JPS61295633A - レジスト塗布装置 - Google Patents
レジスト塗布装置Info
- Publication number
- JPS61295633A JPS61295633A JP13961385A JP13961385A JPS61295633A JP S61295633 A JPS61295633 A JP S61295633A JP 13961385 A JP13961385 A JP 13961385A JP 13961385 A JP13961385 A JP 13961385A JP S61295633 A JPS61295633 A JP S61295633A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cup
- wafer
- exhaust port
- current
- resist
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は整流板を有するカップ内でウェハを回転させ
、レジストを塗布する装置に関するものである。
、レジストを塗布する装置に関するものである。
第８図は従来のレジスト塗布装置を示す垂直断面図、第
９図は分解斜視図、第１０図は一部の垂直断面図、第１
１図は整流板の平面図である。図において、（１）は円
形の下カップ、（２）はこの下カップの上に重ねられる
円形の上カップで、これらは内部に円形の整流板（３）
を挟むように収容している。（４）は回転軸で、下カッ
プ（１）の底部の中央部を貫通して、整流板（３）の中
央部に形成された貫通孔（５）に伸びている。（６）は
ウェハチャックで、下部が回転軸（４）に接続して回転
し、上部は円板状になって、ウェハ（７）を真空吸着す
る溝（８）を有する。（９）は下カップ（１）底部の偏
心位置に設【づらけた排気口、（１０）はこの排気口の
接続するドレンチューブ、（１１）！、ｉウェハ（７）
の裏面への薬液の付着を防止するように整流板（３）か
ら突出するＮ７ガイドリングである。
９図は分解斜視図、第１０図は一部の垂直断面図、第１
１図は整流板の平面図である。図において、（１）は円
形の下カップ、（２）はこの下カップの上に重ねられる
円形の上カップで、これらは内部に円形の整流板（３）
を挟むように収容している。（４）は回転軸で、下カッ
プ（１）の底部の中央部を貫通して、整流板（３）の中
央部に形成された貫通孔（５）に伸びている。（６）は
ウェハチャックで、下部が回転軸（４）に接続して回転
し、上部は円板状になって、ウェハ（７）を真空吸着す
る溝（８）を有する。（９）は下カップ（１）底部の偏
心位置に設【づらけた排気口、（１０）はこの排気口の
接続するドレンチューブ、（１１）！、ｉウェハ（７）
の裏面への薬液の付着を防止するように整流板（３）か
ら突出するＮ７ガイドリングである。
上記のように構成されたレジスト塗布装置レーおいては
、整流板（３）は下カップ（１）および上カップ（２）
で挟まれるように装着され、回転部となるウェハチャッ
ク（６）は回転軸（４）に差込まれる。ウェハ（７）は
ウェハチャック（６）の溝（８）により真空吸着され回
転する。レジストは上カップ（２）の開口（１２）を通
して矢印Ｙ方向にウェハ（７）の中央に滴下され、ウェ
ハ（７）の回転により均一に面内に塗布される。レジス
ト塗布を行う間、排気口（９）を通してドレンチューブ
（１０）から排気が行われ、これにより整流板（３）の
っぽ（１３）に沿って気流が発生して、回転時にレジス
トの飛沫が上方に巻上がるのを防止し、ウェハ（７）の
表面に付着しないように整流が行われる。
、整流板（３）は下カップ（１）および上カップ（２）
で挟まれるように装着され、回転部となるウェハチャッ
ク（６）は回転軸（４）に差込まれる。ウェハ（７）は
ウェハチャック（６）の溝（８）により真空吸着され回
転する。レジストは上カップ（２）の開口（１２）を通
して矢印Ｙ方向にウェハ（７）の中央に滴下され、ウェ
ハ（７）の回転により均一に面内に塗布される。レジス
ト塗布を行う間、排気口（９）を通してドレンチューブ
（１０）から排気が行われ、これにより整流板（３）の
っぽ（１３）に沿って気流が発生して、回転時にレジス
トの飛沫が上方に巻上がるのを防止し、ウェハ（７）の
表面に付着しないように整流が行われる。
従来のレジスト塗布装置においては、整流板（３）の中
央に貫通孔（５）が形成され、ウェハ（７）はこの部分
すなわち整流板（３）の中央で回転するようになってい
るため、整流板（３）の周縁部と下カップ（１）の内壁
とのすき間りは等間隔となっている。
央に貫通孔（５）が形成され、ウェハ（７）はこの部分
すなわち整流板（３）の中央で回転するようになってい
るため、整流板（３）の周縁部と下カップ（１）の内壁
とのすき間りは等間隔となっている。
一方、排気口（９）は偏心位置に配置されているため、
排気口（９）に近い側の気流の速度が速くなり。
排気口（９）に近い側の気流の速度が速くなり。
遠い側の気流の速度が遅くなり、これにより気流が乱れ
、レジストの飛沫を巻上げるという問題点があった。
、レジストの飛沫を巻上げるという問題点があった。
この発明は上記問題点を解決するためのもので、整流板
の全周における気流をほぼ平均化して、気流の乱れおよ
びレジスト飛沫の巻上を防止し、安定したレジスト塗布
を行うことができるレジスト塗布装置を提供することを
目的としている。
