JP3289208B2 - 洗浄処理方法及び洗浄処理装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、洗浄処理方法及
び洗浄処理装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】一般に、液晶表示ディスプレイ（ＬＣ
Ｄ）装置の製造工程においては、ＬＣＤ基板（ガラス基
板）上に例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉ
ｄｅ）の薄膜や電極パターン等を形成するために、半導
体製造工程において用いられるものと同様なフォトリソ
グラフィ技術を用いて回路パターン等を縮小してフォト
レジストに転写し、これを現像処理する一連の処理が施
される。

【０００３】例えば、被処理体であるＬＣＤ基板を、洗
浄し、アドヒージョン処理により疎水化処理を施し、冷
却した後、ＬＣＤ基板上にフォトレジストすなわち感光
膜を塗布形成する。そして、この塗布したフォトレジス
トをベーキングし、露光装置にて所定のパターンを露光
する。そして、露光後のＬＣＤ基板に現像液を塗布して
現像した後にリンス液により現像液を洗い流し、現像処
理を完了する。

【０００４】上記のような処理を行う場合、ＬＣＤ基板
等の被処理体の表面にスピンコーティング法やスプレー
法等によってレジスト液を塗布する処理が行われるが、
この塗布処理の際、塗布直後における膜厚は均一である
が、回転が停止して遠心力が働かなくなった後や時間が
経つに従い表面張力の影響でＬＣＤ基板周縁部でレジス
ト液が盛り上がるように厚くなり、また、レジスト液が
ＬＣＤ基板の下面周縁部にまで回り込んで不要な膜が形
成される現象が発生する。このようにＬＣＤ基板の周縁
部に不均一な厚い膜が形成されていると、集積回路パタ
ーン等の現像時に周縁部のレジスト膜が完全には除去さ
れずに残存することになり、その後のＬＣＤ基板の搬送
工程中にその残存したレジストが剥がれ、パーティクル
発生の原因となる。

【０００５】そこで、従来では、ＬＣＤ基板の表面にレ
ジスト液等を塗布した後、ＬＣＤ基板の周縁部の不要な
塗布膜を除去する処理が行われている。この塗布膜除去
工程によって塗布膜形成工程の後のＬＣＤ基板の周縁部
にレジストの溶剤等の洗浄液例えばシンナを噴射してＬ
ＣＤ基板の周縁部の不要な塗布膜を除去することができ
る。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところで、近年では、
環境汚染や作業の安全対策上、低公害で安全性の高い溶
剤例えばシンナの使用が要求されている。しかしなが
ら、低公害や安全性の高い溶剤は、反面、洗浄能力が低
下するため、使用量が従来の溶剤例えばシンナの４〜５
倍に増大し、特に、大型化の傾向にあるＬＣＤ基板の洗
浄処理においては、シンナの使用量が増大するという問
題がある。

【０００７】また、広く行われているスピンコーティン
グ法によってレジスト液を塗布するレジスト塗布装置に
おいては、遠心力によってレジスト液が外方へ飛散する
ため、レジスト塗布装置がレジストで汚れ易いという問
題もあった。

【０００８】この発明は、上記事情に鑑みなされたもの
で、被処理体の洗浄に供される洗浄液を有効に利用する
ようにした洗浄処理方法及び洗浄処理装置を提供するこ
とを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１記載の洗浄処理方法は、被処理体に未使用
の洗浄液を供給して洗浄した後、回収始めの使用済み洗
浄液は排出し、その後の再利用に適する使用済み洗浄液
を回収し、 回収された洗浄液を貯留し、 貯留された
洗浄液の量が所定量以下になったときに回収された洗浄
液の貯留部に未使用の洗浄液を補充し、この補充された
洗浄液と回収された洗浄液の混合液を上記被処理体とは
別の被洗浄体の洗浄に利用する、ことを特徴とする。

【００１０】また、請求項２記載の洗浄処理方法は、被
処理体に未使用の洗浄液を供給して洗浄した後、回収始
めの使用済み洗浄液は排出し、その後の再利用に適する
使用済み洗浄液を回収し、 回収された洗浄液中から気
体を分離除去して洗浄液を貯留し、 貯留された洗浄液
の量が所定量以下になったときに回収された洗浄液の貯
留部に未使用の洗浄液を補充し、この補充された洗浄液
と回収された洗浄液の混合液を上記被処理体とは別の被
洗浄体の洗浄に利用する、ことを特徴とする。

