JP3276601B2 - 洗浄処理方法及び洗浄処理装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、例えば液晶表示
ディスプレイ（ＬＣＤ）や半導体ウエハなどの基板を処
理する処理装置における洗浄処理方法及び洗浄処理装置
に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、処理装置、例えばＬＣＤガラス基
板などにレジスト膜を被膜処理するレジスト塗布装置な
どは、装置自体の小型化およびコスト低減と共に、装置
使用時のランニングコストを低く抑えることが急務にな
っている。

【０００３】例えばＬＣＤなどの製造工程において一般
に使用されているレジスト塗布装置は、ガラス基板（被
処理体）に対してレジスト塗布処理とその洗浄処理とを
行うものであり、スピンコーティング方式のものとスプ
レー方式のものとがある。

【０００４】例えばスピンコーティング方式のレジスト
塗布装置は、ガラス基板を載置する昇降および回転自在
なスピンチャックと、ガラス基板の中心部にレジスト液
を滴下するレジスト液滴下部と、ガラス基板の表面洗浄
を行うための洗浄液噴射ノズルと、ガラス基板の周囲を
２重に取り囲むように配設され、スピンチヤックと共に
回転してガラス基板から流出および飛散したレジスト液
やシンナを受ける内側の回転カップとその外側のドレン
カップとを有している。

【０００５】このレジスト塗布装置の場合、昇降および
回転自在なスピンチヤック上にガラス基板を載置し、こ
れを回転されながら中心部にレジスト液を滴下し遠心力
によってレジスト塗布を均一に行う。この時、ガラス基
板から流出または飛散したレジスト液の残液は、回転カ
ップに受けられて排出される。次の工程では、スピンチ
ヤックの高さを変えて洗浄液噴射ノズルから洗浄液をガ
ラス基板の端部に供給し、基板表面端部の洗浄を行いそ
の排液は、ドレンカップで受けられて排出される。洗浄
液としては、低公害で安全性が高いことから、シンナな
どの溶剤が使用されている。

【０００６】このレジスト塗布装置の場合、洗浄後の洗
浄液（廃液）には、シンナの中に多量のレジスト材料
（成分）が溶け込んでいることから、ガラス基板への再
使用はできず、ドレンカップから廃液管を通じて廃液貯
留部に貯留し、この廃液貯留部の廃液がある程度溜まっ
た時点で廃棄するようにしている。

【０００７】ところで、ドレンカップには、必ずレジス
ト成分の含まれたシンナが流されることから、洗浄処理
を繰り返すうちにレジスト成分がカップ内壁に付着して
堆積してゆく。カップ内壁にレジスト成分が付着し堆積
すると、いずれは目詰まりを引き起こすため、従来は、
ある期間毎にカップ自体の内壁を洗浄し堆積物を剥離し
ていた。これは、レジスト液自体を受ける回転カップも
同じことである。

【０００８】しかしながら、従来のレジスト塗布装置の
場合、カップ内に配設したカップ内洗浄専用のノズルか
らカップ内壁面へ向けてシンナを吹き付けてカップ内の
堆積物を取り除く洗浄形態をとっているため、これに
は、多量のシンナが必要となる。

【０００９】このように上述した従来のレジスト塗布装
置、つまり処理装置では、処理を繰り返すうちにカップ
内壁にレジストなどの汚れが付着し、これを洗浄する場
合に多量にシンナが必要となり、洗浄に要する費用がか
さむという問題があった。

【００１０】また、一度使用した洗浄液は、被洗浄体で
あるガラス基板の洗浄処理に再使用することが不可能な
ため、廃液として廃棄しており、これもランニングコス
トがかかる原因になっていた。

【００１１】更に、ＬＣＤ基板等の被処理体の表面にス
ピンコーティング法によってレジスト液を塗布する処理
が行われるが、この塗布処理の際、ＬＣＤ基板が矩形状
であるため、回転により空気流に乱れが生じ、レジスト
膜の膜厚の均一性が維持できないという問題がある。

【００１２】そのため、従来では、ＬＣＤ基板を保持す
る保持手段であるスピンチャックとＬＣＤ基板の側方及
び上、下部を蓋付回転カップで包囲し、この蓋付回転カ
ップ内のＬＣＤ基板の上方に整流板を取り付け、そし
て、蓋付回転カップの蓋部に設けられた給気孔から給気
される空気を整流板によって整流して回転カップの底部
に設けられた排気孔から排出して、空気流の乱れによる
レジスト膜の膜厚の乱れを防止している。また、蓋付回
転カップの側方及び下方を固定カップにて包囲して、回
転カップの回転により生じる空気流が回転カップ内に逆
流するのを防止している。

【００１３】しかしながら、この種のスピンコーティン
グ法によってレジスト液を塗布するレジスト塗布装置に
おいては、遠心力によってレジスト液が外方へ飛散する
ため、回転カップの内側面や底面、蓋体の裏面、整流板
の下面等にレジストが付着する。

【００１４】また、固定カップの内側面や底面にもレジ
ストが付着する虞れがある。このように回転カップ、固
定カップ内や蓋体、整流板等に付着したレジストは、乾
燥してパーティクルを発生するため、このパーティクル
がＬＣＤ基板に付着すると、回路パターン等に支障をき
たすばかりか歩留まりの低下を招くという問題がある。

【００１５】

【発明が解決しようとする課題】本発明の第１の目的
は、被処理体の洗浄に供される洗浄液を有効に利用する
ようにした洗浄処理方法及び洗浄処理装置を提供するこ
とを目的とする。

【００１６】本発明の第２の目的は、洗浄液を再利用す
ることのできる処理装置を提供することである。

【００１７】また、本発明の第３の目的は、容器の洗浄
効率を向上することのできる処理装置を提供することで
ある。

【００１８】さらに、本発明の第４の目的は、装置全体
のランニングコストの低減を図ることのできる処理装置
を提供することである。

【００１９】本発明の第５の目的は、塗布機構における
回転カップと固定カップに付着する塗布液例えばレジス
トを除去して歩留まりの向上を図れるようにした洗浄装
置及び洗浄方法を提供することである。

【００２０】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１記載の本発明の処理装置は、被処理体に処
理を施したときに流出または飛散する処理液を回収する
容器と、前記容器内に洗浄液を供給しその内壁面を洗浄
する洗浄手段と、前記洗浄手段にて前記容器の内壁面を
洗浄したときに前記容器から排出された排出液を回収し
前記洗浄手段に供給する循環系と、を有する処理装置で
あって、 前記循環系は、未使用の洗浄液を貯留する新洗
浄液貯留部と、前記容器から排出された排出液を貯留す
る排出液貯留部と、前記排出液貯留部に貯留された排出
液と前記新洗浄液貯留部に貯留された未使用の洗浄液の
うち、いずれかを選択または互いを混合して前記洗浄手
段に供給する洗浄液供給手段と、を有し、 前記洗浄液供
給手段は、前記各貯留部に貯留されている洗浄液または
排出液の液量を検知する検知手段と、前記検知手段によ
り検知された各液量を基に、前記各貯留部から摂取する
洗浄液または排出液の量を制御する制御手段とを具備し
たことを特徴とする。

【００２１】請求項２記載の本発明の処理装置は、被処
理体に処理を施したときに流出または飛散する処理液を
回収する容器と、前記容器内に洗浄液を供給しその内壁
面を洗浄する洗浄手段と、前記洗浄手段にて前記容器の
内壁面を洗浄したときに前記容器から排出された排出液
を回収し前記洗浄手段に供給する循環系と、を有する処
理装置であって、 前記循環系は、処置を施した前記被処
理体の少なくとも一部を洗浄したときに前記容器に集め
られて排出された第１の排出液を貯留する第１の排出液
貯留部と、前記容器内壁面を洗浄したときに前記容器に
集められて排出された第２の排出液を貯留する第２の排
出液貯留部と、前記第１の排出液貯留部に貯留された第
１の排出液と前記第２の排出液貯留部に貯留された第２
の排出液のうち、いずれかを選択または互いを混合して
前記洗浄手段に供給する洗浄液供給手段と、を有し、 前
記洗浄液供給手段は、前記各貯留部に貯留されている洗
浄液または排出液の液量を検知する検知手段と、前記検
知手段により検知された各液量を基に、前記各貯留部か
ら摂取する洗浄液または排出液の量を制御する制御手段
とを具備したことを特徴とする。

【００２２】請求項３記載の発明は、請求項２記載の処
理装置において、前記洗浄液供給手段は、処置を施した
前記被処理体の少なくとも一部を洗浄するための未使用
の洗浄液を前記第１の排出液貯留部または前記第２の排
出液貯留部のうちの少なくとも一方に補充し、それぞれ
に貯留された排出液のうち、いずれかを選択または互い
を混合して前記洗浄手段の供給することを特徴とする。

【００２３】請求項４記載の本発明の処理装置は、被処
理体に処理を施したときに流出または飛散する処理液を
回収する容器と、前記容器内に洗浄液を供給しその内壁
面を洗浄する洗浄手段と、前記洗浄手段にて前記容器の
内壁面を洗浄したときに前記容器から排出された排出液
を回収し前記洗浄手段に供給する循環系と、を有する処
理装置であって、 前記循環系は、未使用の洗浄液を貯留
する新洗浄液貯留部と、処理を施した前記被処理体の少
なくとも一部を洗浄したときに前記容器に集められて排
出された第１の排出液を貯留する第１の排出液貯留部
と、前記容器内壁面を洗浄したときに前記容器に集めら
れて排出された第２の排出液を貯留する第２の排出液貯
留部と、前記第１の排出液貯留部と前記第２の排出液貯
留部のうち、少なくとも一方に前記新洗浄液貯留部の未
使用の洗浄液を補充して前記洗浄手段に供給する洗浄液
供給手段と、を有し、 前記洗浄液供給手段は、前記各貯
留部に貯留されている洗浄液または排出液の液量を検知
する検知手段と、前記検知手段により検知された各液量
を基に、前記各貯留部から摂取する洗浄液または排出液
の量を制御する制御手段とを具備したことを特徴とす
る。

【００２４】請求項５記載の本発明の処理装置は、被処
理体に処理を施したときに流出または飛散する処理液を
回収する容器と、前記容器内に洗浄液を供給しその内壁
面を洗浄する洗浄手段と、前記洗浄手段にて前記容器の
内壁面を洗浄したときに前記容器から排出された排出液
を回収し前記洗浄手段に供給する循環系と、を有する処
理装置であって、 前記循環系は、未使用の洗浄液を貯留
する新洗浄液貯留部と、処理を施した前記被処理体の少
なくとも一部を洗浄したときに前記容器に集められて排
出された第１の排出液を貯留する第１の排出液貯留部
と、前記容器内壁面を洗浄したときに前記容器に集めら
れて排出された第２の排出液を貯留する第２の排出液貯
留部と、前記第１の排出液貯留部に貯留された第１の排
出液と前記第２の排出液貯留部に貯留された第２の排出
液と前記新洗浄液貯留部の未使用の洗浄液との中から、
いずれかを選択またはそれぞれを混合して前記洗浄手段
に供給する洗浄液供給手段と、を有し、 前記洗浄液供給
手段は、前記各貯留部に貯留されている洗浄液または排
出液の液量を検知する検知手段と、前記検知手段により
検知された各液量を基に、前記各貯留部から摂取する洗
浄液または排出液の量を制御する制御手段とを具備した
ことを特徴とする。