の全周における気流をほぼ平均化して、気流の乱れおよ
びレジスト飛沫の巻上を防止し、安定したレジスト塗布
を行うことができるレジスト塗布装置を提供することを
目的としている。
この考案に係るレジスト塗布装置は、レジストの回転塗
布を行うためのカップ、このカップ内でウェハを回転さ
せる回転軸、前記カップ下部の偏心位置に設けられた排
気口、および前記ウェハと排気口の間に介在しかつその
周縁部とカップ内壁とのすき間が排気口に近い側で小さ
くなるように偏心位置に配置された整流板を備えたもの
である。
布を行うためのカップ、このカップ内でウェハを回転さ
せる回転軸、前記カップ下部の偏心位置に設けられた排
気口、および前記ウェハと排気口の間に介在しかつその
周縁部とカップ内壁とのすき間が排気口に近い側で小さ
くなるように偏心位置に配置された整流板を備えたもの
である。
この発明のレジスト塗布装置においては、ウェハを回転
軸によりカップ内で回転させ、レジストを回転塗布する
。このとき排気口から排気を行うと、整流板のつばに沿
って気流が発生して整流が行われるが、整流板の周縁部
とカップ内壁とのすき間は排気口に近い側はど小さく、
遠い側はど大きくなっているため、整流板の全周におけ
る気流が平均化し、気流の乱れおよびレジスト飛沫の巻
上は防止される。
軸によりカップ内で回転させ、レジストを回転塗布する
。このとき排気口から排気を行うと、整流板のつばに沿
って気流が発生して整流が行われるが、整流板の周縁部
とカップ内壁とのすき間は排気口に近い側はど小さく、
遠い側はど大きくなっているため、整流板の全周におけ
る気流が平均化し、気流の乱れおよびレジスト飛沫の巻
上は防止される。
第１図はこの発明の一実施例を示す一部の垂直断面図、
第２図は整流板の平面図であり、第８図ないし第１１図
と同一符号は同一または相当部分を示す。整流板（３）
は偏心位置に貫通孔（５）およびＮ２ガイドリング（１
１）が形成されており、整流板（３）の周縁部と下カッ
プ（１）の内壁とのすき間が排気口（９）に近い側はど
小さく、遠い側はど大きくなるように、下カップ（１）
および上カップ（２）内に偏心して配置されている。回
転軸（４）は下カップ（１）の中央部に突出しているが
、整流板（３）の偏心位置に設けられた貫通孔（５）の
中央部で回転するようになっている。他の構成は第８図
ないし第１Ｉ図と同様である。
第２図は整流板の平面図であり、第８図ないし第１１図
と同一符号は同一または相当部分を示す。整流板（３）
は偏心位置に貫通孔（５）およびＮ２ガイドリング（１
１）が形成されており、整流板（３）の周縁部と下カッ
プ（１）の内壁とのすき間が排気口（９）に近い側はど
小さく、遠い側はど大きくなるように、下カップ（１）
および上カップ（２）内に偏心して配置されている。回
転軸（４）は下カップ（１）の中央部に突出しているが
、整流板（３）の偏心位置に設けられた貫通孔（５）の
中央部で回転するようになっている。他の構成は第８図
ないし第１Ｉ図と同様である。
上記のように構成されたレジスト塗布装置においては、
従来のものとほぼ同様に、ウェハチャック（６）を介し
て回転軸（４）に装着されたウェハ（７）は、下カップ
（１）および上カップ（２）の中心位置であって、かつ
整流板（３）の偏心位置に設けられた貫通孔（５）の上
部で回転し、レジストの回転塗布が行われる。このとき
排気口（９）を通してドレンチューブ（１０）から排気
が行われ、整流板（３）のっば（１３）に沿って気流が
発生して整流が行われるが、整流板（３）の周縁部と下
カップ（１）の内壁とのすき間りは排気口（９）に近い
側はど小さく、遠い側はど大きくなっているため、整流
板（３）の全周における気流は平均化し、気流の乱れお
よびレジスト飛沫の巻上は防止される。
従来のものとほぼ同様に、ウェハチャック（６）を介し
て回転軸（４）に装着されたウェハ（７）は、下カップ
（１）および上カップ（２）の中心位置であって、かつ
整流板（３）の偏心位置に設けられた貫通孔（５）の上
部で回転し、レジストの回転塗布が行われる。このとき
排気口（９）を通してドレンチューブ（１０）から排気
が行われ、整流板（３）のっば（１３）に沿って気流が
発生して整流が行われるが、整流板（３）の周縁部と下
カップ（１）の内壁とのすき間りは排気口（９）に近い
側はど小さく、遠い側はど大きくなっているため、整流
板（３）の全周における気流は平均化し、気流の乱れお
よびレジスト飛沫の巻上は防止される。
第３図は整流板の外形図であり、その周縁部の測定位置
Ａ＝Ｈにおいて排気速度を測定した結果、上記実施例で
は第４図の結果が得られ、第８図ないし第１１図の従来
例では第５図の結果が得られた。排気速度の均一性（Ｍ
ａｘ −Ｍｉｎ）／ （Ｍａｘ ＋ Ｍｉｎ）は実施例
では１．９％、従来例では１２％であった。またＡ−Ｈ
における排気速度の平均値とレジスト飛沫数の関係は、
実施例では第６図、従来例では第７図に示され、レジス
ト飛沫は従来例では３ｍ／ｓｅｅで発生していたが、実
施例ではｉｎ／ｓｅｅまで発生しなかった。
Ａ＝Ｈにおいて排気速度を測定した結果、上記実施例で
は第４図の結果が得られ、第８図ないし第１１図の従来
例では第５図の結果が得られた。排気速度の均一性（Ｍ
ａｘ −Ｍｉｎ）／ （Ｍａｘ ＋ Ｍｉｎ）は実施例
では１．９％、従来例では１２％であった。またＡ−Ｈ
における排気速度の平均値とレジスト飛沫数の関係は、
実施例では第６図、従来例では第７図に示され、レジス