【００１１】この発明の洗浄処理方法において、貯留さ
れた洗浄液を上記被処理体の処理装置又は他の処理装置
の洗浄に利用する方が好ましい（請求項３）。

【００１２】この発明の洗浄処理装置は、被処理体に洗
浄液を供給する第１の洗浄液供給手段と、 上記被処理
体の洗浄に供された洗浄液を回収する回収管と、 上記
回収管に切換弁を介設して接続され回収始めの洗浄液を
排出する排液管と、 回収された洗浄液から気体を分離
除去する気液分離手段と、 上記気液分離手段により分
離された洗浄液を貯留する洗浄液貯留部と、 上記洗浄
液貯留部内の洗浄液を被洗浄体に供給する第２の洗浄液
供給手段と、を具備し、 上記洗浄液貯留部を、貯留さ
れた洗浄液の量が所定量以下になった時点で液面センサ
が始動して、その信号に基づいて制御手段からの制御信
号によって洗浄液供給源からの洗浄液を補充可能に形成
してなる、ことを特徴とする（請求項４）。

【００１３】この発明の洗浄処理装置において、上記第
２の洗浄液供給手段を上記被処理体の処理装置又は他の
処理装置に設ける方が好ましい（請求項５）。また、こ
の発明の洗浄処理装置において、上記第１の洗浄液供給
手段に、被処理体の縁部両面の互いに干渉しない部位に
向けて洗浄液を噴射する適宜間隔をおいて配列された複
数のノズル孔を設け、外方側部に上記回収管を接続する
方が好ましい（請求項６）。この場合、回収管と接続す
る排液路の開口をノズル孔から噴射される洗浄液を有効
に受け止めるように例えば拡開テーパ状に形成する方が
好ましい。つまり、排液路の拡開テーパ状開口より内側
に複数のノズル孔を配列する方が好ましい。

【００１４】この発明によれば、被処理体に未使用の洗
浄液を供給して洗浄した後、回収始めの使用済み洗浄液
は排出し、その後の再利用に適する使用済み洗浄液を回
収し、回収された洗浄液を貯留し、貯留された洗浄液を
被処理体とは別の被洗浄体の洗浄に利用することによ
り、洗浄液を有効に利用することができる（請求項１，
２，４）。したがって、洗浄液の使用量を少なくできる
ので、コストの低廉化を図ることができると共に、資源
の有効利用を図ることができる。この場合、回収された
洗浄液中から気体を分離除去して洗浄液を貯留すること
により、洗浄液のみを再利用に供することができる（請
求項２，４）。また、回収された洗浄液の貯留部に未使
用の洗浄液を補充し、この補充された洗浄液と回収され
た洗浄液の混合液を被処理体とは別の被洗浄体の洗浄に
利用することにより、更に洗浄効率を高めることがで
き、洗浄処理装置の信頼性の向上を図ることができる
（請求項１，２，４）。

【００１５】また、貯留された洗浄液を被処理体の処理
装置又は他の処理装置の洗浄に利用することにより、同
一処理系又は別の処理系において洗浄液を有効に使用す
ることができ、かつ、洗浄液の配管系を少なくすること
ができるので、装置の小型化を図ることができる（請求
項３，５）。

【００１６】加えて、第１の洗浄液供給手段に、被処理
体の縁部両面の互いに干渉しない部位に向けて洗浄液を
噴射するノズル孔を設け、外方側部に回収管を接続する
ことにより、第１の洗浄液供給手段から供給された１次
洗浄に供された洗浄液を効率よく回収することができる
ので、洗浄液の無駄を省き、更に洗浄効率の向上を図る
ことができる（請求項６）。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下にこの発明の実施の形態を図
面に基づいて詳細に説明する。ここでは、この発明に係
る洗浄処理装置を、ＬＣＤ基板のレジスト塗布装置に適
用した場合について説明する。

【００１８】上記レジスト塗布装置は、図１に示すよう
に、角形状の被処理体例えば矩形状のＬＣＤ基板Ｇ（以
下に基板という）の表面に塗布液供給ノズル１ａから塗
布液例えばレジスト液を供給してレジスト液を塗布する
塗布機構１と、基板Ｇの周縁部に塗布形成された不要な
塗布膜を除去する縁部除去機構２とを隣接して例えば一
体的に同一雰囲気内に配設し、かつ、縁部除去機構２に
使用される洗浄液例えばレジスト液の溶剤（シンナ）を
回収し、回収したシンナを塗布機構１のカップ洗浄に利
用するこの発明に係る洗浄処理装置４と、塗布機構１に
よって塗布された基板Ｇを縁部除去機構２に搬送する搬
送機構３を具備してなる。

