JP3142195B2 - 薬液供給装置 - Google Patents

薬液供給装置

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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、薬液供給装置に関
し、詳しくは、半導体ウェハや液晶パネル用のガラス基
板といった基板の処理に用いられる処理槽や処理室等の
処理部に薬液を供給する薬液供給装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば、半導体ウェハ等の基板に対して
各種処理を施す基板処理装置の一つとして基板を洗浄す
る基板洗浄装置がある。この基板洗浄装置においては、
塩酸、アンモニア水等の薬液を蓄える処理槽が用意され
ており、基板をこの処理槽の中に浸すことにより、基板
の洗浄が行なわれる。こうした基板洗浄装置では、複数
種の薬液を個別に貯留する複数の貯留タンクが予め用意
されており、必要に応じて所望の貯留タンクから処理槽
に薬液を移すことにより、処理槽への薬液の供給を図っ
ている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述し
た薬液供給の構成では、薬液は、貯留タンクに貯留され
るまでに輸送、保管、移し替え等の作業を既に経てきて
いることから、微粒子が含まれたり、また金属汚染され
ている可能性が高く、その清浄度が十分でない。これに
対して、基板洗浄装置では、半導体ウェハ等の基板を直
接薬液中に浸すため、薬液自身の清浄度が大きな問題で
ある。このため、前記従来の技術では、その薬液に含ま
れる微粒子や金属汚染物等が基板洗浄の際に基板表面に
付着して、基板洗浄の処理を不完全なものとしていた。
【０００４】なお、薬液中の微粒子を除去するために、
通常、薬液はフィルタによりろ過されて用いられるが、
この構成でも、近年の基板の高密度化を考え併せると、
充分な清浄度を得ることができなかった。
【０００５】そこで、薬液の清浄度を高める課題を回避
することを目的として、アンモニア，塩化水素等のガス
とミスト状の純水とを混合して直接基板に吹き付ける洗
浄装置が提案されている（特開昭６２−２１３１２７号
公報）。しかしながら、この洗浄装置は、ガスとミスト
状の純水とを混合して薬液を合成するものであることか
ら、薬液の濃度を均一にするのが難しかった。このた
め、基板に対して均一な処理、この場合、均一な基板洗
浄を施すことができなかった。
【０００６】この発明の薬液供給装置は、従来技術にお
ける上述した課題を解決するためになされたもので、薬
液の清浄度の向上と濃度の均一化との両立を図り、延い
ては、基板洗浄、エッチング等の基板処理の品質を高め
ることを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るため、前記課題を解決するための手段として、この発
明の薬液供給装置は、次の構成をとった。即ち、この発
明の第１の薬液供給装置は、基板処理に用いられる薬液
を供給する薬液供給装置であって、基板の処理槽と、前
記処理槽に設けられる入口と出口とを結んで循環路を形
成する循環用管路と、前記循環用管路中に純水を供給す
る純水供給手段と、前記循環用管路中の液体に対して前
記薬液の元となるガスを供給するガス供給手段と、前記
循環用管路中を流れる液体の濃度を検出する液体濃度検
出手段と、前記液体濃度検出手段により検出された液体
の濃度に基づいて前記ガス供給手段による供給量を制御
する制御手段とを備えることを要旨としている。この発
明の第２の薬液供給装置は、基板処理に用いられる薬液
を供給する薬液供給装置であって、基板の処理部に薬液
を転送可能な補助槽と、前記補助槽に設けられる入口と
出口とを結んで循環路を形成する循環用管路と、前記循
環用管路中に純水を供給する純水供給手段と、前記循環
用管路中の液体に対して前記薬液の元となるガスを供給