ト飛沫は従来例では３ｍ／ｓｅｅで発生していたが、実
施例ではｉｎ／ｓｅｅまで発生しなかった。
なお、以上の説明において、下カップ（１）、上カップ
（２）、整流板（３）等の形状、構造等は図示のものに
限定されず、変更可能である。
（２）、整流板（３）等の形状、構造等は図示のものに
限定されず、変更可能である。
この発明によれば、整流板を偏心位置に配置して、その
周縁部とカップ内壁とのすき間が排気口に近い側で小さ
くなるようにしたので、整流板の全周における気流がほ
ぼ平均化し、気流の乱れおよびレジスト飛沫の巻上は防
止され、安定したレジスト塗布を行うことができる。
周縁部とカップ内壁とのすき間が排気口に近い側で小さ
くなるようにしたので、整流板の全周における気流がほ
ぼ平均化し、気流の乱れおよびレジスト飛沫の巻上は防
止され、安定したレジスト塗布を行うことができる。
第１図はこの発明の一実施例を示す一部の垂直断面図、
第２図は整流板の平面図、第３図は整流板の外形図、第
４図ないし第７図は測定結果を示す線図、第８図は従来
のレジスト塗布装置を示す垂直断面図、第９図はその分
解斜視図、第１０図はその一部の垂直断面図、第１１＠
は整流板の平面図である。 各図中、同一符号は同一または相当部分を示し、（１）
は下カップ、（２）は上カップ、（３）は整流板、（４
）は回転軸、（５）は貫通孔、（６）はウェハチャック
、（７）はウェハ、（９）は排気口である。
第２図は整流板の平面図、第３図は整流板の外形図、第
４図ないし第７図は測定結果を示す線図、第８図は従来
のレジスト塗布装置を示す垂直断面図、第９図はその分
解斜視図、第１０図はその一部の垂直断面図、第１１＠
は整流板の平面図である。 各図中、同一符号は同一または相当部分を示し、（１）
は下カップ、（２）は上カップ、（３）は整流板、（４
）は回転軸、（５）は貫通孔、（６）はウェハチャック
、（７）はウェハ、（９）は排気口である。
Claims (3)
- （１）レジストの回転塗布を行うためのカップ、このカ
ップ内でウェハを回転させる回転軸、前記カップ下部の
偏心位置に設けられた排気口、および前記ウェハと排気
口の間に介在しかつその周縁部とカップ内壁とのすき間
が排気口に近い側で小さくなるように偏心位置に配置さ
れた整流板を備えたことを特徴とするレジスト塗布装置
。 - （２）カップが上カップおよび下カップからなることを
特徴とする特許請求の範囲第１項記載のレジスト塗布装
置。 - （３）回転軸は整流板の偏心位置に設れられた貫通孔で
回転することを特徴とする特許請求の範囲第１項または
第２項記載のレジスト塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13961385A JPS61295633A (ja) | 1985-06-24 | 1985-06-24 | レジスト塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13961385A JPS61295633A (ja) | 1985-06-24 | 1985-06-24 | レジスト塗布装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61295633A true JPS61295633A (ja) | 1986-12-26 |
| JPH0322687B2 JPH0322687B2 (ja) | 1991-03-27 |
Family
ID=15249367
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13961385A Granted JPS61295633A (ja) | 1985-06-24 | 1985-06-24 | レジスト塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61295633A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015026792A (ja) * | 2013-07-29 | 2015-02-05 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布膜形成装置、塗布膜形成方法、記憶媒体 |
-
1985
- 1985-06-24 JP JP13961385A patent/JPS61295633A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015026792A (ja) * | 2013-07-29 | 2015-02-05 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布膜形成装置、塗布膜形成方法、記憶媒体 |
| KR20150014383A (ko) * | 2013-07-29 | 2015-02-06 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 도포막 형성 장치, 도포막 형성 방법, 기억 매체 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0322687B2 (ja) | 1991-03-27 |
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