【００１９】上記塗布機構１は、図２及び図３に示すよ
うに、基板Ｇを図示しない真空装置によって吸着保持す
ると共に水平方向（θ方向）に回転するスピンチャック
１０と、このスピンチャック１０の上部及び外周部を包
囲する処理室２０を有する上方部が開口した有低開口円
筒状の回転カップ１２と、回転カップ１２の開口部１２
ａを開閉可能に被着（着脱）し得る蓋体１６と、回転カ
ップ１２の外周側を取囲むように配置される中空リング
状のドレンカップ１４とで主要部が構成されている。

【００２０】上記スピンチャック１０は下方に配置した
駆動モータ２１の駆動によって回転される回転軸２２を
介して水平方向に回転（自転）可能になっており、また
回転軸２２に連結される昇降シリンダ２３の駆動によっ
て上下方向に移動し得るようになっている。この場合、
回転軸２２は、固定カラー２４の内周面にベアリング２
５ａを介して回転可能に装着される回転内筒２６ａの内
周面に嵌着されるスプライン軸受２７に摺動可能に連結
されている。スプライン軸受２７には従動プーリ２８ａ
が装着されており、従動プーリ２８ａには駆動モータ２
１の駆動軸２１ａに装着された駆動プーリ２１ｂとの間
にベルト２９ａが掛け渡されている。したがって、駆動
モータ２１の駆動によってベルト２９ａを介して回転軸
２２が回転してスピンチャック１０が回転される。ま
た、回転軸２２の下部側は図示しない筒体内に配設され
ており、筒体内において回転軸２２はバキュームシール
部３０を介して昇降シリンダ２３に連結され、昇降シリ
ンダ２３の駆動によって回転軸２２が上下方向に移動し
得るようになっている。

【００２１】上記回転カップ１２は、上記固定カラー２
４の外周面にベアリング２５ｂを介して装着される回転
外筒２６ｂの上端部に固定される連結筒３１を介して取
り付けられており、回転カップ１２の底部１２ｂとスピ
ンチャック１０の下面との間には、シール機能を有する
ベアリング３２が介在されてスピンチャック１０と相対
的に回転可能になっている。そして、回転外筒２６ｂに
装着される従動プーリ２８ｂと上記駆動モータ２１に装
着される駆動プーリ２１ｂに掛け渡されるベルト２９ｂ
によって駆動モータ２１からの駆動が回転カップ１２に
伝達されて回転カップ１２が回転される。この場合、従
動プーリ２８ｂの直径は上記回転軸２２に装着された従
動プーリ２８ａの直径と同一に形成され、同一の駆動モ
ータ２１にベルト２９ａ，２９ｂが掛け渡されているの
で、回転カップ１２とスピンチャック１０は同一回転す
る。なお、固定カラー２４と回転内筒２６ａ及び回転外
筒２６ｂとの対向面にはラビリンスシール部（図示せ
ず）が形成されて回転処理時に下部の駆動系から回転カ
ップ１２内にごみが進入するのを防止している。なお、
上記従動プーリ２８ａと２８ｂの直径を異ならせ、異な
る回転数で回転させるようにしてもよい。

【００２２】また、回転カップ１２は、側壁の内側面が
上側に向って縮径されたテーパ面を形成してなり、蓋体
１６の中心部側に設けられた給気孔３４から供給される
空気流が、蓋体１６の下方側に配置された整流板３３上
を通ってテーパ面に沿って、下部周辺部すなわち側壁の
下部側の周方向の適宜位置に設けられた排気孔３５から
排気されるように構成されている。このように給気孔３
４と排気孔３５を設けることにより、回転カップ１２が
回転する際に、給気孔３４から処理室２０内に流れる空
気が排気孔３５から外部に流れるので、回転カップ１２
の回転時に処理室２０内が必要以上に負圧になるのを防
止することができ、また、処理後に回転カップ１２から
蓋体１６を開放する際に大きな力を要することなく，蓋
体１６を容易に開放することができる。

【００２３】一方、上記ドレンカップ１４内部には環状
通路１４ａが設けられており、この環状通路１４ａの外
周壁の適宜箇所（例えば周方向の４箇所）には図示しな
い排気装置に接続する排気口３６が設けられると共に、
ドレンカップ１４の内周側上方部に排気口３６と連通す
る放射状の排気通路３７が形成されている（図３参
照）。このようにドレンカップ１４の外周部に排気口３
６を設けると共に、ドレンカップ１４の内周側上方部に
排気口３６と連通する排気通路３７を形成することによ
り、回転処理時に処理室２０内で遠心力により飛散し排
気孔３５を通ってドレンカップ１４内に流れ込んだミス
トが回転カップ１２の上部側へ舞い上がるのを防止し
て、排気口３６から外部に排出することができる。