するガス供給手段と、前記循環用管路中を流れる液体の
濃度を検出する液体濃度検出手段と、前記液体濃度検出
手段により検出された液体の濃度に基づいて前記ガス供
給手段による供給量を制御する制御手段とを備えること
を要旨としている。
【０００８】なお、上記第１の薬液供給装置および第２
の薬液供給装置において、前記ガス供給手段は、前記循
環用管路に接続されるガス供給用管路を備え、前記薬液
供給装置は、さらに、前記ガス供給用管路中に不活性ガ
スを供給する不活性ガス供給手段を備えた構成とするこ
とができる。さらに、上記第１の薬液供給装置および第
２の薬液供給装置において、前記液体濃度検出手段は、
光源と、該光源からの光を、第１の方向と、前記循環用
管路中の液体を通過する第２の方向とに分配する光分配
手段と、該光分配手段で第１の方向に分配された光の信
号を電気信号に変換する第１光センサと、前記光分配手
段で第２の方向に分配され、前記循環用管路中の液体を
通過した光の信号を電気信号に変換する第２光センサ
と、前記第１光センサと第２光センサから出力された電
気信号に基づき前記循環用管路中を流れる液体の吸光度
を算出し、該算出された吸光度に基づいて前記循環用管
路中を流れる液体の濃度を算出する濃度算出手段とを備
えた構成とすることができる。
【０００９】
【作用】以上のように構成されたこの発明の第１の薬液
供給装置によれば、純水供給手段により所定量の純水が
循環路を形成する循環用管路中に供給される。さらに、
その循環用管路中の純水を含む液体に対して、ガス供給
手段により薬液の元となるガスが供給される。そして、
循環用管路中を流れる液体の濃度を液体濃度検出手段に
より検出し、その液体の濃度に基づいてガス供給手段に
よる供給量を制御する。この結果、その純水は薬液の元
となるガスが所望の濃度に混合したものとなり、薬液と
して処理槽に蓄えられる。
【００１０】この処理槽に蓄えられた薬液は、貯留され
る直前に生成されたものであることから、汚染、劣化の
恐れが極めて少ない。また、一般に気体に対するフィル
タの微粒子捕獲能率は、液体に対するそれよりも優れて
いることから、ガス供給手段から供給されたガスに対し
てフィルタをかけることで、合成される薬液に含まれる
微粒子を純水供給手段から供給される純水のレベルまで
低減することができる。さらに、循環している液体の中
にガスを供給するのであるから、薬液濃度を均一なもの
とすることができる。この薬液濃度は所望の濃度とな
る。この発明の第２の薬液供給装置によれば、上記第１
の薬液供給装置と同様の作用により、処理槽に替えて補
助槽に薬液を一旦蓄えることができる。補助槽に蓄えら
れる薬液は、上記第１の薬液供給装置と同様に、汚染、
劣化の恐れが極めて少なく、さらに均一な濃度となる。
この薬液濃度は所望の濃度となる。
【００１１】
【００１２】
【実施例】以上説明したこの発明の構成・作用を一層明
らかにするために、以下この発明の好適な実施例につい
て説明する。図１は本発明の薬液供給装置を備える第１
実施例としての基板洗浄装置の概略構成図である。
【００１３】図１に示すように、この基板洗浄装置は、
石英ガラスからなり薬液を貯留可能な処理槽１と、処理
槽１の外周に設けられ処理槽１から溢れ出た薬液を受け
るオーバフロー槽３と、オーバフロー槽３の薬液を処理
槽１に戻す循環系５と、循環系５に純水を供給する純水
供給系７と、循環系５に塩化水素ガス（ＨＣｌ）や窒素
ガス（Ｎ2 ）を供給するガス供給系９を備える。
【００１４】循環系５は、オーバフロー槽３の底壁に設
けられた薬液の流出口３ａを始点とし、処理槽１の内部
に設けられたアップフロー管１ａ，１ｂを終点とする管
路１１から構成されている。この管路１１の途中には、
オーバフロー槽３側から順にポンプ１３，フィルタ１
５，混合ユニット１７および開閉バルブ１９が設けられ
ている。なお、アップフロー管１ａ，１ｂは、長手方向
に複数の孔をあけたパイプ形状のもので、管路１１を循
環してきた薬液を処理槽１内にシャワー状に噴射する。
【００１５】混合ユニット１７は、液体の流れの中にガ