【００２５】

【００２６】

【００２７】

【００２８】本発明の場合、洗浄手段にて容器の内壁面
を洗浄したときに容器から排出された排出液は、循環系
により回収されて容器内を洗浄する洗浄手段に供給され
るので、洗浄液を再利用することができる。これにより
洗浄液の使用量を低減すると共に装置全体のランニング
コストの低減を図ることができる。

【００２９】

【００３０】また、請求項１記載の本発明の場合、排出
液貯留部に貯留された排出液と新洗浄液貯留部に貯留さ
れた未使用の洗浄液のうち、いずれかを選択または互い
を混合して洗浄手段に供給するので、カップ洗浄に支障
をきたすことがなくなる。

【００３１】

【００３２】また、請求項２記載の本発明の場合、第１
の排出液貯留部に貯留された第１の排出液と第２の排出
液貯留部に貯留された第２の排出液のうち、いずれかを
選択または互いを混合して洗浄手段に供給するので、一
度使用された洗浄液を効率よく利用することができる。

【００３３】

【００３４】また、請求項３記載の本発明の場合、第１
または第２の排出液貯留部のうち、少なくとも一方に未
使用の洗浄液、つまり新液が補充され、各貯留部に貯留
されている排出液が薄められ、さらにこれらのうち、い
ずれかが選択または互いを混合して洗浄手段に供給され
るので、洗浄性能を劣化させることなく一度利用した洗
浄液を効率よく利用することができる。

【００３５】

【００３６】また、請求項４記載の本発明の場合、第１
の排出液貯留部と第２の排出液貯留部のうち、少なくと
も一方に新洗浄液貯留部の未使用の洗浄液を補充して洗
浄手段に供給することにより、洗浄液の再利用を行う場
合にもカップ洗浄に支障をきたすことがない上、洗浄性
能を劣化せずにカップ洗浄の洗浄効率の向上が図れ、か
つカップ洗浄を行う上での信頼性を向上することができ
る。

【００３７】

【００３８】また、請求項５記載の本発明の場合、第１
の排出液貯留部に貯留された第１の排出液と第２の排出
液貯留部に貯留された第２の排出液と新洗浄液貯留部の
未使用の洗浄液の中から、いずれかを選択またはそれぞ
れを混合して洗浄手段に供給するので、洗浄手段で容器
内を効率よく洗浄することができる。

【００３９】また、本発明の場合、各貯留部に貯留され
ている洗浄液または排出液の液量が検知されると、制御
手段は各液量を基に各貯留部から摂取する洗浄液または
排出液の量を制御するので、各部に洗浄液を供給する上
での最適化を図ることができる。

【００４０】更に請求項６記載の本発明の他の処理装置
は、上記処理装置において、前記洗浄手段は、前記被処
理体近傍の容器内壁部に向けて洗浄液を射出する第１の
射出部と、前記被処理体から離れ排出印こ近い容器内壁
部に向けて洗浄液を射出する第２の射出部とを有し、前
記循環系は、使用済みの洗浄液である排出液を前記第２
の射出部に供給し、未使用の洗浄液を前記第１の射出部
に供給することを特徴としている。

【００４１】この請求項６記載の本発明の場合、使用済
みの洗浄液である排出液を第２の射出部に供給し、未使
用の洗浄液を第１の射出部に供給することにより、用途
毎に洗浄液を効率よく利用することができる。

【００４２】更に請求項７記載の本発明の他の処理装置
は、前記容器の内壁面にフッ化エチレン系樹脂層を形成
したことを特徴とする。

【００４３】この請求項７記載の本発明の場合、容器の
内壁面にフッ化エチレン系樹脂層を形成したことによ
り、被処理体に処理を施したときに流出または飛散した
処理液が容器の内壁面に付着することが少なくなる。

【００４４】更に請求項８記載の本発明の他の処理装置
は、上記処理装置において、前記フッ化エチレン系樹脂
層を、前記処理液を回収し得る前記容器内の回収経路上
に形成したことを特徴としている。この請求項８記載の
本発明の場合、容器内において、フッ化エチレン系樹脂
層を形成する部分を限定することにより、フッ化エチレ
ン系樹脂の使用量を最小限にして処理液の付着が少なく
なるという効果を得ることができる。

【００４５】

【００４６】

【００４７】この請求項９記載の本発明の洗浄方法は、
被処理体を保持する保持手段及び被処理体の側方及び
上、下部を包囲する回転可能な蓋付回転カップと、この
蓋付回転カップの側方及び下方を包囲する固定カップ
と、上記蓋付回転カップ内に取り付けられて上記被処理
体の上方を覆う整流板とを具備する塗布機構を用い、上
記蓋付回転カップを回転させた状態で、上記蓋付回転カ
ップの蓋部中央から上記整流板に向けて洗浄液を供給し
て遠心力により蓋部下面に供給すると共に、上記整流板
の外周下面、蓋付回転カップの内側面及び固定カップの
底面に向けて洗浄液を供給するカップ用洗浄方法であっ
て、 上記蓋付回転カップを第１の回転数で回転して、こ
の蓋付回転カップの蓋部中央から上記整流板に向けて洗
浄液を供給し、上記第１の回転数より速い第２の回転数
で回転して、上記整流板の外周下面及び上記蓋付回転カ
ップの内側面に向けて洗浄液を供給し、かつ上記第１の
回転数より遅い第３の回転数で回転して、上記蓋付回転
カップの底面に洗浄液を供給する、ことを特徴とする。

【００４８】請求項１０に記載したように、この発明の
洗浄方法において、上記蓋付回転カップの外周下面及び
上記固定カップの内側面に洗浄液を供給する方が好まし
い。また、請求項１１に記載したように、例えば上記第
１の回転数を３５０〜６５０ｒｐｍ、上記第２の回転数
を７００〜１３００ｒｐｍ、上記第３の回転数を１４〜
２６ｒｐｍとすることができる。

【００４９】この請求項９〜１１記載の本発明によれ
ば、蓋付回転カップを回転させた状態で、この回転カッ
プの蓋部中央から整流板に向けて洗浄液を供給すると共
に、整流板の外周下面、蓋付回転カップの内側面及び固
定カップの底面に向けて洗浄液を供給することにより、
回転カップの蓋部中央から供給される洗浄液が回転する
整流板の遠心力によって外方に飛散して蓋体の下面に付
着する塗布液を除去し、また、直接整流板の外周下面、
回転カップの内側面及び固定カップの底面に供給される
洗浄液によってこれらに付着する塗布液を除去すること
ができる。

【００５０】また、蓋付回転カップの外周下面及び上記
固定カップの内側面に洗浄液を供給することにより、回
転カップの外周下面及び固定カップの内側面に付着する
塗布液を除去することができる。この場合、固定カップ
の内側面の下部を外方に向けて屈曲形成することで、回
転カップと固定カップ間を流れる空気の滞留部を形成す
ることができ、この滞留部にて外部に飛散する塗布液を
受け止めて上方への逆流を阻止することができ、かつ、
この固定カップの内側面の屈曲部に向けて第３の洗浄ノ
ズルから洗浄液を供給することによって固定カップに付
着する塗布液を除去することができる。

【００５１】また、請求項１１に記載したように、蓋付
回転カップを第１の回転数（例えば３５０〜６５０ｒｐ
ｍ）で回転して、この蓋付回転カップの蓋部中央から整
流板に向けて洗浄液を供給することにより、回転カップ
の回転と共に回転する整流板の遠心力によって洗浄液を
蓋部の外周下面に衝突させて蓋部下面に付着した塗布液
を除去することができ、第１の回転数より速い第２の回
転数（例えば７００〜１３００ｒｐｍ）で回転して、整
流板の外周下面及び蓋付回転カップの内側面に向けて洗
浄液を供給することにより、整流板の外周下面及び回転
カップの内側面の広い面積に効率よく洗浄液を供給する
ことができ、かつ第１の回転数より遅い第３の回転数
（例えば１４〜２６ｒｐｍ）で回転して、蓋付回転カッ
プの底面に洗浄液を供給することにより、洗浄液を回転
カップの底面の内周側から外周側に移動させて底面に付
着する塗布液を除去することができる。

【００５２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照しで詳細に説明する。

【００５３】図１は本発明の処理装置に係る第１の実施
形態のＬＣＤ基板の塗布・現像処理システム（以下ＬＣ
Ｄ基板処理システムと称す）の構成を示す図である。

【００５４】同図に示すように、このＬＣＤ基板処理シ
ステムは、被処理体、例えば矩形状のＬＣＤガラス基板
Ｇ（以下にガラス基板Ｇという）を搬入・搬出するロー
ダ部９０と、ガラス基板Ｇを処理する第１処理部９１
と、この第１処理部９１と中継部９３を介して連設され
た第２処理部９２と、この第２処理部９２と他の装置、
例えば露光装置９５などとの間でガラス基板Ｇを授受す
るための受渡し部９４とから構成されている。

【００５５】ローダ部９０には、カセットステージ９８
が設けられている。このカセットステージ９８の上に
は、複数個のカセット９６，９７が載置されている。カ
セット９７には、複数枚の未処理ガラス基板Ｇが収容さ
れている。またこのローダ部９０には、未処理ガラス基
板Ｇを搬入または搬出するための搬出入ピンセット９９
が設けられている。

【００５６】第１処理部９１は、ブラシ洗浄装置１２
０、ジェット水洗浄装置１３０、アドヒージョン処理装
置１０５、冷却処理装置１０６、２台のレジスト塗布・
塗布膜除去装置１０７，１０８などからなる。この第１
処理部９１の中央通路には、８０ａが走行および停止自
在に設けられている。

【００５７】第２処理部９２は、複数の加熱処理装置１
０９および二つの現像装置１１０を備えている。この第
２処理部９２の中央通路にもメインアーム８０ｂが走行
および停止自在に設けられている。この第２処理部９２
には、ガラス基板Ｇを搬入および搬出するための搬出入
ピンセット１１２が設けられている。中継部９３には、
ガラス基板Ｇを受け渡すための台９３ａが設けられてい
る。受渡し部９４にもガラス基板Ｇ受渡し用の台１１３
が設けられている。露光装置９５は、レジスト膜に所定
の微細パターンを露光するものである。