【００２４】上記環状通路１４ａは、ドレンカップ１４
の底部から起立する外側壁１４ｂとドレンカップ１４の
天井部から垂下する内側壁１４ｃとで迂回状に区画され
て、排気が均一に行えるようになっており、外側壁１４
ｂと内側壁１４ｃとの間に位置する底部１４ｄには周方
向に適宜間隔をおいてドレン孔１４ｅが設けられてい
る。

【００２５】上記蓋体１６は回転処理時には回転カップ
１２の開口部１２ａに固定されて一体に回転される必要
があるので、例えば回転カップ１２の上部に突出する固
定ピン（図示せず）と、この固定ピンに嵌合する嵌合凹
所（図示せず）とを互いに嵌合させて蓋体１６を回転カ
ップ１２に固定することができる。

【００２６】上記蓋体１６を開閉する場合には、図２に
想像線で示すように、蓋体１６の上面に突設された膨隆
頭部１８の下にロボットアーム４０を挿入し、膨隆頭部
１８に設けられた係止溝１８ａにロボットアーム４０か
ら突出する係止ピン４１を係合させた後、ロボットアー
ム４０を上下動させることによって行うことができる。
なお、蓋体１６を開放するときの膨隆頭部１８の係止溝
１８ａとロボットアーム４０の係止ピン４１との位置合
せ、及び蓋体１６を閉じるときの固定ピンと嵌合凹所の
位置合せは、サーボモータ等にて形成される駆動モータ
２１の回転角を制御することによって行うことができ
る。

【００２７】一方、図３及び図４に示すように、上記ド
レンカップ１４の内側壁１４ｂには、回転カップ１２の
外側面に向かって洗浄液例えばシンナを噴射（供給）す
る第１のシンナ供給ノズル１５ａが取り付けられ、ま
た、外側壁１４ｂには、内側壁１４ｃの外側面及び外側
壁１４ｂの内側面に向かってシンナを噴射（供給）する
第２のシンナ供給ノズル１５ｂが取り付けられ、また、
ドレンカップ１４の底部１４ｄから回転カップ１２の下
方側に延在する水平片１４ｆには、回転カップ１２の外
側下面及び内側壁１４ｃの内側面に向かってシンナを噴
射（供給）する第３のシンナ供給ノズル１５ｃが取り付
けられている。これら第１，第２及び第３のシンナ供給
ノズル１５ａ，１５ｂ，１５ｃは円周方向に適宜間隔を
おいて複数取り付けられており、これら複数のシンナ供
給ノズル１５ａ，１５ｂ，１５ｃによって第２の洗浄液
供給手段１５が構成されている。

【００２８】上記縁部除去機構２は、図１に示すよう
に、図示しない真空装置によって基板Ｇを吸着保持する
載置台５０と、この載置台５０によって保持される基板
Ｇの４辺の縁部の上下面に洗浄液例えばレジストの溶剤
（シンナ）を噴射する第１の洗浄液供給手段である４個
の除去ノズル５１とで主要部が構成されている。また、
除去ノズル５１に使用された洗浄液例えばシンナをこの
発明に係る洗浄処理装置４にて回収して、上記カップ１
２，１４の洗浄に再利用し得るように構成されている。

【００２９】上記載置台５０の上面には、図５に示すよ
うに，基板Ｇを保持する複数例えば９個の倣い式のパッ
ド５２が取り付けられている。このパッド５２は、図６
に示すように、載置台５０に設けられたバキューム孔５
０ａ及びこのバキューム孔５０ａの外周の段付凹部５０
ｂ内にパッキング５２ａを介して押えリングねじ５２ｂ
によって固定される略王冠状のオイルシール５２ｃと、
このオイルシール５２ｃの王冠部５２ｄに移動可能に嵌
合される中心部に吸引孔５２ｆを有するトップパッド５
２ｅとで構成されている。このように構成することによ
り、トップパッド５２ｅ上に基板Ｇが載置された状態で
真空装置が作動して吸引すると、トップパッド５２ｅが
基板Ｇの傾斜や変形に追従して密着し、基板Ｇを確実に
吸着保持することができる。

