JPH05331652A - 湿式成膜装置 - Google Patents
湿式成膜装置Info
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- JPH05331652A JPH05331652A JP16205492A JP16205492A JPH05331652A JP H05331652 A JPH05331652 A JP H05331652A JP 16205492 A JP16205492 A JP 16205492A JP 16205492 A JP16205492 A JP 16205492A JP H05331652 A JPH05331652 A JP H05331652A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 成膜形成が阻害されることなく、連続成膜を
行うことができる湿式成膜装置を提供すること。 【構成】 １つの槽１の中に別の槽３を設置し、処理液
２を循環ポンプ２０により循環させ、処理液２がウエハ
５面を流動する間にウエハ５の面上に薄膜を形成させる
ようにした湿式成膜装置において、循環ポンプ２０と槽
３を結ぶ配管途中に２系列のフィルタ２２，２３を並列
に設置し、タイマー信号或いはフィルタづまりを知らせ
る信号により処理液が通過するフィルタが交互に切り換
えられるように構成し、処理液が通過しなくなったフィ
ルタに先ず洗浄液を、次に純水を流し、最後にＮ2ガス
或いは清浄空気を順次通過させる洗浄手段を設けた。
行うことができる湿式成膜装置を提供すること。 【構成】 １つの槽１の中に別の槽３を設置し、処理液
２を循環ポンプ２０により循環させ、処理液２がウエハ
５面を流動する間にウエハ５の面上に薄膜を形成させる
ようにした湿式成膜装置において、循環ポンプ２０と槽
３を結ぶ配管途中に２系列のフィルタ２２，２３を並列
に設置し、タイマー信号或いはフィルタづまりを知らせ
る信号により処理液が通過するフィルタが交互に切り換
えられるように構成し、処理液が通過しなくなったフィ
ルタに先ず洗浄液を、次に純水を流し、最後にＮ2ガス
或いは清浄空気を順次通過させる洗浄手段を設けた。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体ウエハ表面に処理
液を流し膜を形成する湿式成膜装置に関するものであ
る。
液を流し膜を形成する湿式成膜装置に関するものであ
る。
【０００２】
【従来技術】従来、この種の装置としては、特開平２−
１６７８１２号公報等々に開示されたものがあった。図
２は従来の湿式成膜装置のシステム構成を示す図であ
る。図２において、槽１は１つの槽であり、この中には
別の槽３が設置されている。６は洗浄液槽、７，８，９
は切換弁、２２は第１のフィルタ、２３は第２のフィル
タである。循環ポンプ２０により、処理液２を第１のフ
ィルタ２２或いは第２のフィルタ２３を通して槽３へ流
入させている。処理液２は槽３の上部からオーバーフロ
ーして槽１へ戻るように循環する。この間に槽３内に収
納されたカートリッヂ２４内のウエハ５の面上に薄膜が
形成される。
１６７８１２号公報等々に開示されたものがあった。図
２は従来の湿式成膜装置のシステム構成を示す図であ
る。図２において、槽１は１つの槽であり、この中には
別の槽３が設置されている。６は洗浄液槽、７，８，９
は切換弁、２２は第１のフィルタ、２３は第２のフィル
タである。循環ポンプ２０により、処理液２を第１のフ
ィルタ２２或いは第２のフィルタ２３を通して槽３へ流
入させている。処理液２は槽３の上部からオーバーフロ
ーして槽１へ戻るように循環する。この間に槽３内に収
納されたカートリッヂ２４内のウエハ５の面上に薄膜が
形成される。
【０００３】上記構成のプロセスにおいて、最初に処理
液が第１のフィルタ２２を通って流れていた場合、第２
のフィルタ２３にはポンプ１９により洗浄液が洗浄液槽
６より汲みだされ弁１２を通って流れ込み、該第２のフ
ィルタ２３を洗浄し、切換弁７の“Ａ”ポジションを通
り、弁１８或いは弁１７を通して他所１４へ流れ出てい
く。
液が第１のフィルタ２２を通って流れていた場合、第２
のフィルタ２３にはポンプ１９により洗浄液が洗浄液槽
６より汲みだされ弁１２を通って流れ込み、該第２のフ
ィルタ２３を洗浄し、切換弁７の“Ａ”ポジションを通
り、弁１８或いは弁１７を通して他所１４へ流れ出てい
く。
【０００４】第２のフィルタ２３が一定時間洗浄される
と、洗浄ポンプは停止し、弁１２を閉じる。洗浄の終了
した第２のフィルタ２３は、次に処理液が切り換えら
れ、流れこんでくるまで待機している。この場合第２の