【００５８】図２に示すように、各レジスト塗布・塗布
膜除去装置１０７，１０８は、ガラス基板Ｇの表面に塗
布液供給ノズル１ａから塗布液、例えばレジスト液など
を供給してレジスト液を塗布する塗布機構１と、ガラス
基板Ｇの周縁部に塗布形成された不要な塗布膜を除去す
る縁部除去機構２とを隣接させ、例えば一体的に同一雰
囲気内に配設し、かつ縁部除去機構２に使用された洗浄
液、例えばレジスト液の溶剤であるシンナを回収し、そ
のシンナを塗布機構１のカップ洗浄用に循環させる循環
系としての洗浄処理装置４と、塗布機構１によってレジ
ストが塗布されたガラス基板Ｇを縁部除去機構２に搬送
する搬送機構３とを備えている。縁部除去機構２側に
は、ＸまたはＹ方向に延在するように設けられたガイド
レール５３と、このガイドレール５３に摺動自在に取り
付けられた複数のスライド部材５４が設けられている。
スライド部材５４は、ワイヤ、チェーン、ベルトボール
ねじやステッピングモータ、エアーシリンダなどを使用
した移動機構（図示せず）により、ＸまたはＹ方向に往
復移動可能に構成されている。各スライド部材５４に
は、縁部除去機構２の一つの構成である除去ノズル５１
が取り付けられている。また各ガイドレール５３の交差
部近傍には、隣接する除去ノズル５１どうしが互いに干
渉、つまり衝突しないように除去ノズル５１の近接位置
を検知するセンサ５５が設けられている。このセンサ５
５によって隣接する一方の除去ノズル５１が他方の除去
ノズル５１側に接近するのを検知し、その検知信号を後
述する制御部に伝達して、制御部からの制御信号によっ
て移動機構の駆動を停止することにより隣接する除去ノ
ズル５１同士の干渉すなわち衝突を防止することができ
る。図２および図３に示すように、塗布機構１は、ガラ
ス基板Ｇを図示しない真空装置によって吸着保持すると
共に水平方向（θ方向）に回転するスピンチヤック１０
と、このスピンチャック１０の上部および外周部を包囲
する処理室２０を有する上方部が開口した有低開口円筒
状の回転カップ１２と、回転カップ１２の開口部１２ａ
を開閉可能に被着（着脱）し得る蓋体１６と、回転カッ
プ１２の外周側を取囲むように配置される中空リング状
のドレンカップ１４とで主要部が構成されている。ドレ
ンカップ１４は、回転カップ１２から放出された廃物を
受け集めるためのものである。これら処理室２０、回転
カップ１２、蓋体１６およびドレンカップ１４などで処
理液および洗浄液などを回収するための容器を構成して
いる。

【００５９】上記スピンチヤック１０は、下方に配置し
た駆動モータ２１の駆動によつて回転される回転軸２２
を介して水平方向に回転（自転）可能になっており、ま
た回転軸２２に連結される昇降シリンダ２３の駆動によ
って上下方向に移動し得るようになっている。この場
合、回転軸２２は、固定カラ−２４の内周面にベアリン
グ２５ａを介して回転可能に装着される回転内筒２６ａ
の内周面に嵌着されるスプライン軸受２７に摺動可能に
連結されている。スプライン軸受２７には従動プーリ２
８ａが装着されており、従動プーリ２８ａには駆動モー
タ２１の駆動軸２１ａに装着された駆動プーリ２１ｂと
の間にベルト２９ａが掛け渡されている。したがって、
駆動モータ２１の駆動によってベルト２９ａを介して回
転軸２２が回転してスピンチャック１０が回転される。
また、回転軸２２の下部側は図示しない筒体内に配設さ
れており、筒体内において回転軸２２は、バキュームシ
ール部３０を介して昇降シリンダ２３に連結され、昇降
シリンダ２３の駆動によって回転軸２２が上下方向に移
動し得るようになっている。

【００６０】上記回転カップ１２は、上記固定カラー２
４の外周面にベアリング２５ｂを介して装着される回転
外筒２６ｂの上端部に固定される連結筒３１を介して取
り付けられており、回転カップ１２の底部１２ｂとスピ
ンチャック１０の下面との間には、シール機能を有する
ベアリング３２が介在されてスピンチャック１０と相対
的に回転可能になっている。そして、回転外筒２６ｂに
装着される従動プーリ２８ｂと上記駆動モータ２４に装
着される駆動プーリ２１ｂに掛け渡されるべルト２９ｂ
によって駆動モータ２１からの駆動が回転カップ１２に
伝達されて回転カップ１２が回転される。この場合、従
動プーリ２８ｂの直径は、上記回転軸２２に装着された
従動プーリ２８ａの直径と同一に形成され、同一の駆動
モータ２１ベルト２９ａ，２９ｂが掛け渡されているの
で、回転カップ１２とスピンチャック１０は、同一回転
する。なお、固定カラー２４と回転内筒２８ａおよび回
転外筒２６ｂとの対向面には、ラビリンスシール部（図
示せず）が形成されて回転処理時に下部の駆動系から回
転カップ１２内にごみが進入するのを防止している。な
お、上記従動プーリ２８ａと２８ｂの直径を異ならせ、
異なる回転数で回転させるようにしてもよい。

【００６１】また、図３および図４に示すように、回転
カップ１２には、側壁の内側面が上側に向って縮径され
たテーパ面が形成されている。これは、蓋体４６の中心
部側に設けられた給気孔３４から供給される空気流が、
蓋体１６の下方側に配置された整流板３３上を通ってテ
ーパ面に沿って、下部周辺部、すなわち側壁の下部側の
周方向の適宜位置に般けられた排気孔３５から排気され
るようにしたものである。

【００６２】このように給気孔３４と排気孔３５を設け
ることにより、回転カップ４２が回転する際に、給気孔
３４から処理室２０内に流れる空気が排気孔３５から外
部に流れるので、回転カップ１２の回転時に処理室２０
内が必要以上に負圧になるのを防止することができる。
また、処理後に回転カップ１２から蓋体１６を開放する
際に大きな力を要することなく、蓋体１６を容易に開放
することができる。

【００６３】一方、図４に示すように、ドレンカップ１
４内部には、環状通路１４ａが設けられており、この環
状通路１４ａの外周壁の適宜箇所（例えば周方向の４箇
所）には、図示しない排気装置に接続する排気口３６が
設けられると共に、ドレンカカップ１４の内周側上方部
に排気口３６と連通する放射状の排気通路３７（図３参
照）が形成されている。

【００６４】このようにドレンカップ１４の外周部に排
気口３６を設けると共に、ドレンカップ１４の内周側上
方部に排気口３６と連通する排気通路３７を形成したこ
とにより、回転処理時に処理室２０内で遠心力により飛
散し排気孔３５を通ってドレンカップ１４内に流れ込ん
だミストが回転カップ１２の上部側へ舞い上がるのを防
止して、排気口３６から外部に排出することができる。

【００６５】上記環状通路１４ａは、ドレンカップ１４
の底部から起立する壁４４ｂとドレンカップ１４の天井
部から垂下する壁１４ｃとで迂回状に区画されて、排気
が均一に行えるようになっており、壁１４ｂと壁１４ｃ
との間に位置する底部１４ｄには、周方向に適宜間隔を
おいてドレン孔１４ｅが設けられている。

【００６６】上記蓋体１６は、回転処理時に回転カップ
１２の開口部１２ａに固定されて−体に回転する必要が
あるので、例えば回転カップ１２の上部に突出する固定
ピン（図示せず）と、この固定ピンに嵌合する嵌合凹所
（図示せず）とを互いに嵌合させて蓋体１６を回転カッ
プ１２に固定することができる。

【００６７】上記蓋体１６を開閉する場合には、図３に
想像線で示したように、蓋体４６の上面に突設された膨
隆頭部１８の下にロボットアーム４０を挿入し、膨隆頭
部１８に設けられた係止溝１８ａにロボットアーム４０
から突出する係止ピン４１を係合させた後、ロボットア
ーム４０を上下動させることによって行うことができ
る。なお、蓋体１６を開放するときの膨隆頭部１８の係
止溝１８ａとロボットアーム４０の係止ピン４１との位
置合せ、および蓋体１６を閉じるときの固定ピンと嵌合
凹所の位置合せは、サーボモータなどにて形成される駆
動モータ２１の回転角を制御することによって行うこと
ができる。

【００６８】一方、図３および図４に示すように、処理
室２０内には、回転カップ１２の内壁面１２ｃに向けて
洗浄液、例えば未使用にシンナなどを噴射（供給）する
第１の射出部としてのシンナ供給ノズル１５ｄが取り付
けられている。また回転カップ１２の下方側に延在する
ドレンカップ１４の底部水平片１４ｆには、回転カップ
１２の外側下面およびドレンカップ１４の内側壁１４ｃ
の内側面に向けてシンナを噴射（供給）する第２の射出
部としてのシンナ供給ノズル１５ｃが取り付けられてい
る。またこのドレンカップ１４の壁１４ｃには、回転カ
ップ１２の外側面に向けて洗浄液、例えばリサイクルさ
れたシンナなどを噴射（供給）する第２の射出部として
のシンナ供給ノズル１５ａが取り付けられている。また
ドレンカップ１４の壁１４ｂには、壁１４ｃの外側面お
よび壁１４ｂの内側面に向けて洗浄液、例えばリサイク
ルされたシンナを噴射（供給）する第２の射出部として
のシンナ供給ノズル１５ｂが取り付けられている。これ
らシンナ供給ノズル１５ａ，１５ｂ，１５ｃは、円周方
向に適宜間隔をおいて複数取り付けられている。

【００６９】回転カップ１２やドレンカップ１４など
は、例えばステンレス（ＳＵＳ３０４）などの板材が用
ぃられている。なおこの板材は、下記に示すコーティン
グ材を被膜形成する上でＳＵＳ３０４を選択したが、コ
ーティング部分の基材として利用する上ではステンレス
以外の例えば樹脂や金属などでもよく、ＳＵＳ３０４の
みに限定されるものではない。

【００７０】図５に示すように、処理室２０内や環状通
路１４ａ内の処理液や洗浄液などが接する面（斜線
部）、つまり例えば回転カップ１２の内壁面１２ａ，４
２ｂ、蓋体１６の内面、整流板３３の表裏面、ドレンカ
ップ１４の環状通路１４ａ内の壁面（壁１４ｂ，４４ｃ
の両面、底部１４ｄの内面およびドレン孔１４ｅの内面
など）には、フッ化エチレン系樹脂のコーティング材、
例えばポリテトラフロロエチレン（ＰＴＦＥ）などが例
えば６０ｐｍ程度の厚さで被膜形成されている。

【００７１】

【表１】

【表２】 表１は、板材とコーティング材との組み合わせ例（実施
例１〜実施例１２）に対してそれぞれ粘着性試験（純水
の接触角）、レジスト付着試験、拭き取り試験（マジッ
ク汚染）、耐薬品性試験、硬度試験などを行い、それぞ
れの試験結果と価格を対応された表であり、この表１か
ら、板材とコーティング材との最良の組み合わせとし
て、実施例６を選択した結果である。

【００７２】この実施例６は、板材としてのＳＵＳ３０
４の表面にコーティング材としてＰＴＦＥを６０μｍの
厚さで被膜形成した例であり、この場合、純水の接触角
が１２５．３゜と最も大きく、しかもレジスト付着が４
−５粒程度と少なく、他の実施例に比べてレジストの粘
着性（密着性）が著しく低いことが確認できた。

【００７３】また、この実施例６以外にも、実施例５の
ように、ＳＵＳ３０４に対してＰＴＦＥとエチレンとの
共重合体樹脂（ＰＴＦＥ＋ＰＦＡ）などを例えば１００
μｍ程度の厚さで被膜形成したものでも、粘着性試験
（純水の接触角）では実施例６にやや劣るもののレジス
ト付着試験、拭き取り試験（マジック汚染）では良い結
果が得られておりこれを使用しても良い。つまり、処理
室２０内や環状通路１４ａなどの壁面にフッ化エチレン
系樹脂をコーティングしたものが、コーティング部分に
残存するレジストの量が少なく、よい結果が得られるこ
とが確認できた。図２に示した縁部除去機構２は、図示
しない真空装置によってガラス基板Ｇを吸着保持する載
置台５０と、この載置台５０によって保持されるガラス
基板Ｇの４辺の縁部の上下面に洗浄液、例えばレジスト
の溶剤、つまりシンナを噴射する４個の除去ノズル５１
とを有している。

