JPS6377569A - 基板の回転式表面処理装置 - Google Patents

基板の回転式表面処理装置

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JPS6377569A
JPS6377569A JP61223334A JP22333486A JPS6377569A JP S6377569 A JPS6377569 A JP S6377569A JP 61223334 A JP61223334 A JP 61223334A JP 22333486 A JP22333486 A JP 22333486A JP S6377569 A JPS6377569 A JP S6377569A
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雅美 西田
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    • Y10S134/00—Cleaning and liquid contact with solids
    • Y10S134/902—Semiconductor wafer

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体基板、ガラス、セラミックなどの基板を
回転させながら、その表面に例えばフォトレジスト液、
現像液、エツチング液または、液体ドーパント材などを
基板の上方に設けたノズルから供給することにより、基
板の表面処理を行う回転式表面処理装置に関するもので
ある。
〔従来技術〕
この種の回転式表面処理装置としては、従来より例えば
第３図に示すものが本出願人により提案されている（特
開昭５９−９０９２８号公報）。
それは、基板１０１を略水平に保持して回転するスピン
チャック１０２と、スピンチャック１０２の上方に設け
られ回転する基［１０１，に上記処理液等を供給するノ
ズル１０３と、回転する基板１０１を囲うように設けら
れ処理液の回収及び処理液飛沫の飛散を防止する飛散防
止カップ１０４と、飛散防止カップ１０４内を排気する
排気手段（図示せず）とを備えて成り、基板１０１の表
面及び裏面に霧状になった処理液の飛沫が付着するのを
防止するとともに、飛散防止カップ１０４の上部開口１
０５ａから流入して基板１０１の上面に沿って放射方向
に流れて基板１０１の周縁より流下する気流を円形整流
部材１０７で整流するようにしたものである。
即ち、円形整流部材１０７を排気ダクト１１７側（図の
左側）へ偏心させるごとにより整流部材１０７の周縁と
飛散防止カップ１０４の内周面とで形成される隙間を排
気ダクト１１７側で狭くすることにより通風抵抗を増や
し、前記した基板上面での放射方向に流れる気流ができ
るだけ均一になるようにしたちであり、これにより、例
えばフォトレジスト液の膜厚のムラをなくするようにし
たものである。なお、符号１１４は排液ドレンである。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかしながら、上記従来例のものは円形整流部材を排気
ダクト側へ偏心させることにより、整流部材の周縁と飛
散防止カップの内周面とで形成される隙間を調整するも
のであるため、実施する上で、この隙間の調整は容易で
なく、殊に飛散防止カップや整流部材の加工精度が良く
ないと基板の周縁方向に気流を均一化することは容易で
ない。
また、排気ダクト内へ処理液が混入し易い構造となって
おり、フォトレジスト液等が排気ダクト内に付着堆積す
ると排気流路を狭め排気流に悪影響を及ばず。
本発明は、従来技術のこのような問題点を解決するごと
により基板の品質をより一層向上させるごとを目的とす
る。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は、上記問題点を解決するため前記従来例の回転
塗布装置において、飛散防止カップを次のように改良し
たものである。
即ち、飛散防止カップは上カップと、円形整流部材と、
下カップとから成り、上カップは上部に外気取入口と、
基板の回転による処理液の飛沫を下方へ案内する傾Ｐ［
面とを有し、円形整流部材はスピンチャックの下方に設
けられ、外気取入口から流入して基板の周縁に沿って流