フィルタ２３の中及び切換弁７を経て弁１７，１８に至
る管路中の洗浄液は自然落下して無くなる。
と、洗浄ポンプは停止し、弁１２を閉じる。洗浄の終了
した第２のフィルタ２３は、次に処理液が切り換えら
れ、流れこんでくるまで待機している。この場合第２の
フィルタ２３の中及び切換弁７を経て弁１７，１８に至
る管路中の洗浄液は自然落下して無くなる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記のように従来の湿
式成膜装置においては、第１のフィルタ２２と第２のフ
ィルタ２３が２系列並行に設置されており、フィルタづ
まりを起こした場合処理液が流れる方向が切り換えら
れ、フィルタづまりを起こした方に洗浄液が流れ、フィ
ルタづまりを解消して、次の切り換えで処理液が流れて
くるのを待つが、この場合フィルタ、管路中に洗浄液が
残っており、これが処理液に混入するとウエハ面の薄膜
形成が著しく阻害されることがあった。
式成膜装置においては、第１のフィルタ２２と第２のフ
ィルタ２３が２系列並行に設置されており、フィルタづ
まりを起こした場合処理液が流れる方向が切り換えら
れ、フィルタづまりを起こした方に洗浄液が流れ、フィ
ルタづまりを解消して、次の切り換えで処理液が流れて
くるのを待つが、この場合フィルタ、管路中に洗浄液が
残っており、これが処理液に混入するとウエハ面の薄膜
形成が著しく阻害されることがあった。
【０００６】本発明は上述の点に鑑みてなされたもの
で、フィルタづまりを除去するためフィルタに洗浄液を
流した後、該フィルタに順次純水、Ｎ2ガス或いは空気
を流し、洗浄されたフィルタを含む管路中の洗浄液を完
全に洗い流し、Ｎ2ガス或いは空気により乾燥させて、
次の切り換えで処理液が流れてくるまで待機することに
より、成膜形成が阻害されることなく、連続成膜を行う
ことができる湿式成膜装置を提供することを目的とす
る。
で、フィルタづまりを除去するためフィルタに洗浄液を
流した後、該フィルタに順次純水、Ｎ2ガス或いは空気
を流し、洗浄されたフィルタを含む管路中の洗浄液を完
全に洗い流し、Ｎ2ガス或いは空気により乾燥させて、
次の切り換えで処理液が流れてくるまで待機することに
より、成膜形成が阻害されることなく、連続成膜を行う
ことができる湿式成膜装置を提供することを目的とす
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
本発明は、１つの槽の中に別の槽を設置し、外側の槽の
処理液を循環ポンプにより内側の槽に送り、内側の槽か
ら外側の槽へオーバーフローさせて処理液を循環させ、
内側の槽にウエハを設置し、処理液が該ウエハ面を流動
する間にウエハ面上に薄膜を形成させるようにした湿式
成膜装置において、循環ポンプと内側の槽を結ぶ配管途
中に２系列のフィルタを並列に設置し、タイマー信号或
いはフィルタづまりを知らせる信号により処理液が通過
するフィルタが交互に切り換えられるように構成し、該
処理液が通過しなくなったフィルタに先ず洗浄液を、次
に純水を流し、最後にＮ2ガス或いは清浄空気を順次通
過させる洗浄乾燥手段を設けたことを特徴とする。
本発明は、１つの槽の中に別の槽を設置し、外側の槽の
処理液を循環ポンプにより内側の槽に送り、内側の槽か
ら外側の槽へオーバーフローさせて処理液を循環させ、
内側の槽にウエハを設置し、処理液が該ウエハ面を流動
する間にウエハ面上に薄膜を形成させるようにした湿式
成膜装置において、循環ポンプと内側の槽を結ぶ配管途
中に２系列のフィルタを並列に設置し、タイマー信号或
いはフィルタづまりを知らせる信号により処理液が通過
するフィルタが交互に切り換えられるように構成し、該
処理液が通過しなくなったフィルタに先ず洗浄液を、次
に純水を流し、最後にＮ2ガス或いは清浄空気を順次通
過させる洗浄乾燥手段を設けたことを特徴とする。
【０００８】
【作用】本発明は湿式成膜装置を上記の如く構成するこ
とにより、フィルタづまりを除去するためフィルタに洗
浄液を流して洗浄した後、該フィルタに順次純水、Ｎ2
ガス或いは空気を流し、洗浄されたフィルタを含む管路
中の洗浄液を完全に洗い流し、Ｎ2ガス或いは清浄空気
により乾燥させて、次の切り換えで処理液が流れてくる
まで待機することにより、洗浄液が処理液に混入するこ
となく、ウエハ面の薄膜形成が阻害されることがない。
従って、連続成膜が可能となる。
とにより、フィルタづまりを除去するためフィルタに洗
浄液を流して洗浄した後、該フィルタに順次純水、Ｎ2
ガス或いは空気を流し、洗浄されたフィルタを含む管路
中の洗浄液を完全に洗い流し、Ｎ2ガス或いは清浄空気
により乾燥させて、次の切り換えで処理液が流れてくる