【００７４】図６に示すように、載置台５０の上面に
は、ガラス基板Ｇを保持する複数、例えば９個などの倣
い式のパッド５２が取り付けられている。

【００７５】図７に示すように、パッド５２は、載置台
５０に設けられたバキューム孔５０ａおよびこのバキユ
ーム孔５０ａの外周の段付凹部５０ｂ内にパッキング５
２ａを介して押さリングねじ５２ｂによって固定される
ほぼ王冠状のオイルシール５２ｃと、このオイルシール
５２ｃの王冠部５２ｄに移動可能に嵌合される中心部に
吸引孔５２ｆを有するトップパッド５２ｅとから構成さ
れている。このように構成することにより、トップパッ
ド５２ｅ上にガラス基板Ｇが載置された状態で真空装置
が作動して吸引すると、トッブパッド５２ｅがガラス基
板Ｇの傾斜や変形に追従して密着し、ガラス基板Ｇを確
実に吸着保持することができる。

【００７６】図９に示すように、上記除去ノズル５１
は、ガラス基板Ｇの縁部の上面を覆う上部水平片５６ａ
と、上部水平片５６ａより外方に突出する下部水平片５
６ｂとからなる断面略コ字状の噴頭５６とを備えてお
り、この噴頭５６の上部水平片５６ａと下部水平片５６
ｂとに、それぞれ表面のレジスト除去用のシンナ供給路
５６ｃと裏面のレジスト除去用のシンナ供給路５６ｄと
が設けられている。これらシンナ供給路５６ｃ，５６ｄ
には、それぞれ複数の表面洗浄用のノズル孔５１ａと裏
面洗浄用のノズル孔５１ｂとが接続されている。また、
噴頭５６の垂直部５６ｅには、後述する回収管６０に接
続する排液路５６ｆが中心線Ｃに沿って設けられてい
る。この排液路５６ｆの基板縁部側開口５６ｇの開口幅
は、先端に向かって拡開するテーパ状に形成されてい
る。

【００７７】また、ノズル孔５１ａは、除去ノズル５１
の中心線Ｃと直交する直線位置に適宜間隔をおいて複数
配列されている。この場合、ノズル孔５１ａは、中心線
Ｃからずれた位置に配列され、かつ排液路５６ｆの拡開
テーパ状開口５６ｇの内側に配列されている。

【００７８】一方、図１０に示すように、ノズル孔５１
ｂは、ノズル孔５１ａと対向する直線上にノズル孔５１
ａと互いに干渉しないずれた位置に適宜間隔をおいて、
拡開テーパ状開口５６ｇより内側に複数配列されると共
に、先端延在部の中心線Ｃ上に適宜間隔をおいて配列さ
れている。ここで、ノズル孔５１ａとノズル孔５１ｂと
をずらして設けた理由は、ノズル孔５１ａ，５１ｂから
噴射されるシンナがノズル近傍で衝突すると、この衝突
によって飛散したシンナがガラス基板Ｇの表面部のレジ
スト膜に付着してレジスト膜の膜厚を不均一にするなど
の悪影響を及ぼすのを防止するためである。また、ノズ
ル孔５１ａ，５１ｂを拡開テーパ状開口５６ｇより内側
に配列することにより、ノズル５１ａ，５１ｂから噴射
（供給）されたシンナが外部に飛散することなく、効率
良く排液路５６ｆから回収管６０に回収することができ
る。

【００７９】図１１に示すように、上記洗浄処理装置４
は、除去ノズル５１からレジスト膜が形成されたガラス
基板Ｇの縁部両面に向けて噴出されたシンナを、除去ノ
ズル５１の排液路５６ｆを通じで回収する回収管６０
と、回収管６０から切換弁７５を介して接続された吸引
機構６１と、この吸引機構６１によって回収されたシン
ナと空気の混合液を気液分離する気液分離手段としての
ミストトラップ６２と、このミストトラップ６２から分
離された使用済み（リサイクル用）のシンナＡ１を貯留
する第１の排出液貯留部としてのエッジリムーバタンク
７０（以下ＥＲタンク７０と称す）と、このＥＲタンク
７０に補充供給管６３ａを介して接続されたバルブ６４
ａと、このバルブ６４ａに接続され、未使用のシンナＡ
Ｏ（新液）を貯留した新液タンク７１と、ＥＲタンク７
０からバルブ６４ｂを介してシンナ供給ノズル１５ａ〜
１５ｃへ使用済み（リサイクル用）のシンナＡ１を供給
するシンナ再供給管６５と、新液タンク７１から除去ノ
ズル５１へ未使用のシンナＡＯを供給する新液供給管６
６と、ドレン孔１４ｅから排出された使用済み（リサイ
クル用）にシンナＡ２（排出液）を貯留する第２の排出
液貯留部としてのＤＲタンク７２と、このＤＲタンク７
２とバルブ６４ａとを接続し、新液タンク７１から未使
用のシンナＡＯ（新液）を補充する補充供給管６３ｂ
と、ＤＲタンク７２とシンナ再供給管６５との間に介挿
されたバルブ６４ｃと、上記各タンク７０，７１，７２
に設けられ、それぞれに貯留されているシンナの液面を
検出する液面センサ７４と、これら液面センサ７４によ
り検知された液面の情報を基に各バルブ６４ａ〜６４ｃ
や切換弁７５などをそれぞれ制御して各タンク７０，７
１，７２からのシンナ摂取量を調節すると共に、除去ノ
ズル５１の位置を検出したセンサ５５などの検知情報を
基に図示しない移動機構を制御する制御部６８とを備え
ている。

【００８０】ＥＲタンク７０およびＤＲタンク７２とカ
ップ洗浄用のシンナ供給ノズル１５ａ〜１５ｃとは、シ
ンナ再供給管６５によって接続されており、図示しない
不活性ガス供給源から各タンク７０，７２内に供給され
る不活性ガス、例えば窒素ガス（以下Ｎ₂ ガスと称す）
によってタンク７０，７２内のシンナＡ１，Ａ２がバル
ブ６４ｂ，６４ｃの開度によってシンナ供給ノズル１５
ａ〜１５ｃから処理室２０の内部、回転カップ１２の内
外壁およびドレンカップ１４の各壁面に噴射（供給）さ
れる。なお、Ｎ₂ ガスによらずポンプを用いて各タンク
７０，７２のシンナＡ１，Ａ２をシンナ供給ノズル１５
ａ〜１５ｃに供給するようにしてもよい。

【００８１】液面センサ７４は、ＥＲタンク７０，ＤＲ
タンク７２内のシンナ量が所定量以上および以下になっ
た時点でその液面情報を検知して液面検知信号として制
御部６８へ送出し、制御部６８は液面検知信号に基づい
て各パルブ６４ａ〜８４ｃの開度をそれぞれ制御する。
なお、制御部６８は、切換弁７５を制御して、縁部除去
機構２の除去ノズル５１から回収し始めの使用済みシン
ナ（レジスト濃度が比較的高いシンナ）を排液管７６か
ら排出した後、切換弁７５を切り換えて吸引機構６１側
へシンナを送り、再利用に適するもののみを回収するこ
とも行う。ここで、このＬＣＤ基板処理システムの概略
動作について説明する。

【００８２】このＬＣＤ基板処理システムの場合、カセ
ット９６内に収容された未処理のガラス基板Ｇは、ロー
ダ部９０の搬出入ピンセット９９によって取出された
後、第１処理部９１の搬送路１０２を移動するメインア
ーム８０ａに受け渡され、そして、ブラシ洗浄装置１２
０内に搬送される。このブラシ洗浄装置１２０内にてブ
ラシ洗浄されたガラス基板Ｇは、引続いてジェット水洗
浄装置１３０内にて高圧ジェット水により洗浄される。
この後、ガラス基板Ｇは、アドヒージョン処理装置１０
５にて疎水化処理が施され、冷却処理装置１０６にて冷
却された後、各レジスト塗布・塗布膜除去装置１０７，
１０８の塗布機構１にてレジスト膜が塗布形成される。
引続きガラス基板Ｇは、隣接した縁部除去機構２側に移
送されて、縁部除去機構２によってガラス基板Ｇの辺部
の不要なレジスト膜が除去される。したがって、この
後、ガラス基板Ｇを搬出する際には、縁部のレジスト膜
は除去されているので、メインアーム８０ａ，８０ｂな
どにレジストが付着することもない。縁部除去機構２に
よって不要レジストの除去に使用され、レジストを含む
汚れた排出液は、上述したように回収管６０を介してミ
ストトラップ６２に回収され、ミストトラップ６２にて
気液分離されて、液体成分のみ、つまりシンナがＥＲタ
ンク７０内に貯留される。その後、ＥＲタンク７０やＤ
Ｒタンクなどに貯留されたシンナは、洗浄処理装置４に
よりレジスト塗布・塗布膜除去装置１０７，１０８のカ
ップ洗浄に再利用される。

【００８３】レジスト塗布・塗布膜除去装置１０７，１
０８にて不要レジストが除去されたガラス基板Ｇは、加
熱処理装置１０９に移送され、加熱処理装置１０９にて
加熱されてベーキング処理が施された後、露光装置９５
にてガラス基板Ｇ表面に所定のパターンが露光される。
そして、露光後のガラス基板Ｇは、第２処理部９２の搬
送路１０２ａを移動するメインアーム８０ｂによつて受
けとられて現像装置１１０内へ搬送され、現像液により
現像された後にリンス液により現像液を洗い流し、現像
処理を完了する。現像処理された処理済みのガラス基板
Ｇは、ローダ部９０のカセット９７内に収容された後
に、搬出されて次の処理工程に向けて移送される。

【００８４】次に、上記洗浄処理装置４の動作（洗浄お
よび循環作用）について説明する。まず、上記塗布機構
１で塗布処理されたガラス基板Ｇを搬送機構３によって
縁部除去機構２の載置台５０上に搬送して載置し、真空
により吸着保持する。

【００８５】次に、除去ノズル５１の移動機構を駆動し
てガラス基板Ｇの各辺に沿う除去ノズル５１をＸまたは
Ｙ方向に移動すると共に、新液タンク７１から供給され
るシンナＡＯをノズル孔５１ａ，５１ｂから噴射（供
給）して、ガラス基板Ｇの縁部両面に付着した不要なレ
ジストを溶解して除去する。洗浄に供されたシンナは、
吸引機構６１の吸引による空気流によって排液路５６ｆ
を通じて回収路６０に流れ、切換弁７５、吸引機構６１
を通じてミストトラップ６２に回収される。なおこの場
合、洗浄し始に使用されたシンナは、切換弁７５の切り
換えによって排液管７６から排出される。

【００８６】ミストトラップ６２に回収されたシンナ
（排出物）には、汚れたシンナと共に空気（ガス）が混
入しているため、ミストトラップ６２の排気作用によっ
て空気（ガス）のみが外方に除去（排気）され、液体成
分のみが自重によってＥＲタンク７０内に貯留される。