スを混合させるもので、ここではその詳しい構成につい
てまず説明する。混合ユニット１７は、図２に示すよう
に、基台２１を備え、基台２１上にキャップ２３を形成
し、さらに、多数の充填物２５を詰めた筒状の充填塔２
７をキャップ２３の内部に設けたものである。基台２１
には、液体の流入口１７ａと流出口１７ｂと、ガスの流
入口１７ｃとを備え、キャップ２３の上部にはガスの流
出口１７ｄを備えている。
【００１６】こうした混合ユニット１７では、液体流入
口１７ａから液体が流入されると、その液体は充填塔２
７内に導かれる。充填塔２７は前述したように多数の充
填物２５が詰められたものであるが、ここでいう充填物
２５とは、大きさが２５〜５０［ｍｍ］ぐらいの大きな
表面積をもつ個体で、例えば、図３に示すラシヒリング
と呼ばれる形状の物、あるいは、図４に示すレッシング
リングと呼ばれる形状の物が知られている。充填塔２７
内に導かれた液体は、充填物２５により分散されつつそ
の充填塔２７内に蓄えられる。
【００１７】一方、ガス流入口１７ｃからガスが流入さ
れると、そのガスは充填塔２７内に導かれ、前述した分
散された液体と接触する。こうしてガスは液体と混合
し、そのガスが混じった液体、即ち薬液が合成される。
その後、その薬液は、充填塔２７から溢れ出てキャップ
２３内に一旦貯留された上で、液体流出口１７ｂから混
合ユニット１７外に送り出される。
【００１８】前述した構成の混合ユニット１７は、循環
系５においては、図１に示すように、液体流入口１７ａ
にフィルタ１５側の管路１１が接続されており、液体流
出口１７ｂに開閉バルブ１９側の管路１１が接続されて
いる。
【００１９】次に、純水供給系７について説明する。純
水供給系７は、純水供給口３０を備え、その純水供給口
３０から循環系５の開閉バルブ１９の下流側に接続され
る管路３１を備える。なお、管路３１の途中には開閉バ
ルブ３３を備えている。この開閉バルブ３３の開閉によ
り、循環系５への純水の供給が実行または停止される。
【００２０】次に、ガス供給系９について説明する。ガ
ス供給系９は、塩化水素ガス供給口４０に接続された第
１ガス管路４１と、窒素ガス供給口５０に接続された第
２ガス管路５１とを備え、両管路４１，５１は一経路に
合流されて混合ユニット１７のガス流入口１７ｃに接続
されている。なお、第１ガス管路４１には、その上流側
から順に、流圧を所定の圧力に制限するレギュレータ４
３と、圧力を測定する圧力計４５と、外部からの指令に
応じて流量の制御を行なうマスフローコントローラ（ma
ssflow controller ：以下、ＭＳＦと呼ぶ）４７と、開
閉バルブ４９とが設けられている。また、第２ガス管路
５１にも、同様に、レギュレータ５３，圧力計５５，Ｍ
ＳＦ５７および開閉バルブ５９が設けられている。さら
に、両管路４１，５１の合流後の管路６１には、上流側
から順に、チェックバルブ６３およびフィルタ６５が設
けられている。
【００２１】こうして構成されたガス供給系９によれ
ば、第１ガス管路４１側の開閉バルブ４９を開状態と
し、第２ガス管路５１側の開閉バルブ５９を閉状態とす
ることで、塩化水素ガスを混合ユニット１７のガス流入
口１７ｃに供給する。このガスは、混合ユニット１７に
より循環系５の純水に混合されて、過剰分はガス流出口
１７ｄから排出される。一方、第２ガス管路５１側の開
閉バルブ５９は、必要に応じて開状態として、窒素ガス
を上記塩化水素ガスの流れに合流させる。この結果、塩
化水素ガスは窒素ガスにより希薄されて混合条件が制御
される。なお、窒素ガスは管路６１のパージングにも利
用される。
【００２２】さらに、この実施例の基板洗浄装置は、前
述してきた管路構成の他に、ＭＳＦ４７等の各種アクチ
ュエータを制御する制御系７０を備える。この制御系７
０は、管路１１の開閉バルブ１９より下流側に設けられ
た薬液濃度センサ７１と、薬液濃度センサ７１の検出信
号を受けてＭＳＦ４７に制御信号を出力する電子制御ユ
ニット（以下、ＥＣＵと呼ぶ）７３を備えている。