まで待機することにより、洗浄液が処理液に混入するこ
となく、ウエハ面の薄膜形成が阻害されることがない。
従って、連続成膜が可能となる。
【０００９】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。図１は本発明の湿式成膜装置の構成を示す図であ
る。本湿式成膜装置は図２の湿式成膜装置と殆ど同じで
ある。先ず槽１の中に槽３が設置されており、この槽３
の中に成膜されるウエハ５が入ったカートリッヂ２４が
浸漬してある。４は温調器で処理液２の温度を一定にし
ている。処理液２は循環ポンプ２０によりフローメータ
２１を通り、切換弁８或いは９により切り換えられて第
１のフィルタ系統２２’か第２のフィルタ系統２３’ど
ちらかを通り、切換弁７（四方切換弁）を通って、槽３
の底部へ流れ込みウエハ５の面上を通り、槽３の上部で
オーバーフローして槽１へ戻るように循環している。
する。図１は本発明の湿式成膜装置の構成を示す図であ
る。本湿式成膜装置は図２の湿式成膜装置と殆ど同じで
ある。先ず槽１の中に槽３が設置されており、この槽３
の中に成膜されるウエハ５が入ったカートリッヂ２４が
浸漬してある。４は温調器で処理液２の温度を一定にし
ている。処理液２は循環ポンプ２０によりフローメータ
２１を通り、切換弁８或いは９により切り換えられて第
１のフィルタ系統２２’か第２のフィルタ系統２３’ど
ちらかを通り、切換弁７（四方切換弁）を通って、槽３
の底部へ流れ込みウエハ５の面上を通り、槽３の上部で
オーバーフローして槽１へ戻るように循環している。
【００１０】洗浄液槽６の中には洗浄液が充填されてお
り、該洗浄液はポンプ１９により弁１２を通り、切換弁
８或いは９により切り換えられた第１のフィルタ系統２
２’或いは第２のフィルタ系統２３’へ流れる。第１の
フィルタ系統２２’或いは第２のフィルタ系統２３’を
出た後は、切換弁７により切り換えられ、弁１７或いは
弁１８を通って他所１４へ流れて行く。
り、該洗浄液はポンプ１９により弁１２を通り、切換弁
８或いは９により切り換えられた第１のフィルタ系統２
２’或いは第２のフィルタ系統２３’へ流れる。第１の
フィルタ系統２２’或いは第２のフィルタ系統２３’を
出た後は、切換弁７により切り換えられ、弁１７或いは
弁１８を通って他所１４へ流れて行く。
【００１１】１５は純水の供給口を示す。該純水の供給
口１５から、ある程度の圧力を持った純水が弁１０を通
り、切換弁８或いは切換弁９により切り換えられて第１
のフィルタ系統２２’或いは第２のフィルタ系統２３’
へ流れるようになっている。後は洗浄液と同じように切
換弁７を通って弁１７或いは弁１８より外へ出ていく。
口１５から、ある程度の圧力を持った純水が弁１０を通
り、切換弁８或いは切換弁９により切り換えられて第１
のフィルタ系統２２’或いは第２のフィルタ系統２３’
へ流れるようになっている。後は洗浄液と同じように切
換弁７を通って弁１７或いは弁１８より外へ出ていく。
【００１２】１６はＮ2ガス或いは清浄な空気の供給口
を示し、該供給口１６よりある程度の圧力を持ったＮ2
ガス或いは清浄な空気が弁１１を通り、前述の洗浄液と
同じ経路をたどって外部へ出ていく。弁１０，１１，１
２は必ず１ケ所しか開かないので、洗浄液、純水、Ｎ2
ガス或いは清浄な空気は混ざりあうことがない。
を示し、該供給口１６よりある程度の圧力を持ったＮ2
ガス或いは清浄な空気が弁１１を通り、前述の洗浄液と
同じ経路をたどって外部へ出ていく。弁１０，１１，１
２は必ず１ケ所しか開かないので、洗浄液、純水、Ｎ2
ガス或いは清浄な空気は混ざりあうことがない。
【００１３】次に上記構成の湿式成膜装置のプロセス
（動作）について説明する。処理液２が循環ポンプ２０
により、第１のフィルタ系統２２’を通って流れてお
り、ある時間経過すると、第１のフィルタ系統２２’が
閉塞（目づまり）し始め、それによって循環ポンプ２０
の吐出量が減少し始める。この吐出量の減少をフローメ
ータ２１が検出し、その値がある値に達すると、信号
（フィルタづまりを知らせる信号）を発し、切換弁８或
いは９が切り換わって処理液２は第２のフィルタ系統２
３’を通って流れるようになる。槽３の中の処理液２に
浸漬されているカートリッヂ２４中のウエハ５の面上に
は連続して処理液が流れ、成膜作用を続ける。
（動作）について説明する。処理液２が循環ポンプ２０
により、第１のフィルタ系統２２’を通って流れてお
り、ある時間経過すると、第１のフィルタ系統２２’が
閉塞（目づまり）し始め、それによって循環ポンプ２０
の吐出量が減少し始める。この吐出量の減少をフローメ
ータ２１が検出し、その値がある値に達すると、信号