【００３０】上記除去ノズル５１は、図１のＸ又はＹ方
向に延在するように設けられたガイドレール５３に摺動
自在に取り付けられたスライド部材５４に取着されてい
る。このスライド部材５４は、ワイヤ，チェーン，ベル
ト，ボールねじやステッピングモータ，エアーシリンダ
等を使用した移動機構（図示せず）により、Ｘ又はＹ方
向に往復移動可能に構成されている。また、隣接する除
去ノズル５１が互いに干渉つまり衝突しないように、除
去ノズル５１の近接位置を検知するセンサ５５が設けら
れている。このセンサ５５によって隣接する一方の除去
ノズル５１が他方の除去ノズル５１側に接近するのを検
知し、その検知信号を図示しない制御部に伝達して、制
御部からの制御信号によって移動機構の駆動を停止する
ことにより、隣接する除去ノズル５１同士の干渉すなわ
ち衝突を防止することができる。

【００３１】上記除去ノズル５１は、図７及び図８に示
すように、基板Ｇの縁部の上面を覆う上部水平片５６ａ
と、上部水平片５６ａより外方に突出する下部水平片５
６ｂとからなる断面略コ字状の噴頭５６を具備してお
り、この噴頭５６の上部水平片５６ａと下部水平片５６
ｂに、それぞれ表面のレジスト除去用のシンナ供給路５
６ｃと裏面のレジスト除去用のシンナ供給路５６ｄが設
けられ、これらシンナ供給路５６ｃ，５６ｄに、それぞ
れ複数の表面洗浄用のノズル孔５１ａと裏面洗浄用のノ
ズル孔５１ｂが接続されている。また、噴頭５６の垂直
部５６ｅには後述する回収管６０に接続する排液路５６
ｆが中心線Ｃに沿って設けられている。この排液路５６
ｆの基板縁部側開口５６ｇの開口幅は、先端に向かって
拡開するテーパ状に形成されている。

【００３２】また、ノズル孔５１ａは、図８（ａ）に示
すように、除去ノズル５１の中心線Ｃと直交する直線位
置に適宜間隔をおいて複数配列されている。この場合、
ノズル孔５１ａは中心線Ｃからずれた位置に配列され、
かつ排液路５６ｆの拡開テーパ状開口５６ｇの内側に配
列されている。一方、ノズル孔５１ｂは、図８（ｂ）に
示すように、ノズル孔５１ａと対向する直線上にノズル
孔５１ａと互いに干渉しないずれた位置に適宜間隔をお
いて、拡開テーパ状開口５６ｇより内側に複数配列され
ると共に、先端延在部の中心線Ｃ上に適宜間隔をおいて
配列されている。ここで、ノズル孔５１ａと５１ｂをず
らして設ける理由は、ノズル孔５１ａ，５１ｂから噴射
されるシンナがノズル近傍で衝突すると、この衝突によ
って飛散されるシンナが基板Ｇの表面部のレジスト膜に
付着してレジスト膜の膜厚を不均一にするなどの悪影響
を及ぼすのを防止するためである。また、ノズル孔５１
ａ，５１ｂを拡開テーパ状開口５６ｇより内側に配列す
ることにより、ノズル孔５１ａ，５１ｂから噴射（供
給）されたシンナが外部に飛散することなく、効率良く
排液路５６ｆから回収管６０に回収することができる。

【００３３】上記洗浄処理装置４は、図２に示すよう
に、レジスト膜が形成された基板Ｇの縁部両面に向かっ
て洗浄液例えばシンナを供給する除去ノズル５１（第１
の洗浄液供給手段）と、この除去ノズル５１の排液路５
６ｆに接続する回収管６０と、回収管６０に介設された
吸引機構６１によって回収されたシンナと空気の混合液
を気液分離するミストトラップ６２（気液分離手段）
と、ミストトラップ６２から分離されたシンナＡを貯留
する貯留タンク７０（洗浄液貯留部）を具備してなる。
また、貯留タンク７０と、上記第２の洗浄液供給手段１
５すなわちカップ洗浄用の第１〜第３のノズル１５ａ〜
１５ｃとがシンナ供給管７１にて接続されており、図示
しない不活性ガス例えば窒素（Ｎ2）ガス供給源から貯
留タンク７０内に供給されるＮ2ガスによって貯留タン
ク７０内のシンナＡが第１〜第３のノズル１５ａ〜１５
ｃから被洗浄体である回転カップ１２の外側及びドレン
カップ１４の内側に噴射（供給）されるように構成され
ている。なお、Ｎ2ガスによらずにポンプを用いて貯留
タンク７０内のシンナを第１〜第３のノズル１５ａ〜１
５ｃに供給するようにしてもよい。

