JP4668079B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の一実施形態に係る基板処理装置1の構成を示した図である。この基板処理装置1は、処理槽10に貯留された処理液に複数枚の基板(以下、単に基板という。)Wを浸漬することにより、基板Wを処理するための装置である。基板処理装置1は、主として、処理槽10と、配管部20と、制御部40とを備えている。本実施形態では、処理液として燐酸(H3PO4)溶液を使用し、基板Wの表面にエッチング処理を行う場合について説明する。
続いて、上記構成を有する基板処理装置1の動作について説明する。まず、処理槽10において基板Wを処理しつつ、処理液中の不純物を連続的に除去する場合について、図3のフローチャートを参照しつつ説明する。なお、以下に説明する基板処理装置1の動作は、制御部40が、ヒータ13、リフタ、バルブV1〜V18、循環ポンプ22、ヒータ24、冷却機構25、ヒータ28a、冷却機構30a等の動作を制御することにより進行する。
続いて、上記の基板処理装置1において、基板Wを処理した後、一度に処理液中の不純物を除去する場合について、図5のフローチャートを参照しつつ説明する。なお、以下に説明する基板処理装置1の動作も、制御部40が、ヒータ13、リフタ、バルブV1〜V18、循環ポンプ22、ヒータ24、冷却機構25、ヒータ28a、冷却機構30a等の動作を制御することにより進行する。
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上記の例に限定されるものではない。例えば、上記の例では、処理液を再利用する場合のみについて説明したが、循環の途中で処理液の一部を排液し、新しい処理液を補充してもよい。具体的には、予備温調タンク28に処理液を回収した後、バルブV17を開放する。これにより、予備温調タンク28から配管21sを通って排液冷却タンク30aへ所定量の処理液を排液する。そして、バルブV15を開放し、処理液供給源31から配管21qを通って予備温調タンク28へ、処理液を補充する。これにより、不純物以外の要因による処理液の劣化を防止し、処理液の処理性能を維持できる。
10 処理槽
11 内槽
12 外槽
13 ヒータ
21a〜21t 配管
22 循環ポンプ
23 フィルタ
24 ヒータ
25 冷却機構
26,27 フィルタ
28 予備温調タンク
28a ヒータ
29 フィルタ洗浄液供給源
30 排液冷却タンク
30a 冷却機構
31 処理液供給源
40 制御部
V1〜V18 バルブ
W 基板
Claims (10)
- 基板を処理液により処理する基板処理装置であって、
基板を収納するとともに、処理液を貯留する処理槽と、
前記処理槽から排出された処理液を再度前記処理槽へ供給する冷却系循環経路と、
前記冷却系循環経路途中において処理液を冷却する冷却手段と、
前記冷却系循環経路途中の前記冷却手段よりも下流側において、処理液中に含まれる不純物を除去する不純物除去手段と、
を備え、
前記処理槽から排出された処理液を、前記冷却手段を介することなく、再度前記処理槽へ供給する非冷却循環経路と、
前記冷却系循環経路と前記非冷却循環経路とを切り替える第1切替手段と、
をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置であって、
前記冷却系循環経路途中の前記不純物除去手段よりも下流側において、処理液を加熱する加熱手段をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1または請求項2に記載の基板処理装置であって、
前記処理槽は、基板を収容するとともに、基板を処理する内槽と、前記内槽の上部外側に前記内槽からオーバーフローした処理液を受ける外槽とを備え、
前記冷却系循環経路は、前記外槽から排出された処理液を再度前記内槽へ供給することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1または請求項2に記載の基板処理装置であって、
前記冷却系循環経路は、前記処理槽の底部から処理液を再度前記処理槽へ供給することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1から請求項4までのいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記冷却系循環経路は、第1の循環経路と第2の循環経路とを備え、
前記第1の循環経路と前記第2の循環経路のそれぞれに、前記不純物除去手段が設けられ、
前記第1の循環経路と前記第2の循環経路とを切り替える第2切替手段を備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1から請求項5までのいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記不純物除去手段は、処理液中の不純物を濾し取るフィルタを備え、
前記フィルタを洗浄するフィルタ洗浄手段をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項6に記載の基板処理装置であって、
前記フィルタ洗浄手段は、不純物を溶解させるフィルタ洗浄液を前記フィルタへ供給するフィルタ洗浄液供給手段を備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項7に記載の基板処理装置であって、
前記冷却系循環経路途中の前記フィルタよりも下流側において、前記冷却系循環経路から分岐された排液経路と、
前記冷却系循環経路と前記排液経路とを切り替える排液切替手段と、
をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項6から請求項8までのいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記冷却系循環経路途中の前記フィルタよりも上流側において、処理液を供給する処理液供給手段をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項2に記載の基板処理装置であって、
前記冷却系循環経路途中の前記不純物除去手段よりも下流側において、処理液を貯留する処理液貯留槽をさらに備え、
前記加熱手段は、前記処理液貯留槽に貯留された処理液を加熱することを特徴とする基板処理装置。
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