【００２３】薬液濃度センサ７１は、管路１１内にｐＨ
ガラス電極を設けて、液中のｐＨ値を検出するものであ
る。ＥＣＵ７３は、マイクロコンピュータを中心とする
論理演算回路として構成されるものである。ＥＣＵ７３
によって、薬液濃度センサ７１の検出信号に応じてＭＳ
Ｆ４７が駆動制御され、薬液の濃度制御が行なわれる。
【００２４】次に、ＥＣＵ７３により実行される薬液濃
度制御処理について、図５のフローチャートに沿って説
明する。なお、この薬液濃度制御処理は所定時間毎に繰
り返し実行されるものである。
【００２５】ＥＣＵ７３は、処理が開始されると、ま
ず、薬液濃度センサ７１の検出信号Ｓを入力し（ステッ
プＳ１００）、その検出信号Ｓから薬液の濃度Ｄを算出
する（ステップＳ１１０）。次いで、薬液の目標濃度Ｄ
ｔａｒｇとステップＳ１１０で算出された薬液濃度Ｄと
の偏差△Ｄを算出する（ステップＳ１２０）。なお、目
標濃度Ｄｔａｒｇは、制御対象となる薬液の種類（この
実施例においては塩酸）に応じて予め定められたもので
ある。続いて、その偏差△Ｄに応じてＭＳＦ４７の開閉
量ＧＭＳＦを算出する（ステップＳ１３０）。この偏差
△Ｄと開閉量ＧＭＳＦとの関係は、図６に示すように比
例関係を示し、ステップＳ１３０では、この比例関係を
示すマップ（ＥＣＵ７３内部のＲＯＭに予め記憶）を検
索することにより、偏差△Ｄに応じた開閉量ＧＭＳＦを
求めている。
【００２６】ステップＳ１３０で開閉量ＧＭＳＦが算出
されると、続いて、その開閉量ＧＭＳＦに相当する制御
信号をＭＳＦ４７に出力する（ステップＳ１４０）。そ
の後、「リターン」に抜けて、この処理ルーチンを一旦
終了する。
【００２７】このように構成された薬液濃度制御処理に
より、薬液濃度センサ７１の検出信号Ｓから求められた
薬液の濃度Ｄが、予め定められた目標濃度Ｄｔａｒｇに
一致するように制御される。なお、上述した薬液濃度制
御処理においては、薬液濃度制御をＰ制御により行って
いるが、これをＰＩＤ制御により行うようにしてもよ
い。
【００２８】以上のように構成されたこの実施例の動作
について次に説明する。まず、純水供給系７における開
閉バルブ３３を開状態とし、循環系５の開閉バルブ１９
を閉状態として、純水供給口３０からの純水を処理槽１
に供給する。この結果、処理槽１には純水が貯留され
る。その後、処理槽１が一杯になると、開閉バルブ３３
を閉状態に、開閉バルブ１９を開状態にそれぞれ切り換
える。そうすると、循環系５の管路１１が閉じて、ポン
プ１３により処理槽１の純水は循環系５内を循環する。
【００２９】続いて、ガス供給系９における開閉バルブ
４９を開いて、塩化水素ガス供給口４０からの塩化水素
ガスを循環系５内の混合ユニット１７に供給する。この
結果、その塩化水素ガスは混合ユニット１７内で循環系
５を循環している純水と混合し、薬液が合成される。こ
の薬液は、循環系５を循環しながらガス供給系９からの
塩化水素ガスの供給を受けて、次第に濃くなり、前述し
た制御系７０の働きにより、目標濃度に保たれる。
【００３０】したがって、この実施例においては、処理
槽１に蓄えられた薬液、即ち、塩酸は、貯留される直前
に合成されたものであることから、汚染、劣化の恐れが
極めて少ない。また、塩化水素ガスの状態でフィルタ６
５による微粒子の捕獲を行っていることから、従来の薬
液に対してフィルタをかける構成に比べて、合成後の塩
酸に含まれる微粒子を少なく済ますことができ、その薬
液中の清浄度のレベルを純水供給系７から供給される純
水のレベルまで低減することができる。これらの結果、
処理槽１に貯留された塩酸は極めて清浄度が高いものと
なり、この塩酸を用いて行なわれる基板洗浄を、質の高
いものとすることができる。
【００３１】さらに、循環している純水の中に塩化水素
ガスを供給し、制御系により薬液濃度を制御するため、
塩酸の濃度を均一なものとすることができる。このた
め、基板に対して均一な洗浄を施すことができ、より一
層質の高い基板洗浄となる。また、循環中の純水の中に