【００３４】また、貯留タンク７０に補充供給管７２を
介して例えばシンナ収容タンク等のシンナ供給源７３が
接続されており、貯留タンク７０内のシンナ量が所定量
以下になった時点で液面センサ７４が作動して、その信
号に基づいて図示しない制御手段からの制御信号によっ
てシンナ供給源７３からシンナが貯留タンク７０内に補
充されるように構成されている。なお、回収管６０に切
換弁７５を介設して排液管７６を接続しておけば、例え
ば回収始めの使用済みシンナ（レジスト濃度が比較的高
いシンナ）を排液管７６から排出した後、切換弁７５を
切り換えて再利用に適するシンナを回収することができ
る。

【００３５】次に、上記洗浄処理装置４による洗浄作用
について説明する。まず、上記塗布機構１で塗布処理さ
れた基板Ｇを搬送機構３によって縁部除去機構２の載置
台５０上に搬送して載置し、真空により吸着保持する。
次に、除去ノズル５１の移動機構を駆動して基板Ｇの各
辺に沿う除去ノズル５１をＸ又はＹ方向に移動すると共
に、シンナ供給源から供給される未使用のシンナをノズ
ル孔５１ａ，５１ｂから噴射（供給）して、基板Ｇの縁
部両面に付着する不要なレジストを溶解して除去する。

【００３６】洗浄に供されたシンナは吸引機構６１の吸
引による空気流によって排液路５６ｆを介して回収管６
０に流れ、ミストトラップ６２に回収される。なおこの
場合、洗浄し始に使用されたシンナは切換弁７５の切り
換えによって排液管７６から排出する。

【００３７】ミストトラップ６２に回収されたシンナと
空気の混合物は、ミストトラップ６２の排気作用によっ
て空気が外方に除去され、シンナのみが自重によって貯
留タンク７０内に貯留される。貯留タンク７０内に貯留
されたシンナＡをカップ洗浄に使用するには、図示しな
いＮ2ガス供給源から貯留タンク７０内にＮ2ガスを供給
して行う。すなわち、貯留タンク７０内に供給されるＮ
2ガスのガス圧によって貯留タンク７０内のシンナＡが
シンナ供給管７１から第２の洗浄液供給手段１５の第１
〜第３のノズル１５ａ〜１５ｃに供給され、第１〜第３
のノズル１５ａ〜１５ｃからそれぞれ回転カップ１２の
外側面、ドレンカップ１４の内側面に噴射（供給）され
る。これにより、レジストの塗布処理時に飛散されて回
転カップ１２及びドレンカップ１４に付着したレジスト
を溶解して除去することができる。なお、貯留タンク７
０内のシンナ量が少なくなったときは、シンナ供給源７
３から貯留タンク７０内にシンナを補充すれば、カップ
洗浄に支障をきたすことがない上、カップ洗浄の洗浄効
率の向上が図れ、かつ洗浄処理装置の信頼性の向上を図
ることができる。

【００３８】上記のように、縁部除去機構２によって基
板Ｇの縁部に付着した不要レジストの除去に使用された
シンナを回収し、回収されたシンナと空気の混合物から
空気を除去したシンナのみを貯留し、貯留されたシンナ
をカップ洗浄に使用することにより、従来基板Ｇの縁部
の不要レジストの除去に使用されて廃棄されていたシン
ナを再利用することができる。したがって、シンナの有
効利用が図れる共に、シンナの無駄を省き、コストの低
廉化を図ることができる。また、レジスト塗布機構１と
縁部除去機構２の同一処理系において、縁部除去機構２
で使用されたシンナを塗布機構１のカップ洗浄に再利用
することができるので、配管を共通にして配管系を少な
くすることができ、装置の小型化を図ることができる。

【００３９】上記のように構成されるこの発明に係る洗
浄処理装置は単独の装置として使用できることは勿論で
あるが、以下に説明するＬＣＤ基板の塗布・現像処理シ
ステムに組込んで使用することができる。

【００４０】上記塗布・現像処理システムは、図９に示
すように、基板Ｇを搬入・搬出するローダ部９０と、基
板Ｇの第１処理部９１と、中継部９３を介して第１処理
部９１に連設される第２処理部９２とで主に構成されて
いる。なお、第２処理部９２には受渡し部９４を介して
レジスト膜に所定の微細パターンを露光するための露光
装置９５が連設可能になっている。