【００８７】そして、ＥＲタンク７０のシンナ貯留量が
多くなりシンナの液面がある程度上昇し、ＥＲタンク７
０の上部に設けられた液面センサ７４によって液面が検
知されると、それが制御部６８に通知される。

【００８８】すると、制御部６８では、パルブ６４ｂに
制御信号を送りバルブ６４ｂが開放されると共に、図示
しないＮ２ガス供給源からＥＲタンク７０内にＮ２ガス
が供給され、このＮ２ガスのガス圧によってＥＲタンク
７０内のシンナＡ１がシンナ再供給管６５を通じてシン
ナ供給ノズル１５ａ〜１５ｃに供給され、シンナ供給ン
ズル１５ａ〜１５ｃからそれぞれ回転カップ１２の外側
面、ドレンカップ１４の内側面に噴射（供給）され、カ
ップ洗浄が行われる。

【００８９】これにより、レジストの塗布処理時に飛散
して処理室２０、回転カップ１２およびドレンカップ１
４の壁面に若干付着したレジストを溶解して除去するこ
とができる。なお、処理室２０、回転カップ１２および
ドレンカップ１４の壁面には、予めＰＴＦＥが被膜され
ているので、従来よりもレジストが付着していないの
で、洗浄する間隔（期間）を長くすることができる。

【００９０】そして、カップ洗浄したときシンナは、ド
レンカップ１４のドレン孔１４ｅから排出されてＤＲタ
ンク７２に貯留される。

【００９１】なお、ＥＲタンク７０やＤＲタンク７２内
のシンナＡ１，Ａ２の量が少なくなると、それぞれの液
面センサ７４により検出され、制御部６８によりバルブ
６４ａが制御されると共に、図示しないＮ２ガス供給源
がら供給されるＮ２ガスのガス圧によって新液タンク７
１内の未使用のシンナＡＯが補充供給管６３ａ，６３ｂ
を通じてＥＲタンク７０やＤＲタンク７２内に補充され
る。

【００９２】これにより、カップ洗浄に支障をきたすこ
とがない上、カップ洗浄の洗浄効率の向上が図れ、かつ
洗浄処理装置の信頼性の向上を図ることができる。

【００９３】上記のようにこの第１の実施形態のＬＣＤ
基板処理システムによれば、縁部除去機構２によってガ
ラス基板Ｇの縁部に付着した不要レジストの除去に使用
したシンナＡ１をＥＲタンク７０に貯留し、カップ洗浄
に使用したシンナＡ２をＤＲタンク７２に貯留し、これ
らタンク７０，７２に貯留したシンナＡ１，Ａ２をカッ
プ洗浄に再利用することにより、従来廃棄していたシン
ナを有効に利用することができる。これにより、シンナ
の無駄を省きランニングコストの低廉化を図ることがで
きる。

【００９４】また、レジスト塗布機構１と縁部除去機構
２の同一処理系において、縁部除去機構２で使用された
シンナを塗布機構１のカップ洗浄に再利用するので、配
管を共通にして配管系を少なくすることができ、装置の
小型化を図ることができる。さらに、ＥＲタンク７０，
ＤＲタンク７２に貯留されているシンナの液面が低くな
ると、これが液面センサ７４により検知され、制御手段
６８は液面センタ７４からの通知を基に、新液タンク７
１から各タンク７０，７２へ新液を補充するようバルブ
６４ａを制御するので、カップ洗浄に支障をきたすこと
がなくなる。また使用済みシンナを再利用する上での最
適化を図ることができる。

【００９５】次に、この発明の他の実施形態について説
明する。

【００９６】図４に示した第１の実施形態は、ドレンカ
ップ１４の環状通路１４ａと回転カップ１２の外周面か
ら外側に設けた容器の例であったが、これ以外にもさま
ざまな容器の形状が考えられる。

【００９７】例えばドレンカップ１４の環状通路１４ａ
のうち、排気通路を回転カップ１２の真下に設ける場合
もある。

【００９８】この場合、図１２に示すように、環状通路
１４ａは、ドレンカップ１４の天井部から垂下する壁１
４ｃをドレン孔１４ｅに繋げ、壁１４ｃと回転カップ１
２の外周面との間に上部クリアランス１４ｆを形成し、
ドレンカップ１４の丘部１４ｇと回転カップ１２の底部
１２ｂとの間にインナーリング１７を設けることで回転
カップ１２の底部１２ｂとインナーリング１７間にクリ
アランス１４ｈを形成し、インナーリングとドレンカッ
プ１４の丘部１４ｇとの間に排気案内通路１４ｉを形成
し、この排気案内通路１４ｉの入口（上流側開口）にフ
ィルタ１９を設け、シンナから分離された空気（ガス）
をこのフィルタ１９を通じて排気通路１４ｊへ排気する
ようにしたものである。この場合、インナーリング１７
と丘部１４ｅと壁１４ｃとにそれぞれシンナ供給ノズル
１５ａ，１５ｂ，１５ｃ，１５ｄが設けられており、洗
浄対象の各壁面へ向けてシンナが噴射（供給）される。
フィルタ１９は、例えばステンレス鋼のような耐蝕性ワ
イヤを網目状に配したものであり、排出物から気体と液
体とを分離し、ミストを排気通路１４ｊへ排出し、シン
ナをドレン孔１４ｅへ排出する。このように構成された
容器にも、排出液が接する壁面には、ＰＴＦＥが６０μ
ｍ程度の厚さで被膜形成されている。

【００９９】また図１３に示すように、ドレンカップ１
４の外壁上部に排気口３６ａを設け、この排気口３６ａ
の下の側壁部から突設した壁１４ｋとドレンカップ１４
の天井部から垂下する壁１４ｃとで迂回状に区画して環
状通路１４ａと形成する一方、上広がりのテーパー形状
のドレン孔１４ｌを設け、排出液の排出効率を向上する
よう構成したものもある。この場合、ドレンカップ１４
内には、複数のシンナ供給ノズル１５ａ，１５ｂ，１５
ｃ，１５ｅが設けられており、洗浄対象の各壁面ヘ向け
てシンナが噴射（供給）される。このように構成された
容器にも、排出液が接する壁面には、ＰＴＦＥが６０μ
ｍ程度の厚さで被膜形成されている。

【０１００】さらに、図１４に示すように、ドレンカッ
プ１４の外壁上部に排気口３６ａを設け、ドレンカップ
１４の底部１４ｄから起立する壁１４ｂとドレンカップ
１４の天井部から垂下する壁１４ｃとで環状経路１４ａ
を迂回状に区画して二つの排出経路を形成する一方、壁
１４ｂにより区画された二つ底部にそれぞれ上広がりの
テーパー形状のドレン孔１４ｍ，１４ｎを設け、各ドレ
ン孔１４ｍ，１４ｎから汚れ具合いの異なる排出液を排
出することにより各排出液を異なる用途に利用するよう
構成したものもある。この場合、ドレンカップ１４内に
は、複数のシンナ供給ノズル１５ａ，１５ｂ，１５ｃ，
１５８が設けられており、洗浄対象の各壁面へ向けてシ
ンナが噴射（供給）される。このように構成された容器
にも、排出液が接する壁面には、ＰＴＦＥが６０μｍ程
度の厚さで被膜形成されている。なお上記実施形態で
は、ガラス基板Ｇの縁部の不要レジストの除去に使用さ
れたシンナをレジスト塗布・塗布除去装置１０７，１０
８の処理室２０内、回転カップ１２およびドレンカップ
１４の洗浄に再利用する場合について説明したが、別の
形態のカップの洗浄にも再利用することができることは
言うまでもない。また、洗浄液の再利用の対象は、必し
もレジスト塗布・塗布除去装置１０７，１０８のカップ
である必要はなく、その他の装置、例えば現像装置など
のカップの洗浄あるいがカップ以外のもの、例えばメイ
ンアームや載置台などでもよい。

【０１０１】また、上記第１の実施形態では、この発明
をＬＣＤ基板の塗布・現像処理システムに適用した場合
について説明したが、ＬＣＤ基板以外のもの、例えば半
導体ウエハなどを処理するシステムにも適用することが
できる。

【０１０２】図１５を参照して、本発明に係る第２の洗
浄処理装置について説明する。図１５は、ＬＣＤ基板の
塗布・現像処理システムの構成を示す図である。

【０１０３】図１５が、図１１の実施例の洗浄処理装置
と異なる点は、新液タンク７１からバルブ６４ａとバル
ブ６４ｃを介して、シンナ再供給管６５に接続されてい
る点である。ＥＲタンク７０内に使用済みのシンナＡ１
が存在しないとき、或いは液量が十分でないときには、
新液タンク内の未使用のシンナを直接回転カップ１２及
びドレインカップ１４の洗浄に使用する。

【０１０４】図１６を参照して、本発明に係る第３の洗
浄処理装置について説明する。

【０１０５】この洗浄処理装置が図１１の実施例の洗浄
処理装置と異なる点は、２個のＥＲタンク７０ａ、７０
ｂが設けられている点と、除去ノズル５１或いは回転カ
ップ１２に未使用シンナＡ１３を供給するＥＲタンク７
０ｃが設けられている点である。

【０１０６】最初にミストトラップ６２から３方向バル
ブ６４ｄを介してＥＲタンク７０ａに使用済みシンナＡ
１１を回収する。このＥＲタンク７０ａが一杯になる
と、バルブ６４ｄを切り替えて、次にＥＲタンク７０ｂ
に使用済みシンナＡ１２を回収する。ＥＲタンク７０ｂ
に使用済みシンナＡ１２を回収している間に、ＥＲタン
ク７０ａのシンナＡ１１を用いて、回転カップ１２及び
ドレインカップ１４を洗浄する。次にＥＲタンク７０ｂ
が一杯になると、バルブ６４ｄを切り替えて、使用済み
シンナをＥＲタンク７０ａに回収し、洗浄用としてＥＲ
カップ７０ｂのシンナＡ１２を使用する。このように２
個のＥＲカップ７０ａ、７０ｂを交互に使用して、使用
済みシンナを連続的に洗浄用として用いることができ
る。

【０１０７】更にＥＲカップ７０ｃには、ＥＲカップ７
０ａ、７０ｂから供給された使用済みシンナＡ１３が蓄
積されている。この使用済みシンナＡ１３は、供給管６
３ｃ、バルブ６４ｅを介して、除去ノズル５１に供給さ
れ、ガラス基板Ｇの縁部両面に噴出される。または、こ
の使用済みシンナＡ１３は、供給管６３ｃ、バルブ６４
ｆを介して、回転カップ１２の内部を洗浄するのに使用
される。なお、このようにガラス基板Ｇの周辺部に塗布
された不要な塗布膜を除去するため、或いは回転カップ
１２の内部を洗浄するためには、ＥＲタンク７０ｃ内の
シンナＡ１３に含まれるレジストの濃度を一定値以下に
希釈する必要がある。そのため、ＥＲタンク７０ｃには
濃度センサ７７が設けられていて、シンナの濃度が一定
値以上の場合には新液タンク７１からの未使用シンナＡ
ＯでシンナＡ１３を希釈する。