下する気流を下カップに整流して案内するとともに、処
理液の飛沫を下カップに案内する傾斜整流面を有し、下
カップは外周壁の下部に内接する排液ゾーンと、この排
液ゾーンの内側に区画形成したリング状の排気ゾーンと
を有して成り、排気ゾーンを円形整流部材の下側に位置
させ、排液ゾーンと排気ゾーンとを両ゾーンの中間に形
成した絞り開口で連通して排気するように構成したこと
を特徴とするものである。
〔作用〕
排気ゾーンは円形整流部材の下側にリング形状をなすよ
うに設けられ、しかもその外周に排液ゾーンが区画形成
され、排液ゾーンと排気ゾーンとを両ゾーンの中間に形
成した絞り開口で連通して排気するようにしたから飛散
防止カップ内の排気の流れは次のように整流される。
排液ゾーンと排気ゾーンとの中間に形成した絞り開口が
、排液ゾーンから排気ゾーンへ向かう排気流に対し抵抗
になるので、円形整流部材の傾斜整流面に沿って流下す
る気流は、その円周に沿う方向に関し全方向はぼ均一に
排気される。従って飛散防止カップの外気取入口から流
入して基板の上面に沿って放射方向に流れて基板の周縁
より流下する気流も均一となる。
これにより、フォトレジスト液等の膜厚精度をより一層
向上させることができる。
また、排液ゾーンと排気ゾーンとを区画形成し排気ゾー
ン内へ処理液の飛沫が混入しない構造になっており、フ
ォトレジスト液等が排気ダクト内へ付着堆積して排気流
路を狭めることもない。
〔実施例〕
以下、本発明に係る回転式表面処理装置の実施例につい
て図面に基づいて説明する。
第１図は回転式表面処理装置の縦断面図、第２図は第１
図の上カップ５を取外した状態の平面図である。
この回転式表面処理装置は基板１を略水平に吸着保持し
て回転するスピンチャック２と、スピンチャック２の上
方に設けられ回転する基板１に、フォトレジスト液等を
供給するノズル３と、回転する基板１を囲うようにして
設けられ処理液の回収及び処理液飛沫の飛散を防止する
飛散防止カップ４とを備えてなり、飛散防止カップ４内
を排気する排気ダクト１７は外部装置の排気手段２０に
接続配管されている。
以下本発明の特徴となる構成について説明する。
飛散防止カップ４は上カップ５と、円形整流部材７と、
下カップ１０とから成る。
上カップ５は上部に外気取入口５ａ、基板１の回転によ
る処理液の飛沫を下方へ案内する傾斜面６　（上カップ
５の傾斜部の内面）とを有し、下カツプ外周壁１１の上
端部段落面に着座さセて設けされている。
円形整流部材７はスピンチャック２の下方に位置するよ
うに下カツプ内周壁１２の上端部に着座させて設けられ
、外気取入口５ａから流入して基板１の周縁に沿って流
下する気流Ａを下カップ１０に整流して案内するととも
に、上カップ５の傾斜面６によって下方に案内された処
理液の飛沫をこの気流Ａに乗せて下カップ１０に案内す
る傾斜整流面８（円形整流部材７の傾斜部の上面）を有
する。
下カップ１０は、外周壁１１の下部に内接する排液ゾー
ン１３と、この排液ゾーン１３の内側に区画形成したリ
ング状の排気ゾーン１５とを有している。即ち、排気ゾ
ーン１５は円形整流部材７の下側にリング形状をなすよ
うに設けられ、排液ゾーン１３から排気ゾーン１５へは
排気ゾーン１５の周囲にスリット状に形成した絞り開口
１６で連通し、排気ゾーン１５内に設けた排気ダクト１
７より排気するように構成されている。
この絞り開口１６は、円形整流部材７の傾斜整流面８の
下縁８ｂよりも高く位置させ、処理液の飛沫が排気ゾー
ン１５内へ浸入するのを防ぐようにするのが望ましい。
本実施例では下カップ１０の区画壁１８の上端と円形整
流部材７の下面との隙間がこの絞り開口１６を形成する
ようになっている。
また、円形整流部材７の傾斜整流面８の上縁８ａは基板
１の裏面に接近させ、この上縁８ａと基板１との隙間よ
り不活性ガス等の気流を外へ向けて流出させ、基板１の
裏面へ処理液飛沫が付着するのを防止するようになって
いる。
なお第２図において符号１４は排液ゾーン１３内に設け
られた排液ドレンである。
次にこの装置における動作について説明する。
先ず、スピンチャンク２に基板１を中心合わせして吸着
保持させ、排気ダクト１７から強制排気する。
次いで基板１の表面の中央部にノズル３より例えばフォ
トレジスト液を吐出させた後、すぐに基板１を回転させ
る。すると、基板１の回転に伴ってその表面にフォトレ