（フィルタづまりを知らせる信号）を発し、切換弁８或
いは９が切り換わって処理液２は第２のフィルタ系統２
３’を通って流れるようになる。槽３の中の処理液２に
浸漬されているカートリッヂ２４中のウエハ５の面上に
は連続して処理液が流れ、成膜作用を続ける。
【００１４】一方、閉塞した第１のフィルタ系統２２’
には、その後、洗浄ポンプ１９が運転開始し、弁１２が
開いて、洗浄液槽６の中の洗浄液は切換弁８を通って、
該第１のフィルタ系統２２’へ流れ込み、フィルタの閉
塞部分を洗浄して切換弁７を通り、弁１７或いは１８を
通って外部へ出ていく。一定時間経過後にフィルタの閉
塞部が完全に洗浄し終わると、弁１２は閉じて弁１０が
開いて、純水の供給口１５より純水が入り、第１のフィ
ルタ系統２２’及びそれから後の管路中に残留する洗浄
液を洗い流す。一定時間の経過後、弁１０は閉じ、弁１
１が開き、供給口１６よりＮ2ガス或いは清浄な空気が
吹き込み、第１のフィルタ系統２２’及びそれから後の
管路中に残留する純水を吹き飛ばし、乾燥させる。そし
て一定時間経過後弁１１が閉じる。この動作により、第
１のフィルタ系統２２’を含む管路は完全に浄化され
て、次の処理液２が流れ込んでくるまで、その状態で待
機していることになる。
には、その後、洗浄ポンプ１９が運転開始し、弁１２が
開いて、洗浄液槽６の中の洗浄液は切換弁８を通って、
該第１のフィルタ系統２２’へ流れ込み、フィルタの閉
塞部分を洗浄して切換弁７を通り、弁１７或いは１８を
通って外部へ出ていく。一定時間経過後にフィルタの閉
塞部が完全に洗浄し終わると、弁１２は閉じて弁１０が
開いて、純水の供給口１５より純水が入り、第１のフィ
ルタ系統２２’及びそれから後の管路中に残留する洗浄
液を洗い流す。一定時間の経過後、弁１０は閉じ、弁１
１が開き、供給口１６よりＮ2ガス或いは清浄な空気が
吹き込み、第１のフィルタ系統２２’及びそれから後の
管路中に残留する純水を吹き飛ばし、乾燥させる。そし
て一定時間経過後弁１１が閉じる。この動作により、第
１のフィルタ系統２２’を含む管路は完全に浄化され
て、次の処理液２が流れ込んでくるまで、その状態で待
機していることになる。
【００１５】第２のフィルタ系統２３’が閉塞して、第
１のフィルタ系統２２’に切り換わると、該第１のフィ
ルタ系統２２’を含む管路が完全に浄化されているの
で、処理液２にはなんの障害が起こらず、そのまま槽３
へ流れ込みウエハ５面上の成膜作用を連続して続けるこ
とができる。このフィルタの切り換えを３〜４回繰り返
して、１ロッドのウエハの成膜が完了することになる。
１のフィルタ系統２２’に切り換わると、該第１のフィ
ルタ系統２２’を含む管路が完全に浄化されているの
で、処理液２にはなんの障害が起こらず、そのまま槽３
へ流れ込みウエハ５面上の成膜作用を連続して続けるこ
とができる。このフィルタの切り換えを３〜４回繰り返
して、１ロッドのウエハの成膜が完了することになる。
【００１６】上記のように、第１のフィルタ系統２２’
或いは第２のフィルタ系統２３’の洗浄、純水による洗
い流し、Ｎ2ガス或いは清浄な空気による乾燥にかかる
時間は、処理液２によって第１のフィルタ系統２２’或
いは第２のフィルタ系統２３’が閉塞していって流量が
ある値まで減少するまでの時間より短いので問題はな
い。
或いは第２のフィルタ系統２３’の洗浄、純水による洗
い流し、Ｎ2ガス或いは清浄な空気による乾燥にかかる
時間は、処理液２によって第１のフィルタ系統２２’或
いは第２のフィルタ系統２３’が閉塞していって流量が
ある値まで減少するまでの時間より短いので問題はな
い。
【００１７】
【発明の効果】以上、説明したように本発明によればウ
エハ面上を流れる処理液が洗浄液等によって汚染される
ことなく、連続して流れるので、成膜形成が阻害される
ことなく、生産効率の向上及び薄膜の均一性を良好にで
きるという優れた効果が得られる。
エハ面上を流れる処理液が洗浄液等によって汚染される
ことなく、連続して流れるので、成膜形成が阻害される
ことなく、生産効率の向上及び薄膜の均一性を良好にで
きるという優れた効果が得られる。
【図１】本発明の湿式成膜装置の構成を示す図である。
【図２】従来の湿式成膜装置の構成を示す図である。
１ 槽 ２ 処理液 ３ 槽 ４ 温調器 ５ ウエハ ６ 洗浄液槽 ７ 切換弁 ８ 切換弁 ９ 切換弁 １０ 弁 １１ 弁 １２ 弁 １３ 洗浄液供給口 １４ 他所 １５ 純水の供給口 １６ Ｎ2ガス或いは清浄な空気の供給口 １７ 弁 １８ 弁 １９ 洗浄ポンプ ２０ 循環ポンプ ２１ フローメータ ２２’ 第１のフィルタ系統 ２３’ 第２のフィルタ系統
Claims (1)