【０１０８】この発明の他の実施の形態を図面に基づい
て詳細に説明する。ここでは、この発明に係る洗浄装置
を、ＬＣＤ基板のレジスト塗布装置に適用した場合につ
いて説明する。

【０１０９】上記レジスト塗布装置は、図１７に示すよ
うに、角形状の被処理体例えば矩形状のＬＣＤ基板Ｇ
（以下に基板という）の表面に塗布液供給ノズル３０１
ａから塗布液例えばレジスト液を供給してレジスト液を
塗布する塗布機構３０１と、基板Ｇの周縁部に塗布形成
された不要な塗布膜を除去する縁部除去機構３０２と、
塗布機構３０１によって塗布された基板Ｇを縁部除去機
構３０２に搬送する搬送機構３０３とを具備してなる。

【０１１０】上記塗布機構３０１は、図１７に示すよう
に、基板Ｇを図示しない真空装置によって吸着保持する
と共に水平方向（θ方向）に回転する保持手段であるス
ピンチャック３１０と、このスピンチャック３１０の上
部及び外周部を包囲する処理室３２０を有する上方部が
開口した有低開口円筒状の回転カップ３１２と、回転カ
ップ３１２の開口部３１２ａを開閉可能に被着（着脱）
し得る蓋体３１６と、この蓋体３１６の下方に取り付け
られてスピンチャック３１０によって保持される基板Ｇ
の上方を覆う整流板３１７と、回転カップ３１２の外周
側を取囲むように配置される中空リング状の固定カップ
３１４とで主要部が構成されている。また、この塗布機
構３０１には、回転カップ３１２の内側面と底面、蓋体
３１６の裏面、整流板３１７の外周下面及び固定カップ
の内側面を洗浄する洗浄装置３０４が設けられている。

【０１１１】上記スピンチャック３１０は下方に配置し
た駆動モータ３２１の駆動によって回転される回転軸３
２２を介して水平方向に回転（自転）可能になってお
り、また回転軸３２２に連結される昇降シリンダ３２３
の駆動によつて上下方向に移動し得るようになってい
る。この場合、回転軸３２２は、固定カラー３２４の内
周面にべアリング３２５ａを介して回転可能に装着され
る回転内筒３２６ａの内周面に嵌着されるスプライン軸
受３２７に摺動可能に連結されている。スプライン軸受
３２７には従動プーリ３２８ａが装着されており、従動
プーリ３２８ａには駆動モータ３２１の駆動軸３２１ａ
に装着された駆動プーリ３２１ｂとの間にベルト３２９
ａが掛け渡されている。したがって、駆動モータ３２１
の駆動によってベルト３２９ａを介して回転軸３２２が
回転してスピンチャック３１０が回転される。また、回
転軸３２２の下部側は図示しない筒体内に配設されてお
り、筒体内において回転軸３２２はバキュームシール部
３３０を介して昇降シリンダ３２３に連結され、昇降シ
リンダ３２３の駆動によって回転軸３２２が上下方向に
移動し得るようになっている。

【０１１２】上記回転カップ３１２は、上記固定カラー
３２４の外周面にベアリング３２５ｂを介して装着され
る回転外筒３２６ｂの上端部に固定される連結筒３３１
を介して取り付けられており、回転カップ３１２の底部
３１２ｂとスピンチャック３１０の下面との間には、シ
ール機能を有するベアリング３３２が介在されてスピン
チヤック３１０と相対的に回転可能になっている。そし
て、回転外筒３２６ｂに装着される従動プーリ３２８ｂ
と上記駆動モータ３２１に装着される駆動プーリ３２１
ｂに掛け渡されるベルト３２９ｂによって駆動モータ３
２１からの駆動が回転カップ３１２に伝達されて回転カ
ップ３１２が回転される。この場合、従動プーリ３２８
ｂの直径は上記回転軸３２２に装着された従動プーリ３
２８ａの直径と同一に形成され、同一の駆動モータ３２
１にベルト３２９ａ，３２９ｂが掛け渡されているの
で、回転カップ３４２とスピンチャック３１０は同一回
転する。なお、固定カラ−３２４と回転内筒３２６ａ及
び回転外筒３２６ｂとの対向面にはラビリンスシール部
（図示せず）が形成されて回転処理時に下部の駆動系か
ら回転カップ３１２内にごみが進入するのを防止してい
る。なお、上記従動プーリ３２８ａと３２８ｂの直径を
異ならせ、異なる回転数で回転させるようにしてもよ
い。

【０１１３】また、回転カップ３１２は、側壁の内側面
が上側に向って縮径されたテーパ面を形成してなり、こ
の回転カップ３１２の開口部３１２ａにパッキング３１
８を介して閉塞される蓋体３１６の中心部側に設けられ
た給気孔３３４から供給される空気流が、蓋体３１６の
下方側に配置された整流板３１７上を通ってテーパ面に
沿って、下部周辺部すなわち側壁の下部側の周方向の適
宜位置に設けられた排気孔３３５から排気されるように
構成されている。このように給気孔３３４と排気孔３３
５を設けることにより、回転カップ３１２が回転する際
に、給気孔３３４から処理室３２０内に流れる空気が排
気孔３３５から外部に流れるので、回転カップ３１２の
回転時に処理室３２０内が必要以上に負圧になるのを防
止することができ、また、処理後に回転カップ３１２か
ら蓋体３１６を開放する際に大きな力を要することな
く、蓋体３１６を容易に開放することができる。

【０１１４】一方、上記固定カップ３１４内部には環状
通路３１４ａが設けられており、この環状通路３１４ａ
の外周壁の適宜箇所（例えば周方向の４箇所）には図示
しない排気装置に接続する排気口３３６が設けられると
共に、固定カップ３１４の内周側上方部に排気口３３６
と連通する放射状の排気通路３３７が形成されている
（図１８及び図１９参照）。このように固定カップ３１
４の外周部に排気口３３６を設けると共に、固定カップ
３１４の内周側上方部に排気口３３６と連通する排気通
路３３７を形成することにより、回転処理時に処理室３
２０内で遠心力により飛散し排気孔３３５を通って固定
カップ３１４内に流れ込んだミストが回転カップ３１２
の上部側へ舞い上がるのを防止して、排気口３３６から
外部に排出することができる。

【０１１５】上記環状通路３１４ａは、固定カップ３１
４の底部から起立する外側壁３１４ｂと固定カップ３１
４の天井部から垂下する内側壁３１４ｃとで迂回状に区
画されて、排気が均一に行えるようになっており、外側
壁３１４ｂと内側壁３１４ｃとの間に位置する底部３１
４ｄには周方向に適宜間隔をおいてドレン孔３１４ｅが
設けられている。また、内側壁３１４ｃの下部側すなわ
ち回転カップ３１２の下部側と対向する部分には、外方
側に向かってクランク状に屈曲する屈曲部３１４ｇが下
方に開放した状態で設けられている。このように屈曲部
３１４ｇを設けることにより、レジスト塗布処理時に上
方から下方に流れる空気の滞留部を作ることができ、外
部に飛散されたレジストの上方への逆流を阻止すること
ができる。

【０１１６】上記蓋体３１６は回転処理時には回転カッ
プ３１２の開口部３１２ａに固定されて一体に回転され
る必要があるので、例えば回転カップ３１２の上部に突
出する固定ピン（図示せず）と、この固定ピンに嵌合す
る嵌合凹所（図示せず）とを互いに嵌合させて蓋体３１
６を回転カップ３１２に固定するように構成されてい
る。この蓋体を開閉は図示しないロボットアームによっ
て行われる。

【０１１７】一方、上記洗浄装置３０４は、図１８及び
図１９に示すように、上記蓋体３１６の中央部に設けら
れた給気孔３３４を供給孔としてこの供給孔３３４内に
隙間をおいて挿入し、上記整流板３１７の上面に洗浄液
例えばシンナＢを噴射（供給）する第１の洗浄ノズル３
０５と、上記スピンチャック３１０の回転軸３２２に装
着されるブラケット３１９に取り付けられて、それぞれ
整流板３１７の外周下面、回転カップ３１２の内側面又
は回転カップ３１２の底面に向かって洗浄液例えばシン
ナＢを噴射（供給）する第２の洗浄ノズル３０６と、上
記固定カップ３１４の底部３１４ｄから内方側に延在す
る水平片３１４ｆに取り付けられて、上記回転カップ３
１２の外周下面又は固定カップ３１４の内側面すなわち
内側壁３１４ｃに向かって洗浄液例えばシンナＢを噴射
（供給）する第３の洗浄ノズル３０７を具備している。
これら第１〜第３の洗浄ノズル３０５，３０６，３０７
は、シンナタンク３７０、３７１に接続されており、Ｎ
２ガスのガス圧によってそれぞれ独立してシンナＢが噴
射（供給）されるように構成されている。シンナタンク
３７０は、前記第１〜３洗浄処理装置で説明したＥＲタ
ンクであり、回収された使用済みシンナＡ１が入ってい
る。シンナタンク３７１は新液の入ったタンクである。
ＥＲタンク３７０内の濃度を検出するために濃度センサ
３７７が設けられている。この濃度センサ３７７により
ＥＲタンク３７０内のレジストの濃度を測定し、そのノ
ードが一定値を超えた場合には、新液タンク３７１から
新液をＥＲタンクに供給して、液を希釈化する。

【０１１８】このように構成することにより、第１の洗
浄ノズル３０５から整流板３１７の上に噴射されるシン
ナＢは、回転する整流板３１７による遠心力によって放
射方向に飛散されて図２０に示すように蓋体３１６の下
面に衝突し、蓋体３１６の下面に付着するレジストＡを
溶解除去することができる。

【０１１９】また、上記第２の洗浄ノズル３０６は、図
２１に示すように、整流板３１７の外周下面に向かって
シンナＢを噴射するノズル孔３０６ａを有するノズル体
３０６Ａと、回転カップ３１２の内側面に向かってシン
ナＢを噴射するノズル孔３０６ｂを有するノズル体３０
６Ｂと、回転カップ３１２の底面の内周側部位に向かっ
てシンナＢを噴射するノズル孔３０６ｃを有するノズル
体３０６Ｃの３種類にて構成されており、円周方向に適
宜間隔例えば１２０度の間隔をおいて配置されている。
これらノズル体３０６Ａ，３０６Ｂ，３０６Ｃの各ノズ
ル孔３０６ａ，３０６ｂ，３０６ｃから回転する整流板
３１７の外周下面方向（図２０及び図２１の（２）方
向）、回転カップ３１２の内側面方向（図２０及び図２
１の（３）方向）及び回転カップ３１２の底面方向（図
２０及び図２１の（４）方向）にシンナ８を噴射するこ
とにより、それぞれの対応する部位に付着するレジスト
を溶解除去することができる。なお、第２の洗浄ノズル
３０６は少なくとも３種類のノズル体３０６Ａ，３０６
Ｂ，３０６Ｃにて構成されていればよく、３種類のノズ
ル体３０６Ａ，３０６Ｂ，３０６Ｃを複数組み配置する
ようにしてもよい。

