JPH04192514A - レジスト現像装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概　要〕 レジスト現像装置、特に回転式レジスト現像装置の構造
に関し、 基板裏面への現像廃液の付着を容易に防止することか可
能なレジスト現像装置を提供することを目的とし、 環状をなし洗浄水を貯留する貯水槽１５と環状をなし該
貯水槽１５の上部を覆う整流板１６と該貯水槽１５内部
及び該整流板１６上面に開口して該貯水槽１５内の洗浄
水を基板ｌ裏面に向けて吐出するパイプ１７とを有し、
該貯水槽１５は連続的に供給される洗浄水をオーバフロ
ーさせて水位を一定に保つ排水口１５ａをその上部側面
に備えており、該整流板１６は上面の該パイプ１７開口
部付近か該基板ｌ裏面に近接しており且つ上面の該バイ
ブ１７開口部より外周側が下方へ傾斜しているように構
成する。

〔産業上の利用分野〕

本発明は、半導体装置製造等に使用する回転式レジスト
現像装置の構造に関する。

半導体装置の製造工程においては、ウェーハ上にレジス
トを塗布した後これを露光、現像してレジストパターン
を得る処理か繰り返される。又この露光に使用するフォ
トマスクの製造工程においても同様の処理を行う。この
うち露光後のレジスト現像には、基板（ウェーハ、フォ
トマスク等）を回転させながらその表面（即ちレジスト
膜面）に現像液を供給してレジストを現像する「回転式
レジスト現像装置」が多く使用されている。この装置に
おいては、レジストの溶は込んだ現像液（現像廃液）が
基板裏面に付着することかあり（回り込みや飛沫として
）、その場合にはその後の工程において設備の汚染や発
塵等の不都合を生じるから、現像廃液の裏面への付着か
ないことか望まれている。

〔従来の技術〕

従来の回転式レジスト現像装置を第２図を参照しなから
説明する。第２図は従来の装置の一例を示す模式断面図
である。図中、Ｉは被処理物の基板であり、表面に露光
法レジスト膜を有している。

１１はチャックであり、基板ｌを真空吸着する。１２は
モータ等からなる回転手段であり、チャック１１を回転
させる。１３はカップであり、現像廃液を収容し、その
底部に排液口１３ａを備えている。２■は洗浄水ノズル
であり、チャック１１の周囲に複数個配設されており（
環状の一体構造をなして複数個の噴出孔を有する場合も
ある）、洗浄水を基板ｌ裏面に向けて噴出して基板１裏
面に付着する現像廃液を洗い流す。この洗浄水ノズル２
１に洗浄水を給水する給水路（図示は省略）は流量調節
手段を備えており、この流量と洗浄液ノズル２１の位置
を調節して、回転中の基板１裏面の周辺部に過不足なく
洗浄水を噴出する。

〔発明が解決しようとする課題〕

ところか、このような装置では、給水源の水圧の僅かな
変動等で洗浄状態が変化し、洗浄不充分となったり、洗
浄水が基板表面に回り込んで現像処理に悪影響を与えた
り、或いは洗浄水か真空吸着部に入り込む、等の現象を
生じ易く、適当な洗浄状態を得ること及びそれを維持す
ることか容易ではない、という問題があった。

本発明は、このような問題を解決して、基板裏面への現
像廃液の付着を容易に防止することか可能なレジスト現
像装置を提供することを目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

この目的は、本発明によれば、回転する基板１上に現像
液を供給して該基板１表面のレジストを現像する装置で
あって、環状をなし洗浄水を貯留する貯水槽１５と、環
状をなし該貯水槽１５の上部を覆う整流板１６と、該貯
水槽１５内部及び該整流板１６上面に開口して該貯水槽
１５内の洗浄水を該基板１裏面に向けて吐出するバイブ
１７とを有し、該貯水槽１５は連続的に供給される洗浄
水をオーバフローさせて水位を一定に保つ排水口１５ａ
をその上部側面に備えており、該整流板１６は上面の該
パイプ１７開口部付近か該基板１裏面に近接しており且
つ上面の該パイプ１７開口部より外周側か下方へ傾斜し
ていることを特徴とするレジスト現像装置とすることて
、達成される。

〔作用〕

基板の高速回転により基板裏面側にはチャック側から整
流板上方を通過して基板外周側に向かう気流を生じる。

整流板と基板との間隙は整流板の内周部から中間部へか
けて極めて狭く、中間部から外周部へは徐々に拡がって
いるから、この狭隘部分では気圧が低下する。貯水槽内
から通じるパイプはこの狭隘部分に開口しているから、
基板か高速回転することにより貯水槽内から洗浄水が吸
引吐出されて基板裏面に達し、基板外周端からカップへ
放出される。一方、洗浄水は連続的に貯水槽に供給され
、貯水槽上部の排水口からオーバフローしており、給水
路から供給される洗浄水の水圧か多少変化しても水位は
変化しないから、基板の回転速度が一定ならば洗浄水の
吐出量は変化せず、従って安定した洗浄状態か維持され
る。

