JP6022431B2 - 基板液処理装置及び基板液処理方法 - Google Patents
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Description
102 第1タンク
104 第1循環ライン
110 第1ヒータ
112 第1分岐ライン
140 連通路
200 第2処理液供給機構
202 第2タンク
204 第2循環ライン
210 第2ヒータ
212 第2分岐ライン
300 液処理ユニット(処理部)
304 第1ノズル
306 第2ノズル
312 主回収ライン(回収ライン)
Claims (8)
- 処理液を貯留する第1タンクと、前記第1タンクに貯留された処理液を吐出する第1ノズルと、を有し、前記第1ノズルにより基板の第1面に処理液を供給する第1処理液供給機構と、
前記第1タンクに貯留された処理液と同じ組成の処理液を貯留する第2タンクと、前記第2タンクに貯留された処理液を吐出する第2ノズルと、を有し、前記第2ノズルにより基板の第2面に処理液を供給する第2処理液供給機構と、
前記第1ノズルおよび第2ノズルにより供給された処理液により基板に処理が行われる処理部と、
前記第1ノズルおよび第2ノズルから基板に供給された後に混ざり合った処理液を前記処理部から回収し、前記第2タンクに戻す回収ラインと、
を備え、
前記第1処理液供給機構は、前記第1ノズルから吐出される処理液の温度が第1温度になるように処理液を加熱する第1ヒータを有し、
前記第2処理液供給機構は、前記第2ノズルから吐出される処理液の温度が第2温度になるように処理液を加熱する第2ヒータを有し、
前記第2温度は前記第1温度よりも高い、
基板液処理装置。 - 前記第1面が基板の回路形成面であり、前記第2面がその裏面である、請求項1記載の基板液処理装置。
- 処理液を貯留する第1タンクと、前記第1タンクに貯留された処理液を吐出する第1ノズルと、を有し、前記第1ノズルにより基板の第1面に処理液を供給する第1処理液供給機構と、
前記第1タンクに貯留された処理液と同じ組成の処理液を貯留する第2タンクと、前記第2タンクに貯留された処理液を吐出する第2ノズルと、を有し、前記第2ノズルにより基板の第2面に処理液を供給する第2処理液供給機構と、
前記第1ノズルおよび第2ノズルにより供給された処理液により基板に処理が行われる処理部と、
前記第1ノズルおよび第2ノズルから基板に供給された後に混ざり合った処理液を前記処理部から回収し、前記第2タンクに戻す回収ラインと、
を備え、
前記第1面が基板の回路形成面であり、前記第2面が回路形成されていない面である、基板液処理装置。 - 処理液を貯留する第1タンクと、前記第1タンクに貯留された処理液を吐出する第1ノズルと、を有し、前記第1ノズルにより基板の第1面に処理液を供給する第1処理液供給機構と、
前記第1タンクに貯留された処理液と同じ組成の処理液を貯留する第2タンクと、前記第2タンクに貯留された処理液を吐出する第2ノズルと、を有し、前記第2ノズルにより基板の第2面に処理液を供給する第2処理液供給機構と、
前記第1ノズルおよび第2ノズルにより供給された処理液により基板に処理が行われる処理部と、
前記第1ノズルおよび第2ノズルから基板に供給された後に混ざり合った処理液を前記処理部から回収し、前記第2タンクに戻す回収ラインと、
を備え、
前記第1タンクと前記第2タンクが連通路により接続されており、前記第2タンク内の処理液の液位が所定高さ以上になったときに前記第2タンク内の処理液が前記連通路を介して前記第1タンク内に流入する、基板液処理装置。 - 前記第1処理液供給機構は、前記第1タンクから出て前記第1タンクに戻る第1循環ラインと、前記第1循環ラインから分岐して、前記第1循環ラインから前記第1ノズルに処理液を供給する第1分岐ラインを有し、
前記第2処理液供給機構は、前記第2タンクから出て前記第2タンクに戻る第2循環ラインと、前記第2循環ラインから分岐して、前記第2循環ラインから前記第2ノズルに処理液を供給する第2分岐ラインを有している、
請求項4記載の基板液処理装置。 - 前記第1タンク内において、前記第1循環ラインから処理液が戻される領域と前記第1循環ラインに処理液が送り出される領域との間の流路長さを延長するために、前記第1タンク内に邪魔板が設けられており、前記連通路は、前記第1循環ラインから処理液が戻されてくる領域に、前記第1タンク内の処理液を流入させる、請求項5記載の基板液処理装置。
- 第1タンクに貯留されている処理液を、第1温度で第1ノズルにより基板の第1面に供給することと、
前記第1タンクに貯留されている処理液と同じ組成を有する第2タンクに貯留されている処理液を、前記第1温度より高い第2温度で第2ノズルにより基板の第2面に供給することと、
前記第1ノズルおよび第2ノズルから基板に供給された後に混ざり合った処理液を回収して第2タンクに戻すことと、
それまで第2タンクにあった処理液と第2タンクに戻された処理液とを混合したものを、前記第1温度より高い前記第2温度で基板の第2面に供給することと、
を備え、
前記第1面が基板の回路形成面であり、前記第2面が回路形成されていない面である、基板液処理方法。 - 前記第2タンクに戻された処理液の一部が、前記第1タンクに送られる、請求項7記載の基板液処理方法。
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