【０１２０】また、第３の洗浄ノズル３０７は、図２１
に示すように、回転カップ３１２の外周下面に向かって
シンナＢを噴射するノズル孔３０７ａを有するノズル体
３０７Ａと、固定カップ３１４の内側壁３１４ｃ（具体
的には屈曲部３４４ｇ）に向かってシンナＢを噴射する
ノズル孔３０７ｂを有するノズル体３０７Ｂの２種類に
て構成されており、円周方向に適宜間隔例えば１８０度
の間隔をおいて配置されている。これらノズル体３０７
Ａ，３０７Ｂの各ノズル孔３０７ａ，３０７ｂから回転
カップ３１２の外周下面方向（図２０及び図２４の
（５）方向）及び固定カップ３１４の内側壁３１４ｆ
（具体的には屈曲部３１４ｇ）方向（図２０及び図２５
の（６）方向）にシンナＢを噴射することにより、それ
ぞれの対応する部位に付着するレジストを溶解除去する
ことができる。なお、第３の洗浄ノズル３０７は少なく
とも２種類のノズル体３０７Ａ，３０８Ｂにて構成され
ていればよく、２種類のノズル体３０７Ａ，３０７Ｂを
複数組み配置するようにしてもよい。

【０１２１】なお、上記縁部除去機構３０２は、図１７
に示すように、図示しない真空装置によって基板Ｇを吸
着保持する載置台３５０と、この載置台３５０によって
保持される基板Ｇの４辺の縁部の上下面に洗浄液例えば
レジストの溶剤（シンナ）を噴射する第１の洗浄液供給
手段である４個の除去ノズル３５１とで主要部が構成さ
れている。

【０１２２】上記除去ノズル３５１は、図１７のＸ又は
Ｙ方向に延在するように設けられたガイドレール３５３
に摺動自在に取り付けられたスライド部材３５４に取着
されている。このスライド部材３５４は、ワイヤ、チェ
ーン、ベルト、ボールねじやステッピングモータ、エア
ーシリンダ等を使用した移動機構（図示せず）により、
Ｘ又はＹ方向に往復移動可能に構成されている。また、
隣接する除去ノズル３５１が互いに干渉つまり衝突しな
いように、除去ノズル３５１の近接位置を検知するセン
サ３５５が設けられている。このセンサ３５５によって
隣接する一方の除去ノズル３５１が他方の除去ノズル３
５１側に接近するのを検知し、その検知信号を図示しな
い制御部に伝達して、制御部からの制御信号によって移
動機構の駆動を停止することにより、隣接する除去ノズ
ル３５１同士の干渉すなわち衝突を防止することができ
る。

【０１２３】次に、上記洗浄装置３０４による洗浄作用
について説明する。まず、上記塗布機構３０１によって
基板Ｇのレジスト塗布を行った後、蓋体３１６を開放
し、スピンチャック３１０を上昇して、図示しない搬送
アームによって基板Ｇを取り出す。その後、蓋体３１６
を閉塞して、スピンチャック３１０と共に回転カップ３
１２及び蓋体３１６を回転（例えば３５０〜６３０ｒｐ
ｍの回転数で回転）すると共に、供給孔３３４（給気
孔）に隙間をもって挿入される第１の洗浄ノズル３０５
から回転する整流板３１７の中心上面にシンナＢを噴射
する。すると、整流板３１７の上に噴射されたシンナＢ
は遠心力によって放射方向に飛散されて、蓋体３１６の
外周下面に衝突し、蓋体３１６の外周下面に付着するレ
ジストＡを溶解して除去する（図１９及び図２０の
（１）参照）。

【０１２４】次に、スピンチヤック３１０と回転カップ
３１２の回転を高速回転（例えば７００〜１３００ｒｐ
ｍの回転数で回転）すると共に、第２の洗浄ノズル３０
６のノズル体３０６Ａ，３０８Ｂから整流板３１７の外
周下面及び回転カップの内側面に向かってシンナＢを噴
射する。すると、シンナＢは回転する整流板３１７の外
周下面及び回転カップ３１２の内側面に衝突してこれら
に付着するレジストＡを溶解して除去する（図１９及び
図２０の（２），（３）参照）。また、この整流板３１
７の外周下面及び回転カップ３１２の内側面の洗浄と同
時に、第３の洗浄ノズル３０７のノズル体３０７Ａ，３
０７Ｂから回転カップ３１２の外周下面及び固定カップ
の内側面すなわち内側壁３１４ｆ（具体的には屈曲部３
１４ｇ）に向かってシンナＢを噴射することにより、回
転カップ３１２の外周下面及び固定カップの内側壁３１
４ｆ（具体的には屈曲部３１４ｇ）に付着するレジスト
Ａを溶解して除去する（図１９及び図２０の（５），
（６）参照）。

【０１２５】次に、スピンチャック３１０と回転カップ
３１２の回転を低速回転（例えば１４〜２６ｒｐｍの回
転数で回転）すると共に、第２の洗浄ノズル３０６のノ
ズル体３０６Ｃから回転する回転カップ３１２の底面に
シンナＢを噴射する。すると、回転カップ３１２の底面
に噴射されたシンナＢは遠心力によって回転カップ３１
２の底面上の外周側に移動して底面に付着するレジスト
Ａを溶解して除去し（図１９及び図２０の（４）参
照）、排気孔３３５を通って排出される際、排気孔３３
５に付着するレジストＡを溶解して除去する。

【０１２６】なお、上記実施形態では、蓋体３１６の外
周下面の洗浄（図２０の（１））→整流板３１７の外周
下面、回転カップ３１２の内側面、回転カップ３１２の
外周下面及び固定カップ３１４の内側壁３１４ｆ（具体
的には屈曲部３１４ｇ）の洗浄（図１９の（２），
（３），（５），（６）参照）→回転カップ３１２の底
面、排気孔３３５の洗浄（図２０の（４）参照）の順で
洗浄を行う場合について説明したが、必しもこのような
順序で行う必要はなく、洗浄の順序を適宜選択すること
ができる。また、この洗浄作業のタイミングは任意であ
り、例えば所定数例えば１ロット等の基板Ｇのレジスト
塗布を行った後、定期的に行うようにすることができ
る。

【０１２７】上記実施形態では、この発明に係る洗浄装
置及び洗浄方法をＬＣＤ基板の塗布装置に適用した場合
について説明したが、塗布装置以外の処理装置例えば現
像装置においても同様に適用することができ、また、Ｌ
ＣＤ基板以外の例えば半導体ウエハ等の被処理体の塗布
装置や現像装置等のカップ洗浄にも適用することができ
る。

【０１２８】

【０１２９】

【０１３０】

【０１３１】

【０１３２】本発明によれば、洗浄手段にて容器の内壁
面を洗浄したときに容器から排出された排出液は、循環
系により回収されて容器内を洗浄する洗浄手段に供給さ
れるので、洗浄液を再利用することができる。これによ
り洗浄液の使用量を低減すると共に装置全体のランニン
グコストの低減を図ることができる。また、本発明によ
れば、排出液貯留部に貯留された排出液と新洗浄液貯留
部に貯留された未使用の洗浄液のうち、いずれかを選択
または互いを混合して洗浄手段に供給するので、カップ
洗浄に支障をきたすことがなくなる。

【０１３３】請求項２記載の本発明によれば、第１の排
出液貯留部に貯留された第１の排出液と第２の排出液貯
留部に貯留された第２の排出液のうち、いずれかを選択
または互いを混合して洗浄手段に供給するので、一度使
用された洗浄液を効率よく利用することができる。

【０１３４】請求項３記載の本発明によれば、第１また
は第２の排出液貯留部のうち、少なくとも一方に未使用
の洗浄液、つまり新液が補充され、各貯留部に貯留され
ている排出液が薄められ、さらにこれらのうち、いずれ
かが選択または互いを混合して洗浄手段に供給されるの
で、洗浄性能を劣化させることなく一度利用した洗浄液
を効率よく利用することができる。

【０１３５】請求項４記載の本発明によれば、第１の排
出液貯留部と第２の排出液貯留部のうち、少なくとも一
方に新洗浄液貯留部の未使用の洗浄液を補充して洗浄手
段に供給することにより、洗浄液の再利用を行う場合に
もカップ洗浄に支障をきたすことがない上、洗浄性能を
劣化せずにカップ洗浄の洗浄効率の向上が図れ、かつカ
ップ洗浄を行う上での信頼性を向上することができる。

【０１３６】請求項５記載の本発明によれば、第１の排
出液貯留部に貯留された第１の排出液と第２の排出液貯
留部に貯留された第２の排出液と新洗浄液貯留部の未使
用の洗浄液の中から、いずれかを選択またはそれぞれを
混合して洗浄手段に供給するので、洗浄手段で容器内を
効率よく洗浄することができる。

【０１３７】また、本発明によれば、各貯留部に貯留さ
れている洗浄液または排出液の液量が検知されると、制
御手段は各液量を基に各貯留部から摂取する洗浄液また
は排出液の量を制御するので、各部に洗浄液を供給する
上での最適化を図ることができる。

【０１３８】請求項６記載の本発明によれば、使用済み
の洗浄液である排出液を第２の射出部に供給し、未使用
の洗浄液を第１の射出部に供給することにより、用途毎
に洗浄液を効率よく利用することができる。

【０１３９】請求項７記載の本発明によれば、容器の内
壁面にフッ化エチレン系樹脂層を形成したことにより、
被処理体に処理を施したときに流出または飛散した処理
液が容器の内壁面に付着することが少なくなる。

【０１４０】請求項８記載の本発明によれば、容器内に
おいて、フッ化エチレン系樹脂層を形成する部分を限定
することにより、フッ化エチレン系樹脂の使用量を最小
限にして処理液の付着が少なくなるという効果を得るこ
とができる。

【０１４１】請求項９〜１１記載の本発明によれば、蓋
付回転カップを回転させた状態で、この回転カップの蓋
部中央から整流板に向けて洗浄液を供給すると共に、整
流板の外周下面、蓋付回転カップの内側面及び固定カッ
プの底面に向けて洗浄液を供給することにより、回転カ
ップの蓋部中央から供給される洗浄液が回転する整流板
の遠心力によって外方に飛散して蓋体の下面に付着する
塗布液を除去し、また、直接整流板の外周下面、回転カ
ップの内側面及び固定カップの底面に供給される洗浄液
によってこれらに付着する塗布液を除去することができ
る。

【０１４２】また、蓋付回転カップの外周下面及び上記
固定カップの内側面に洗浄液を供給することにより、回
転カップの外周下面及び固定カップの内側面に付着する
塗布液を除去することができる。この場合、固定カップ
の内側面の下部を外方に向けて屈曲形成することで、回
転カップと固定カップ間を流れる空気の滞留部を形成す
ることができ、この滞留部にて外部に飛散する塗布液を
受け止めて上方への逆流を阻止することができ、かつ、
この固定カップの内側面の屈曲部に向けて第３の洗浄ノ
ズルから洗浄液を供給することによって固定カップに付
着する塗布液を除去することができる。