〔実施例〕

本発明に基づく回転式レジスト現像装置の実施例を第１
図及を参照しなから説明する。第１図は本発明の実施例
を示す模式断面図である。図中、ｌは被処理物の基板で
あり、表面に露光法レジスト膜を有している。１１はチ
ャックであり、基板ｌを真空吸着する。１２はモータ等
からなる回転手段であり、チャック１１を回転させる。

１３はカップであり、現像廃液を収容し、その底部に排
液口１３ａを備えている。１４は環状体であり、基板１
の下方でチャック１１を包囲するように配設されている
。

この環状体１４は環状の貯水槽１５、その上部を覆う環
状の整流板１６、貯水槽１５内部と整流板１６上面に開
口する複数のパイプエフからなる。整流板１６の上面は
内周部から中間部（この部分にバイブ１７か開口して吐
出口１７ａとなっている）へかけては水平面、中間部か
ら外周側は外周部に向けて緩やかに下方へ傾斜している
。この水平面は基板１裏面に極めて近接している。貯水
槽１５の上部側面には排水口１４ａか設けられており、
給水路１８から貯水槽１５に連続的に供給される洗浄水
をここからオーバフローさせて水面の高さを一定に保つ
。給水路Ｉ８の途中からドレイン路１９が分岐しており
、それぞれバルブ１８ａ　、　１９ａを備えている。

この装置によるレジスト現像は次のように行う。

先ず洗浄水か給水路１８から貯水槽１５に連続的に供給
され、且つ排水口１５ａからオーバフローする状態で回
転手段１２を起動し、チャック１１に真空吸着された基
板ｌを回転させる（例えば５００　ｒｐｒｎ　）。

基板ｌの回転により吐出口１７ａから洗浄水か吐出され
、基板ｌ裏面の洗浄か始まる。同時に現像液ノズル（図
示は省略）から現像液を基板１上に吐出させて現像を開
始する。所定時間の後に現像液の吐出を止め、代わりに
リンス液ノズル（図示は省略）からリンス液（純水等）
を基板ｌ上に噴出させてリンスを開始する。所定時間の
後にバルブ１８ａを閉じて洗浄水の給水を停止すると共
にバルブ１９ａを開いてトレインを開始する（貯水槽１
５内の洗浄水の水位を下げる）。所定時間の後に先ずリ
ンス液の噴出を止め、次いて基板ｌの回転を早めて（例
えば２．００Ｏｒｐｍ）スピン乾燥を行う。所定時間の
後に基板１の回転を止めて処理を終わる。

尚この時、バルブ１９ａを閉じると共にバルブ１８ａを
開いて貯水槽１５への洗浄水の給水を開始し、次の基板
１の処理に備える。

この装置によりレジスト現像を行った結果、裏面洗浄中
に洗浄状態が変化することかなく、洗浄不充分となった
り、洗浄水か基板表面に回り込んだり、或いは真空吸着
部に入り込むことはなかった。

本発明は以上の実施例に限定されることなく、更に種々
変形して実施出来る。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明によれば、基板裏面への現
像廃液の付着を容易に防止することが可能なレジスト現
像装置を提供することが出来、半導体装置、フォトマス
ク等の製造歩留り向上に寄与するところか大きい。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例を示す模式断面図、第２図は従
来の装置の一例を示す模式断面図、である。 図中、１は基板、 ＩＩはチャック、 １２は回転手段、 １３はカップ、 １５は貯水槽、 １５ａは排水口、 １６は整流板、 １７はパイプ、 １８は給水路、である。 木免明の失兇例乏示す棟咲面図 従来の装置の−例Σ示井引幻馳面図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 回転する基板（１）上に現像液を供給して該基板（１）
   表面のレジストを現像する装置であって、環状をなし洗
   浄水を貯留する貯水槽（１５）と環状をなし該貯水槽（
   １５）の上部を覆う整流板（１６）と該貯水槽（１５）
   内部及び該整流板（１６）上面に開口して該貯水槽（１
   ５）内の洗浄水を該基板（１）裏面に向けて吐出するパ
   イプ（１７）とを有し、 該貯水槽（１５）は連続的に供給される洗浄水をオーバ
   フローさせて水位を一定に保つ排水口（１５ａ）をその
   上部側面に備えており、 該整流板（１６）は上面の該パイプ（１７）開口部付近
   が該基板（１）裏面に近接しており且つ上面の該パイプ
   （１７）開口部より外周側が下方へ傾斜していることを
   特徴とするレジスト現像装置。