ジスト液の塗布膜が形成され、余剰の液は基板１の周縁
から飛沫となって飛散する。この飛沫は上カップ５の傾
斜面６に衝突し、外向き斜め下方に案内され、一部はさ
らに円形整流部材７の傾斜整流面８に衝突し下カップ１
０へ案内される。
一方、排気手段２０によって排気ダクト１７から強制排
気がなされていることから、外気取入口５ａから飛散防
止カップ４内に流入する外気は基板ｌの上面に沿って放
射方向に流れ、基板１の周縁と外気取入口５ａの内周下
端縁との隙間を通って流下する。この気流Ａは円形整流
部材７の傾斜整流面８に沿って流下し、下カップ１０の
排液ゾーン１３を経由し、絞り開口１６によって通風抵
抗を受けながら、排気ゾーン１５内へ流入し、排気ダク
ト１７より排気される。
ごの場合、排気ゾーン１５内へその周囲の絞り開口１６
から排気流が流入するようになっているので、上記基板
上の気流も全方向に均一な流れとなり、塗膜のムラを生
じさせない。
〔発明の効果〕
以上の説明によって明らかなように本発明に係る回転式
表面処理装置においては、飛散防止カップ内の排気ゾー
ンを円形整流部材の下側にリング形状をなすように設け
、その外周に排液ゾーンを区画形成し、排気ゾーンの周
囲に形成した絞り開口で両ゾーンを連通し、基板の周縁
より流下する排気流が均一となるように構成したから、
基板の上面に沿って放射方向に流れる気流も均等になり
、フォトレジスト液等の膜厚精度をより一層向上させる
ことができるとともに、飛散防止カップの組付けは容易
であり、従来例のような上記気流の均一な流れを生ずる
ための調整は不要となる。
また、排液ゾーンと排気ゾーンとを区画形成したから、
排気ダクト内ヘソォトレジスト液等が付着堆積して排気
流路を狭めるという不都合も解消することができる。
これにより基板の品質をより一層向上させることができ
る。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明に係る回転式表面処理装置の縦断面図、
第２図は第１図の上カップを取り外した状態の平面図、
第３図は従来例に係る回転式表面処理装置の縦断面図で
ある。 １・・・基板、２・・・スピンチャック、３・・・ノズ
ル、４・・・飛散防止カップ、５・・・上カップ、５ａ
・・・外気取入口、６・・・傾斜面、７・・・円形整流
部材、８・・・傾斜整流面、１０・・・下カップ、１１
・・・外周壁、１３・・・排液ゾーン、１５・・・排気
ゾーン、１６・・・絞り開口。 □ 第１図 第２図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、基板を略水平に保持して回転するスピンチャックと
    、スピンチャックの上方に設けられ回転する基板に処理
    液を供給するノズルと、回転する基板を囲うようにして
    設けられ処理液の回収及び処理液飛沫の飛散を防止する
    飛散防止カップと、飛散防止カップ内を排気する排気手
    段とを備えて成り、 飛散防止カップは上カップと、円形整流部材と、下カッ
    プとから成り、上カップは上部に外気取入口と、基板の
    回転による処理液の飛沫を下方へ案内する傾斜面とを有
    し、円形整流部材はスピンチャックの下方に設けられ、
    外気取入口から流入して基板の周縁に沿って流下する気
    流を下カップに整流して案内するとともに、処理液の飛
    沫を下カップに案内する傾斜整流面を有し、下カップは
    外周壁の下部に内接する排液ゾーンと、この排液ゾーン
    の内側に区画形成したリング状の排気ゾーンとを有して
    成り、排気ゾーンを円形整流部材の下側に位置させ、排
    液ゾーンと排気ゾーンとを両ゾーンの中間に形成した絞
    り開口で連通して排気するように構成したことを特徴と
    する基板の回転式表面処理装置 ２、絞り開口を円形整流部材の傾斜整流面の下縁よりも
    高く位置させ、かつスリット状に形成した特許請求の範
    囲第１項に記載した基板の回転式表面処理装置
JP61223334A 1986-09-19 1986-09-19 基板の回転式表面処理装置 Granted JPS6377569A (ja)

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