【００４１】上記のように構成される塗布・現像処理シ
ステムにおいて、カセット９６内に収容された未処理の
基板Ｇはローダ部９０の搬出入ピンセット９９によって
取出された後、第１処理部９１の搬送路１０２を移動す
るメインアーム８０に受け渡され、そして、ブラシ洗浄
装置１２０内に搬送される。このブラシ洗浄装置１２０
内にてブラシ洗浄された基板Ｇは引続いてジェット水洗
浄装置１３０内にて高圧ジェット水により洗浄される。
この後、基板Ｇは、アドヒージョン処理装置１０５にて
疎水化処理が施され、冷却処理装置１０６にて冷却され
た後、レジスト塗布装置１０７の塗布機構１にてレジス
ト膜が塗布形成され、引続いて塗布膜除去装置１０８の
縁部除去機構２によって基板Ｇの辺部の不要なレジスト
膜が除去される。したがって、この後、基板Ｇを搬出す
る際には縁部のレジスト膜は除去されているので、メイ
ンアーム８０にレジストが付着することもない。この縁
部除去機構２によって不要レジストの除去に使用された
シンナは、上述したように、回収管６０を介してミスト
トラップ６２に回収され、空気が除去されたシンナのみ
が貯留タンク７０内に貯留され、レジスト塗布装置１０
７のカップ洗浄に再利用される。

【００４２】上記塗布膜除去装置１０８にて不要レジス
トが除去された基板Ｇは、フォトレジストが加熱処理装
置１０９にて加熱されてベーキング処理が施された後、
露光装置９５にて所定のパターンが露光される。そし
て、露光後の基板Ｇは第２処理部９２の搬送路１０２ａ
を移動するメインアーム８０ａによって受けとられて現
像装置１１０内へ搬送され、現像液により現像された後
にリンス液により現像液を洗い流し、現像処理を完了す
る。現像処理された処理済みの基板Ｇはローダ部９０の
カセット９７内に収容された後に、搬出されて次の処理
工程に向けて移送される。

【００４３】上記実施形態では、基板Ｇの縁部の不要レ
ジストの除去に使用された洗浄液例えばシンナをレジス
ト塗布装置の回転カップ１２とドレンカップ１４の洗浄
に再利用する場合について説明したが、別の形態のカッ
プの洗浄にも再利用することができることは勿論であ
る。また、再利用に供される洗浄は必しもレジスト塗布
装置のカップである必要はなく、その他の処理装置例え
ば現像装置のカップの洗浄あるいはカップ以外の例えば
処理容器の洗浄等にも利用できる。

【００４４】また、上記実施形態では、この発明に係る
洗浄処理方法及び洗浄処理装置をＬＣＤ基板の塗布処理
に適用した場合について説明したが、ＬＣＤ基板以外の
例えば半導体ウエハ等の被処理体の洗浄処理にも適用す
ることができる。

【００４５】

【発明の効果】以上に説明したように、この発明によれ
ば、以下のような優れた効果が得られる。

【００４６】１）請求項１、２又は４記載の発明によれ
ば、被処理体に未使用の洗浄液を供給して洗浄した後、
回収始めの使用済み洗浄液は排出し、その後の再利用に
適する使用済み洗浄液を回収し、回収された洗浄液を貯
留し、貯留された洗浄液を被処理体とは別の被洗浄体の
洗浄に利用することにより、洗浄液を有効に利用するこ
とができるので、洗浄液の使用量を少なくして、コスト
の低廉化を図ることができると共に、資源の有効利用を
図ることができる。この場合、回収された洗浄液中から
気体を分離除去して洗浄液を貯留することにより、洗浄
液のみを再利用に供することができる（請求項２，
４）。また、回収された洗浄液の貯留部に未使用の洗浄
液を補充し、この補充された洗浄液と回収された洗浄液
の混合液を被処理体とは別の被洗浄体の洗浄に利用する
ことにより、更に洗浄効率を高めることができ、洗浄処
理装置の信頼性の向上を図ることができる。

【００４７】２）請求項３又は５記載の発明によれば、
貯留された洗浄液を被処理体の処理装置又は別の処理装
置の洗浄に利用することにより、同一処理系又は別の処
理系において洗浄液を有効に使用することができ、か
つ、洗浄液の配管系を少なくすることができるので、装
置の小型化を図ることができる。

【００４８】３）請求項６記載の発明によれば、第１の
洗浄液供給手段に、被処理体の縁部両面の互いに干渉し
ない部位に向けて洗浄液を噴射するノズル孔を設け、外
方側部に回収管を接続することにより、第１の洗浄液供
給手段から供給された１次洗浄に供された洗浄液を効率
よく回収することができるので、上記１）に加えて洗浄
液の無駄を省き、更に洗浄効率の向上を図ることができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明に係る洗浄処理装置を具備するレジス
ト塗布装置の概略平面図である。

