JPH03175617A - 基板の回転式表面処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この発明は半導体ＪＡ板、液晶相ガラスＪｋ板等（以ト
Ｊス板と称する）を同転させながら、その表面に例えば
フォトレジスト液、現像液、エツチング液、あるいは液
体ドーパント剤等をＪＡ板の」一方に設けたノズルから
供給することにより、Ｊ、Ｅ板の表面処ｐｌｊを行う同
転式表面処理装置Ｉｖ（に関するものである。

（従来の技術〉 この種の同転式表面処理装置としては、従来より例えば
本出廓人の堤案に係る第２図に示すもの（特開昭６３−
７７５６９号公報：以下従来例１という）、あるいは第
３因に示すもの（特公昭５３−３７１８９号公報二以下
従来例２という）が知られている。

従来例１は、第２図に示すように、Ｊ、１．板Ｗを略水
平に保持して同転するスピンチャック１０１と、スピン
チャック１０１の一ヒ方に設けられ基板Ｗに処Ｐ１１液
を供給するノズル＋０２と、同転するノに板Ｗを囲うよ
うにして設けられ、処理液の回収と処Ｆ１！液飛沫の飛
散を防１にする飛散防止カップ１０４と、飛散時ＩＬカ
ップ１０４内を排気する排気手段１２０とを備えて成り
、飛散防止カップ１０４は上部に外気取入口１０５ａを
備え、処理液飛沫を碩斜面１０５ｂで下方へ案内する一
Ｌカップ１０５と、」ニカノプ１０５の下部周壁１０５
Ｃに内接する排液ゾーン＋０７及びこの排液ゾーン１０
７の内側にリング状の排気ゾーン１０８を区１ｉ１１１
形成した下刃、ブ１０６とから１戊り、スピンチャック
１０１の下方には外気取入口１０５ａから流下する気流
へを前科整流面＋０３８で下カップに整流して案内する
固形整流部材１０３を設け、排気ゾーンｌＯ８を円形整
流部材１０３の下側に（、′１．置させ、排ｉ＆ゾーン
＋０７と排気シー７１０８とを両ゾーンの隔壁に形成し
た絞り開口１０８ａで連通して排気するように構成され
ている。なお符号１１７は排気ダクトである。

従来例２は、第３図に示すように、ケーシング２０４の
下４ｉ部を飛散貼止カップとして形成し、その内部にス
ピンチャック２０１を設け、スピンチャック２０１で保
持した基板Ｗの下方に気流案内板２０３を水＜ＴＩ−配
置し、気流案内板２０３の下側に環状のエア噴射ノズル
２１１を設け、Ｊ、Ｅ板Ｗの下面にエアＡ、を吹きつけ
て、表面処理液の飛沫が）λ板Ｗの裏面に付着するのを
防１１二するように構成されている。なお、第３図中符
号２２０は基板Ｗの１４面に気流へを吹き付ける気体供
給用ノズル、２１７はケーシング２０４に開「１された
排気ｒｌである。

（発明が解決しようとする課題） 上記従来例１は、排気ゾーン１０８を１１形幣流部材の
下側にリング形状をなすように設け、その外周に排液ゾ
ーン＋０７を区画形成して両ゾーン＋０７・＋０８を絞
り開口１　ｏｓａで連通し、ノ又板Ｗの周縁より流下す
る気流へが均一となるように構成されており、フォトレ
ジスト等の膜厚を均一に高精度で形成できるものである
が、次のような難点がある。

Ｊ上板Ｗの周縁より流下する気流への一部が、基板Ｗと
円形整流板１０３との間隙に流入し、処理液の飛沫が基
板Ｗの裏面に付着するという問題がある。

一方、従来例２は上記のような問題点はないが、排気口
２１７がケーシング２０４の側壁２０４ｂにあけられ、
しかもスピンチャック２０１よりも」ニガに位置するた
め、排気流Ｂに乗って処理液の飛沫がノ工板Ｗの」ニガ
に吹きにげられ、それが、ＦＪｉ板Ｗの表面へ再付着す
るという問題がある。なお、排気ダクトを第２図のよう
にケーシング２０４の下部に開１−１することも考えら
れるが、そのＰ：ｊ　Ａでも気流案内板２０３の下側に
設けたエア噴射ノズル２１１から１ス板Ｗの下面にエア
Ａ、を吹き付ける構造であるため、ｊ、Ｉ、　＆　Ｗの
周縁部より流下する気流は均一とならず乱流を生じ見い
。このため、塗膜を均一に、高精度で形成することがで
きない。