ガスを混合してゆくのであるから、混合熱による急激な
発熱はなく、むしろ一般的に加熱を必要とする処理液の
昇温にその発熱を利用することができて、エネルギの節
約の効果も奏する。
【００３２】この発明の第２実施例を次に説明する。こ
の第２実施例の薬液供給装置を備える基板洗浄装置は、
第１実施例のそれと比較して混合ユニットの構成が相違
し、その他の構成については同一である。図７にこの第
２実施例の混合ユニット２００の概略構成を示した。
【００３３】図７に示すように、混合ユニット２００
は、筒状のケーシング２０１の中に、複数の孔が明けら
れた噴霧ノズル２０３を備え、噴霧ノズル２０３から噴
霧された液体をケーシング２０１の下部で受けて液体流
出口２０５から排出させる。さらに、ケーシング２０１
の下方の側面にガス流入口２０７を、ケーシング２０１
の上方にガス流出口２０９をそれぞれ備えている。
【００３４】こうした構成の混合ユニット２００では、
ガス流入口２０７からガス（本実施例では、塩化水素ガ
ス）が流入されると、そのガスは上方に移動してガス流
出口２０９から逃げるが、その途中で、噴霧ノズル２０
３からの液体（本実施例では純水）の噴霧を受ける。こ
うして、ガスは液体と混同し、そのガスが混じった液
体、即ち薬液が合成される。
【００３５】以上のように構成されたこの第２実施例で
は、第１実施例と同様に、薬液の清浄度を高めることが
でき、また、その薬液の濃度を均一とすることができ
る。これらの結果、質の高い基板洗浄の処理を提供する
ことができる。
【００３６】この発明の第３実施例を次に説明する。第
３実施例の薬液供給装置を備える基板洗浄装置は、第１
実施例のそれと比較して薬液濃度センサの構成が相違
し、その他の構成については同一である。第１実施例の
薬液濃度センサ７１は、ｐＨ測定方式と呼ばれる構成で
あったが、これに対して、この第３実施例の薬液濃度セ
ンサは光吸収方式と呼ばれる構成をもつ。図８にこの第
３実施例の薬液濃度センサ３００周辺の概略構成を示し
た。
【００３７】図８に示すように、薬液濃度センサ３００
は、光源３０１と、光源３０１からの光を特定の狭い波
長帯域の光（単色光）に分離するモノクロメータ３０３
とを備えると共に、モノクロメータ３０３の照射方向に
順に、半透鏡３０５、石英セル３０７および第１受光器
３０９を備えたものである。さらに、半透鏡３０５の反
射方向に第２受光器３１１を備えている。なお、石英セ
ル３０７は管路１１（第１実施例と同じ構成の部分に同
一番号を付した）の途中に設けられている。
【００３８】こうした構成の薬液濃度センサ３００によ
れば、光源３０１からの光を、モノクロメータ３０３に
より単色光に分離し、その単色光の一部を半透鏡３０５
により反射して第２受光器３１１に送る。一方、半透鏡
３０５を透過した単色光の透過分を、石英セル３０７を
透過させた後、第１受光器３０９に送る。
【００３９】なお、第１受光器３０９および第２受光器
３１１の検出信号はＥＣＵ７３に入力される。ＥＣＵ７
３は、第２受光器３１１の検出信号を参照光度として、
第１受光器３０９の検出信号との比較により、石英セル
３０７における吸光度を求めている。この吸光度は管路
１１を流れる薬液の濃度と相関があることから、ＥＣＵ
７３は循環系５を循環する薬液の濃度を知ることができ
る。こうして構成されたこの第３実施例は、第１実施例
と同様な効果を奏する。
【００４０】この発明の第４実施例を次に説明する。第
１実施例の薬液供給装置を備える基板洗浄装置では、循
環系５中に処理槽１を設けていたが、これに替えて、第
４実施例では、図９に示すように、循環系５中に補助槽
４００を設け、必要に応じてこの補助槽４００から処理
槽４０１に薬液を転送可能とした。即ち、第１実施例で
処理槽１およびオーバフロー槽３が設けられていた配管
位置に補助槽４００を設け、さらに、ポンプ１３前後に
処理槽４０１の流入口４０１ａ，流出口４０１ｂに接続
される分岐管４０３，４０５を設け、２対の開閉バルブ
４０７ａ，４０７ｂ，４０９ａ，４０９ｂを開閉制御す