- 【請求項１】 １つの槽の中に別の槽を設置し、外側の
槽の処理液を循環ポンプにより内側の槽に送り、内側の
槽から外側の槽へオーバーフローさせて処理液を循環さ
せ、前記内側の槽にウエハを設置し、前記処理液が該ウ
エハ面を流動する間にウエハ面上に薄膜を形成させるよ
うにした湿式成膜装置において、 前記循環ポンプと前記内側の槽を結ぶ配管途中に２系列
のフィルタを並列に設置し、タイマー信号或いはフィル
タづまりを知らせる信号により前記処理液が通過するフ
ィルタが交互に切り換えられるように構成し、 該処理液が通過しなくなったフィルタに先ず洗浄液を、
次に純水を流し、最後にＮ2ガス或いは清浄空気を順次
通過させる洗浄乾燥手段を設けたことを特徴とする湿式
成膜装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16205492A JPH05331652A (ja) | 1992-05-28 | 1992-05-28 | 湿式成膜装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16205492A JPH05331652A (ja) | 1992-05-28 | 1992-05-28 | 湿式成膜装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05331652A true JPH05331652A (ja) | 1993-12-14 |
Family
ID=15747224
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16205492A Pending JPH05331652A (ja) | 1992-05-28 | 1992-05-28 | 湿式成膜装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05331652A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007201330A (ja) * | 2006-01-30 | 2007-08-09 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
| KR100929809B1 (ko) * | 2001-08-20 | 2009-12-07 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판처리장치 |
| US8141567B2 (en) * | 2006-01-20 | 2012-03-27 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Apparatus and method for photoresist removal processing |
| JP2017132035A (ja) * | 2013-10-23 | 2017-08-03 | 株式会社荏原製作所 | 研磨方法および研磨装置 |
-
1992
- 1992-05-28 JP JP16205492A patent/JPH05331652A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100929809B1 (ko) * | 2001-08-20 | 2009-12-07 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판처리장치 |
| US8141567B2 (en) * | 2006-01-20 | 2012-03-27 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Apparatus and method for photoresist removal processing |
| JP2007201330A (ja) * | 2006-01-30 | 2007-08-09 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
| JP4668079B2 (ja) * | 2006-01-30 | 2011-04-13 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
| JP2017132035A (ja) * | 2013-10-23 | 2017-08-03 | 株式会社荏原製作所 | 研磨方法および研磨装置 |
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