本発明はこのような事情を４゛慮してなされたもので、
基板の表面処理の均一性を確保しながらも、基板の裏面
へ処理液の飛沫が付着するのを防止することを技術課題
とする。

（課題を解決するための手段） 本発明は］二記課題を解決するために前記従来の同転式
表面処理装置を以下のように敗良したものである。

即ち、前記従来例１のＪ＾板の同転式表面処理装置にお
いて、飛散防１１ニカップを外力、ツブで囲い、飛散防
止カップと外カップとの間に−に記気流を流通する辻同
流路を形成し、迂１司流路を飛散防１１′、カップ内の
基板と円形整流部材の領斜幣流面との間隙に連通したこ
とを特徴とするものである。

（作　　用） 本発明では、飛散防止カップと外カップとの間に形成さ
れた注口流路が、ノλ板と円形整流部材の傾斜幣流面と
の間隙に連通されており、ノ又仮の周縁より流下する気
流によって、当該辻同流路が１１圧になる。従って、こ
の辻同流路を流通する気流は、基板の下側を周縁部へ同
かって流れ、上記流下気流と合流することになるが、従
来例のように吹き付けによるものではないので、流ド気
流の乱れは生ヒない。これにより、ノλ板の表面処理の
均−ｅｂは確保され、かつ基板の裏面へ処理液飛沫が何
間することもない。

（実　施　例〉 第１図は本発明の一実施例を示す四転弐表面処Ｆ１！装
置の縦断面図である。

この回転式表面処Ｐｌ！装置は、第１図に示すように、
ｊＡ板Ｗを略水平に保持して同転するスピンチャックｌ
と、スピンチャックｌの上方に設けられ基板Ｗに処Ｆｌ
！１ｆｆ１２ａを供給するノズル２と、スピンチャック
１で保持した基板の下方に配置され、流ド気流へを傾斜
整流面３ａで整流して案内する円形５　／′Ａｔ部材３
と、回転するＪ、Ｅ板Ｗを囲うようにして設けられ、処
理Ｍ２ａのＩｉｌ収と処Ｆｌ！　ｉ＆飛沫の飛散時１１
−とに役立つ飛散時１ヒカノプ５と、飛散防止カップ４
を囲う外カップ１０と、排気手段２０とを具備して成る
。

飛散防止カップ４は、上部に外気取入口５ａを備え処理
液飛沫を傾斜面５ｂで下方へ案内する一Ｌカップ５と、
上カップ５を前腕〔Ｊ　７Ｅに受止め支持し、上カップ
５の下部周壁５Ｃに出接する排液ゾーン７及びこの排液
ゾーン７の内側にリング状の排気ゾーン８を区画形１戊
した下カップ６とから成る。

排気ゾーン８は固形整流部材３の下側にリング形状をな
すように設けられ、排液ゾーン７から排気ゾーン８へは
排気ゾーン８の周囲にスリット状に形成した紋り開口８
ａで連通し、排’＋＋’Ｌゾーン８内に設けた排気ダク
ト１７より排気するように構ｌ戊されている。なお、第
１図中符号１６はｔＪｊ　’ｔ＆ゾーン７内に設けられ
た排液ドレンである。

」−記外カツブ１０は、飛散防止カップ４を四い、飛散
防止カップ４との間に気流Ａの一部を流通する迂回流路
１１を形成する。この迂Ｉｌ’ｉｌ流路１１はスピンチ
ャックｌで眼前保持したＪ大板Ｗの下面と、ＩＩＩ形整
流部材３の傾斜整流面３ａとの間隙に連通されており、
基板Ｗの因縁より流下する気流へによって当該間隙及び
迂回流路１１が負圧になる。

つまり、この迂回流路１１を流通する気流Ａ、は）λ板
Ｗの下側を周縁へ向かって流れ、流下気流Ａ、と合流す
るが、吹き付けによるものではないので、流下気流Ａ、
の乱れは生じない。