【図２】この発明に係る洗浄処理装置を示す概略構成図
である。

【図３】上記レジスト塗布装置の塗布機構を示す拡大断
面図である。

【図４】この発明における第２の洗浄液供給手段を示す
拡大断面図である。

【図５】ＬＣＤ基板の載置台を示す概略斜視図である。

【図６】図５の要部拡大断面図である。

【図７】この発明における第１の洗浄液供給手段を示す
側面図である。

【図８】上記第１の洗浄液供給手段の表面用ノズル孔を
示す概略平面図（ａ）及び第１の洗浄液供給手段の裏面
用ノズル孔を示す概略平面図（ｂ）である。

【図９】この発明に係る洗浄処理装置を適用したＬＣＤ
基板の塗布・現像システムの一例を示す斜視図である。

【符号の説明】

Ｇ ＬＣＤ基板（被処理体） Ａ シンナ（洗浄液） １２ 回転カップ（被洗浄体） １４ ドレンカップ（被洗浄体） １５ 第２の洗浄液供給手段 ５１ 除去ノズル（第１の洗浄液供給手段） ５１ａ 表面用ノズル孔 ５１ｂ 裏面用ノズル孔 ５６ｆ 排液路 ５６ｇ テーパ状開口 ６０ 回収管 ６１ 吸引機構 ６２ ミストトラップ（気液分離手段） ７０ 貯留タンク（洗浄液貯留部） ７１ シンナ供給管 ７２ 補充供給管 ７３ シンナ供給源 ７５ 切換弁

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 塚本 武 熊本県菊池郡大津町大字高尾野字平成 272番地の４ 東京エレクトロン九州大 津事業所内 (72)発明者 本田 洋一 熊本県菊池郡大津町大字高尾野字平成 272番地の４ 東京エレクトロン九州大 津事業所内 (72)発明者 山口 恭満 熊本県菊池郡大津町大字高尾野字平成 272番地の４ 東京エレクトロン九州大 津事業所内 (56)参考文献 特開 平９−1035（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−88168（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−130694（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−115060（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01L 21/304

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被処理体に未使用の洗浄液を供給して洗
   浄した後、回収始めの使用済み洗浄液は排出し、その後
   の再利用に適する使用済み洗浄液を回収し、 回収された洗浄液を貯留し、 貯留された洗浄液の量が所定量以下になったときに回収
   された洗浄液の貯留部に未使用の洗浄液を補充し、この
   補充された洗浄液と回収された洗浄液の混合液を上記被
   処理体とは別の被洗浄体の洗浄に利用する、 ことを特徴とする洗浄処理方法。
2. 【請求項２】 被処理体に未使用の洗浄液を供給して洗
   浄した後、回収始めの使用済み洗浄液は排出し、その後
   の再利用に適する使用済み洗浄液を回収し、 回収された洗浄液中から気体を分離除去して洗浄液を貯
   留し、 貯留された洗浄液の量が所定量以下になったときに回収
   された洗浄液の貯留部に未使用の洗浄液を補充し、この
   補充された洗浄液と回収された洗浄液の混合液を上記被
   処理体とは別の被洗浄体の洗浄に利用する、 ことを特徴とする洗浄処理方法。
3. 【請求項３】 請求項１又は２記載の洗浄処理方法にお
   いて、 貯留された洗浄液を上記被処理体の処理装置又は他の処
   理装置の洗浄に利用する、ことを特徴とする洗浄処理方
   法。
4. 【請求項４】 被処理体に洗浄液を供給する第１の洗浄
   液供給手段と、 上記被処理体の洗浄に供された洗浄液を回収する回収管
   と、 上記回収管に切換弁を介設して接続され回収始めの洗浄
   液を排出する排液管と、 回収された洗浄液から気体を分離除去する気液分離手段
   と、 上記気液分離手段により分離された洗浄液を貯留する洗
   浄液貯留部と、 上記洗浄液貯留部内の洗浄液を被洗浄体に供給する第２
   の洗浄液供給手段と、を具備し、 上記洗浄液貯留部を、貯留された洗浄液の量が所定量以
   下になった時点で液面 センサが作動して、その信号に基
   づいて制御手段からの制御信号によって洗浄液供給源か
   らの洗浄液を補充可能に形成してなる、 ことを特徴とする洗浄処理装置。
5. 【請求項５】 請求項４記載の洗浄処理装置において、 上記第２の洗浄液供給手段を上記被処理体の処理装置又
   は他の処理装置に設ける、ことを特徴とする洗浄処理装
   置。
6. 【請求項６】 請求項４記載の洗浄処理装置において、 上記第１の洗浄液供給手段は、被処理体の縁部両面の互
   いに干渉しない部位に向けて洗浄液を噴射する適宜間隔
   をおいて配列された複数のノズル孔を具備し、外方側部
   に上記回収管を接続してなる、ことを特徴とする洗浄処
   理装置。