【０１４３】また、請求項１１に記載したように、蓋付
回転カップを第１の回転数（例えば３５０〜６５０ｒｐ
ｍ）で回転して、この蓋付回転カップの蓋部中央から整
流板に向けて洗浄液を供給することにより、回転カップ
の回転と共に回転する整流板の遠心力によって洗浄液を
蓋部の外周下面に衝突させて蓋部下面に付着した塗布液
を除去することができ、第１の回転数より速い第２の回
転数（例えば７００〜１３００ｒｐｍ）で回転して、整
流板の外周下面及び蓋付回転カップの内側面に向けて洗
浄液を供給することにより、整流板の外周下面及び回転
カップの内側面の広い面積に効率よく洗浄液を供給する
ことができ、かつ第１の回転数より遅い第３の回転数
（例えば１４〜２６ｒｐｍ）で回転して、蓋付回転カッ
プの底面に洗浄液を供給することにより、洗浄液を回転
カップの底面の内周側から外周側に移動させて底面に付
着する塗布液を除去することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一つの実施形態のＬＣＤ基板処理シス
テムの構成を示す斜視図である。

【図２】ＬＣＤ基板処理システムのレジスト塗布・塗布
膜除去装置の構成を示す図である。

【図３】レジスト塗布・塗布膜除去装置の塗布機構を示
す断面図である。

【図４】第３の塗布機構の容器（処理室、回転カップお
よびドレンカップ）部分を拡大した断面図である。

【図５】図４の容器内にフッ化エチレン系樹脂をコーテ
ィングした様子を示す図である。

【図６】載置台の上面を示す概略斜視図である。

【図７】図６の要部拡大図である。

【図８】縁部除去機構を示す図である。

【図９】図８の縁部除去機構の表面用ノズル穴を示す平
面図である。

【図１０】図８の縁部除去機構の裏面用ノズル穴を示す
平面図である。

【図１１】第１の洗浄処理装置を示す図である。

【図１２】容器の変形例を示す図である。

【図１３】容器の別の変形例を示す図である。

【図１４】容器の更に別の変形例を示す図である。

【図１５】本発明の第２の洗浄処理装置を示す図であ
る。

【図１６】本発明の第３の洗浄処理装置を示す図であ
る。

【図１７】本発明に係る第４の洗浄装置を具備するレジ
スト塗布装置の概略平面図である。

【図１８】本発明に係る第４の洗浄装置を示す概略断面
図である。

【図１９】上記洗浄装置の要部洋舞を示す拡大断面図で
ある。

【図２０】洗浄部を具体的に示す概略断面図である。

【図２１】本発明における第２の洗浄ノズルの別の種類
を示す概略断面図である。

【図２２】本発明における第２の洗浄ノズルの別の種類
を示す概略断面図である。

【図２３】本発明における第２の洗浄ノズルの別の種類
を示す概略断面図である。

【図２４】本発明における第３の洗浄ノズルの別の種類
を示す概略断面図である。

【図２５】本発明における第３の洗浄ノズルの別の種類
を示す概略断面図である。

【符号の説明】

Ｇ ガラス基板 ６０ 回収管 ６２ ミストトラップ ６４ バルブ ７０ ＥＲタンク ７１ 新液タンク ７２ ＤＲタンク ７４ 液面センサ ７５ 切換バルブ １６ 蓋体 ５１ ノズル ５６ シンナ供給路 １２ 回転カップ １４ ドレンカップ １２０ ブラシ洗浄装置

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 立山 清久 熊本県菊池郡大津町大字高尾野字平成 272番地の４ 東京エレクトロン九州株 式会社大津事業所内 (56)参考文献 特開 平９−1035（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−259060（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−220775（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−98764（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01L 21/304

Claims (11)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被処理体に処理を施したときに流出また
   は飛散する処理液を回収する容器と、 前記容器内に洗浄液を供給しその内壁面を洗浄する洗浄
   手段と、 前記洗浄手段にて前記容器の内壁面を洗浄したときに前
   記容器から排出された排出液を回収し前記洗浄手段に供
   給する循環系と、 を有する処理装置であって、 前記循環系は、 未使用の洗浄液を貯留する新洗浄液貯留部と、 前記容器から排出された排出液を貯留する排出液貯留部
   と、 前記排出液貯留部に貯留された排出液と前記新洗浄液貯
   留部に貯留された未使用の洗浄液のうち、いずれかを選
   択または互いを混合して前記洗浄手段に供給する洗浄液
   供給手段と、 を有し、 前記洗浄液供給手段は、 前記各貯留部に貯留されている洗浄液または排出液の液
   量を検知する検知手段と、 前記検知手段により検知された各液量を基に、前記各貯
   留部から摂取する洗浄液または排出液の量を制御する制
   御手段とを具備したことを特徴とする処理装置。
2. 【請求項２】 被処理体に処理を施したときに流出また
   は飛散する処理液を回収する容器と、 前記容器内に洗浄液を供給しその内壁面を洗浄する洗浄
   手段と、 前記洗浄手段にて前記容器の内壁面を洗浄したときに前
   記容器から排出された排出液を回収し前記洗浄手段に供
   給する循環系と、 を有する処理装置であって、 前記循環系は、 処置を施した前記被処理体の少なくとも一部を洗浄した
   ときに前記容器に集められて排出された第１の排出液を
   貯留する第１の排出液貯留部と、 前記容器内壁面を洗浄したときに前記容器に集められて
   排出された第２の排出液を貯留する第２の排出液貯留部
   と、 前記第１の排出液貯留部に貯留された第１の排出液と前
   記第２の排出液貯留部に貯留された第２の排出液のう
   ち、いずれかを選択または互いを混合して前記洗浄手段
   に供給する洗浄液供給手段と、 を有し、 前記洗浄液供給手段は、 前記各貯留部に貯留されている洗浄液または排出液の液
   量を検知する検知手段と、 前記検知手段により検知された各液量を基に、前記各貯
   留部から摂取する洗浄液または排出液の量を制御する制
   御手段とを具備したことを特徴とする処理装置。
3. 【請求項３】 請求項２記載の処理装置において、 前記洗浄液供給手段は、処置を施した前記被処理体の少
   なくとも一部を洗浄するための未使用の洗浄液を前記第
   １の排出液貯留部または前記第２の排出液貯留部のうち
   の少なくとも一方に補充し、それぞれに貯留された排出
   液のうち、いずれかを選択または互いを混合して前記洗
   浄手段の供給することを特徴とする処理装置。
4. 【請求項４】 被処理体に処理を施したときに流出また
   は飛散する処理液を回収する容器と、 前記容器内に洗浄液を供給しその内壁面を洗浄する洗浄
   手段と、 前記洗浄手段にて前記容器の内壁面を洗浄したときに前
   記容器から排出された排出液を回収し前記洗浄手段に供
   給する循環系と、 を有する処理装置であって、 前記循環系は、 未使用の洗浄液を貯留する新洗浄液貯留部と、 処理を施した前記被処理体の少なくとも一部を洗浄した
   ときに前記容器に集められて排出された第１の排出液を
   貯留する第１の排出液貯留部と、 前記容器内壁面を洗浄したときに前記容器に集められて
   排出された第２の排出液を貯留する第２の排出液貯留部
   と、 前記第１の排出液貯留部と前記第２の排出液貯留部のう
   ち、少なくとも一方に前記新洗浄液貯留部の未使用の洗
   浄液を補充して前記洗浄手段に供給する洗浄液供給手段
   と、 を有し、 前記洗浄液供給手段は、 前記各貯留部に貯留されている洗浄液または排出液の液
   量を検知する検知手段と、 前記検知手段により検知された各液量を基に、前記各貯
   留部から摂取する洗浄液または排出液の量を制御する制
   御手段とを具備したことを特徴とする処理装置。
5. 【請求項５】 被処理体に処理を施したときに流出また
   は飛散する処理液を回収する容器と、 前記容器内に洗浄液を供給しその内壁面を洗浄する洗浄
   手段と、 前記洗浄手段にて前記容器の内壁面を洗浄したときに前
   記容器から排出された排出液を回収し前記洗浄手段に供
   給する循環系と、 を有する処理装置であって、 前記循環系は、 未使用の洗浄液を貯留する新洗浄液貯留部と、 処理を施した前記被処理体の少なくとも一部を洗浄した
   ときに前記容器に集められて排出された第１の排出液を
   貯留する第１の排出液貯留部と、 前記容器内壁面を洗浄したときに前記容器に集められて
   排出された第２の排出液を貯留する第２の排出液貯留部
   と、 前記第１の排出液貯留部に貯留された第１の排出液と前
   記第２の排出液貯留部に貯留された第２の排出液と前記
   新洗浄液貯留部の未使用の洗浄液との中から、いずれか
   を選択またはそれぞれを混合して前記洗浄手段に供給す
   る洗浄液供給手段と、 を有し、 前記洗浄液供給手段は、 前記各貯留部に貯留されている洗浄液または排出液の液
   量を検知する検知手段と、 前記検知手段により検知された各液量を基に、前記各貯
   留部から摂取する洗浄液または排出液の量を制御する制
   御手段とを具備したことを特徴とする処理装置。
6. 【請求項６】 請求項１記載の処理装置において、 前記洗浄手段は、前記被処理体近傍の容器内壁部に向け
   て洗浄液を射出する第１の射出部と、 前記被処理体から離れ排出口に近い容器内壁部に向けて
   洗浄液を射出する第２の射出部とを有し、 前記循環系は、使用済みの洗浄液である排出液を前記第
   ２の射出部に供給し、未使用の洗浄液を前記第１の射出
   部に供給することを特徴とする処理装置。
7. 【請求項７】 請求項１〜６いずれか１項記載の処理装
   置において、 前記容器の内壁面に、フッ化エチレン系樹脂層を形成し
   たことを特徴とする処理装置。
8. 【請求項８】 請求項７記載の処理装置において、 前記フッ化エチレン系樹脂層を、前記処理液を回収し得
   る前記容器内の回収経路上に形成したことを特徴とする
   処理装置。
9. 【請求項９】 被処理体を保持する保持手段及び被処理
   体の側方及び上、下部を包囲する回転可能な蓋付回転カ
   ップと、 この蓋付回転カップの側方及び下方を包囲する固定カッ
   プと、 上記蓋付回転カップ内に取り付けられて上記被処理体の
   上方を覆う整流板と、を具備する塗布機構とを用い、 上記蓋付回転カップを回転させた状態で、上記蓋付回転
   カップの蓋部中央から上記整流板に向けて洗浄液を供給
   して遠心力により蓋部下面に供給すると共に、上記整流
   板の外周下面、蓋付回転カップの内側面及び固定カップ
   の底面に向けて洗浄液を供給するカップ用洗浄方法であ
   って、 上記蓋付回転カップを第１の回転数で回転して、この蓋
   付回転カップの蓋部中央から上記整流板に向けて洗浄液
   を供給し、 上記第１の回転数より速い第２の回転数で回転して、上
   記整流板の外周下面及び上記蓋付回転カップの内側面に
   向けて洗浄液を供給し、 かつ上記第１の回転数より遅い第３の回転数で回転し
   て、上記蓋付回転カップの底面に洗浄液を供給する、 ことを特徴とする洗浄方法。
10. 【請求項１０】 請求項９記載の洗浄方法において、 上記蓋付回転カップの外周下面及び上記固定カップの内
    側面に洗浄液を洪給する、ことを特徴とする洗浄方法。
11. 【請求項１１】 請求項９又は１０記載の洗浄方法にお
    いて、 上記第１の回転数が３５０〜６５０ｒｐｍ、上記第２の
    回転数が７００〜１３００ｒｐｍ、上記第３の回転数が
    １４〜２６ｒｐｍである、 ことを特徴とする洗浄方法。