次にこの装置の動作について説明する。

先ず、スピンチャックｌにＪ裏板Ｗを中心合わせして吸
着保持させ、排気ダクト１７より強制排気する。

次いで、基板Ｗの上面中央部にノズル２より例えばフォ
トレジスト液２ａを吐出させ、すぐにＪＡ板Ｗを同転さ
せる。すると、基板Ｗの回転に伴い、その表面にフォト
レジスト液の’７！ｌ］’２が形成され、余剰の液は基
板Ｗの周縁から飛沫となって飛散する。この飛沫は七カ
ップ５の傾斜面５ｂに衝突し、外聞き斜め下方に案内さ
れ、一部はさらに円形整流部材３の傾斜整流面３ａに衝
突し、下カップ６へ案内される。

一方、排気手段２０によって排気ダクト１７から強制排
気されていることから、外気取入口５ａから飛散防止カ
ップ４内に流入する外気Ａはノ叉板Ｗの上面に沿って放
射方向へ流れ、基板Ｗの周縁を通る流下気流Ａ、となり
、１］形繁流板３の傾斜整流面３ａに沿って流下する。

他方、負正によって迂回流路１１を流通する気流Ａ、は
、傾斜整流面３ａの上縁とＪｘ板Ｗの下面との間隙を通
って放射状に流出し、上記流ド気流Ａ、と合流する。こ
れにより、ｊＡ板Ｗの裏面へ処Ｆｌ！ｉ＆飛沫がまわり
込んで付青するのを防１１―する。

そして、流下気流Ａ１は下カップ６の排液ゾーン７を経
内し、絞り開口８ａによって通風抵抗を受けながら排気
シー７８内へ流入し、排気ダクト１７より排気される。

つまり、流下気流Ａ、は、絞り開目８ａを介して排気さ
れるようになっているので、ＪＡ板ＷＪ、の気流Ａは全
方向へ均一な流れとなり、堂膜のムラち生しない。

（発明の効果） 以にの説明で明らかなように、本発明では飛散時１１ユ
カ、ブを外カップで囲い、両カップの間隙に迂回流路を
形成して基板下面と傾斜整流面との間隙に連通したので
、下記の効果を奏する。

イ、迂回流路を流通する気流は、ｆ１圧によって基板の
下側を周縁部へ同けて流れ、処理液飛沫がＪｋ板の裏面
へまわり込み付青するのを防止することができる。

ロ、基板の下側を周縁部へ向けて流通する気流は流下気
流と合流するが、従来例のように吹き付けにより流下気
流の乱れを生じさせることもないので、Ｊｋ板の表面処
理の均−社を確保することができる。

４、図面のＩ！！７１１１な説明 第１図は本発明に係る同転式表面処理装置ｄの縦断面図
、第２固渋び第３図はそれぞれ従来例１及び従来例２に
係る同転式表面処理装置の縦断面１−Ｚ＋である。

ｌ・・・スピンチャック、２・・・ノズル、３・・・円
形整流部材、３ａ・・・傾斜幣流面、４・・・飛散防止
カップ、５・・・上カップ、５ａ・・・外気取入口、６
・・・下カップ、７・・・ＦＪ￥液ゾーン、８・・・排
気ゾーン、８ａ・・・絞り開口、１０・・・外カップ、
１１・・・迂回流路。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、基板を保持して回転するスピンチャックと、スピン
   チャックの上方に設けられ基板に処理液を供給するノズ
   ルと、回転する基板を囲うようにして設けられ、処理液
   の回収及び処理液飛沫の飛散防止のための飛散防止カッ
   プと、飛散防止カップ内を排気する排気手段と、スピン
   チャックの下方に飛散防止カップの上部に設けた外気取
   入口から流下する気流を傾斜整流面で飛散防止カップ下
   部の下カップに整流して案内する円形整流部材とを備え
   て成り、飛散防止カップを外カップで囲い、飛散防 止カップと外カップとの間に気流を流通する迂回流路を
   形成し、 迂回流路を飛散防止カップ内の基板と円形 整流部材の傾斜整流面との間隙に連通したことを特徴と
   する基板の回転式表面処理装置