ることにより、補助槽４００に貯留される薬液を処理槽
４０１に転送する。
【００４１】こうした構成により、第１実施例と同じ清
浄度の高い薬液を補助槽４００を介して処理槽４０１に
送ることができる。このため、第１実施例と同様に、質
の高い基板洗浄の処理を提供することができる。
【００４２】この発明の第５実施例を次に説明する。図
１０に示す第５実施例においては、図９に示す第４実施
例において、補助槽４００と処理槽１とを接続すると共
に、オーバーフロー槽３を図示しないドレイン等に接続
したものである。この実施例においては、ポンプ５０５
を制御することにより、補助槽４００に貯留される薬液
を処理槽１に供給して基板の処理を行ない、また、処理
槽１よりオーバーフロー槽３に溢れ出た薬液は管路５０
６より図示しないドレイン等に排出する。
【００４３】なお、この第５実施例において、補助槽４
００、循環系５、および図１に示すガス供給系９等を複
数組配設し、各ガス供給系９に異なるガスを供給するこ
とにより各補助槽４００に異なる薬液を貯留すると共
に、これらの薬液を順次処理槽１に供給することによ
り、処理槽１内に保持された基板に対し、処理槽１内で
複数の処理を行うようにしてもよい。
【００４４】この発明の第６実施例を次に説明する。上
述した実施例においては、オーバーフロー型の処理層を
有する基板処理装置にこの発明の薬液供給装置を適用し
たものであるが、第６実施例では、図１１に示すよう
に、処理室６０１内で回転するスピンチャック６０２に
吸着保持した基板６０３に対しノズル６０４より薬液を
供給する枚葉処理型の基板処理装置６００にこの発明の
薬液供給装置を適用したものである。この実施例におい
ては、第４実施例と同様の補助槽４００と処理室６０１
とを、ポンプ６０５を介して管路６０６により接続し、
基板６０３の処理時にはポンプ６０５を制御してノズル
６０４より基板６０３表面に薬液を供給する。
【００４５】以上、本発明のいくつかの実施例を詳述し
てきたが、本発明はこうした実施例に何等限定されるも
のではない。例えば、薬液濃度センサ７１とＥＣＵ７３
による薬液濃度制御の処理の実行とを省いて、第１ガス
管路４１からのガスの供給量のみで薬液の濃度を決める
構成としてもよく、また、第１ガス管路４１から供給す
るガスを塩化水素ガスに替えてアンモニア，フッ化水
素，オゾン等の他のガスとし、アンモニア水，フッ酸，
オゾンの純水溶液等の他の薬液を合成する構成としても
よく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々なる
態様にて実施し得ることは勿論である。
【００４６】
【発明の効果】以上説明したように本発明の薬液供給装
置では、薬液の清浄度を高めることができ、また、その
薬液の濃度を均一とすることができる。これらの結果、
その薬液を用いて行なわれる基板洗浄、エッチング等の
基板処理の質を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の薬液供給装置を備える第１実施例と
しての基板洗浄装置の概略構成図である。
【図２】混合ユニット１７の概略構成図である。
【図３】混合ユニット１７の充填塔２７に充填される充
填物２５の斜視図である。
【図４】前記充填物２５の他の例の斜視図である。
【図５】ＥＣＵ７３で実行される薬液濃度制御処理を示
すフローチャートである。
【図６】薬液濃度の目標値からの偏差△ＤとＭＳＦ４７
の開閉量ＧＭＳＦとの関係を示すグラフである。
【図７】第２実施例における混合ユニット２００の概略
構成図である。
【図８】第３実施例の薬液濃度センサ３００周辺を示す
概略構成図である。
【図９】第４実施例の一部を示す概略構成図である。
【図１０】第５実施例の一部を示す概略構成図である。
【図１１】第６実施例の一部を示す概略構成図である。
【符号の説明】
