片脱胶机210的连接处设有控制阀，以控制储水器140中的水是否为硅片脱胶机210供水。此外，在储水器140和第三输水管之间设有水泵，用于从储水器140中抽水增压，辅助水的流动，使得储水器140中的水能够顺畅地经由第三输水管流向硅片脱胶机210。

以上实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种插片机用水系统，其特征在于，包括：

依次设置的硅片插片机、回用水池、过滤装置和储水器；

所述过滤装置设有第一排污口，所述第一排污口连通至废水站；

所述储水器与所述硅片插片机之间设有第一输水管，所述储水器与所述过滤装置之间设有反洗单元。

2.根据权利要求1所述的插片机用水系统，其特征在于，所述反洗单元包括与所述储水器相连的反洗泵，以及与所述反洗泵相连的反洗阀，所述反洗阀与所述过滤装置之间设有第二输水管。

3.根据权利要求1所述的插片机用水系统，其特征在于，所述硅片插片机与所述回用水池之间设有滤网。

4.根据权利要求1所述的插片机用水系统，其特征在于，所述回用水池和所述过滤装置之间设有第一水泵。

5.根据权利要求1所述的插片机用水系统，其特征在于，还包括与所述过滤装置连接的加药装置。

6.根据权利要求5所述的插片机用水系统，其特征在于，所述过滤装置还设有第二排污口，所述第二排污口连通至所述废水站。

7.根据权利要求1所述的插片机用水系统，其特征在于，所述储水器与所述硅片插片机之间设有第二水泵。

8.根据权利要求1所述的插片机用水系统，其特征在于，还包括与所述储水器连通的自来水口，所述自来水口设有控制阀。

9.一种硅片清洗系统，其特征在于，包括：

依次设置的硅片脱胶机，如权利要求1至8任一项所述的插片机用水系统，以及硅片清洗机；

其中，所述硅片脱胶机与所述硅片插片机相连。

10.根据权利要求9所述的硅片清洗系统，其特征在于，所述储水器与所述硅片脱胶机之间设有第三输水管。

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