１…処理槽 １ａ，１ｂ…アップフロー管 ３…オーバフロー槽 ５…循環系 ７…純水供給系 ９…ガス供給系 １１…管路 １３…ポンプ １５…フィルタ １７…混合ユニット １９…開閉バルブ ２１…基台 ２３…キャップ ２５…充填物 ２７…充填塔 ３０…純水供給口 ３１…管路 ４０…塩化水素ガス供給口 ４１…第１ガス管路 ４７…ＭＳＦ ５０…窒素ガス供給口 ５１…第２ガス管路 ５７…ＭＳＦ ６１…管路 ６５…フィルタ ７０…制御系 ７１…薬液濃度センサ ７３…ＥＣＵ ２００…混合ユニット ３００…薬液濃度センサ ３０１…光源 ３０３…モノクロメータ ３０５…半透鏡 ３０７…石英セル ３０９…第１受光器 ３１１…第２受光器 ４００…補助槽 ４０１…処理槽 ６０１…処理室
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−272040（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−41369（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−159029（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−243784（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/027 G03F 7/30 501

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 基板処理に用いられる薬液を供給する薬
    液供給装置であって、 基板の処理槽と、 前記処理槽に設けられる入口と出口とを結んで循環路を
    形成する循環用管路と、 前記循環用管路中に純水を供給する純水供給手段と、 前記循環用管路中の液体に対して前記薬液の元となるガ
    スを供給するガス供給手段と、 前記循環用管路中を流れる液体の濃度を検出する液体濃
    度検出手段と、 前記液体濃度検出手段により検出された液体の濃度に基
    づいて前記ガス供給手段による供給量を制御する制御手
    段と を備えた薬液供給装置。
  2. 【請求項２】 基板処理に用いられる薬液を供給する薬
    液供給装置であって、 基板の処理部に薬液を転送可能な補助槽と、 前記補助槽に設けられる入口と出口とを結んで循環路を
    形成する循環用管路と、 前記循環用管路中に純水を供給する純水供給手段と、 前記循環用管路中の液体に対して前記薬液の元となるガ
    スを供給するガス供給手段と、 前記循環用管路中を流れる液体の濃度を検出する液体濃
    度検出手段と、 前記液体濃度検出手段により検出された液体の濃度に基
    づいて前記ガス供給手段による供給量を制御する制御手
    段と を備えた薬液供給装置。
  3. 【請求項３】 請求項１または２に記載の薬液供給装置
    であって、 前記ガス供給手段は、 前記循環用管路に接続されるガス供給用管路を備え、 前記薬液供給装置は、さらに、 前記ガス供給用管路中に不活性ガスを供給する不活性ガ
    ス供給手段を備えた薬液供給装置。
  4. 【請求項４】 請求項１ないし３のいずれかに記載の薬
    液供給装置であって、 前記液体濃度検出手段は、 光源と、 該光源からの光を、第１の方向と、前記循環用管路中の
    液体を通過する第２の方向とに分配する光分配手段と、 該光分配手段で第１の方向に分配された光の信号を電気
    信号に変換する第１光センサと、 前記光分配手段で第２の方向に分配され、前記循環用管
    路中の液体を通過した光の信号を電気信号に変換する第
    ２光センサと、 前記第１光センサと第２光センサから出力された電気信
    号に基づき前記循環用管路中を流れる液体の吸光度を算
    出し、該算出された吸光度に基づいて前記循環用管路中
    を流れる液体の濃度を算出する濃度算出手段とを備える
    薬液供給装置。
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