JP4737638B2 - 現像処理装置 - Google Patents
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- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/3021—Imagewise removal using liquid means from a wafer supported on a rotating chuck
Description
2 回転基台
3 助走ステージ(外周板)
4 基板保持台
5 ノズルヘッド
7 液貯留空間
17 回転駆動部
20 本体
22 底部
22a 底面
23 吸着保持部
23a 頂面
23b 吸引口
23c 吸引口形成部
23d 傾斜面
24 側壁
25a 第1の環状シール部材
25b 第2の環状シール部材
26 排液口
30 現像液吐出口
40 現像液吸引口
100 超音波発信器
101 振動子
102 超音波駆動電源
Claims (8)
- 被処理基板を回転可能に保持する回転基台と、
上記回転基台と共に回転可能で、かつ回転基台に保持された被処理基板の外周部を囲む、被処理基板の表面の同一平面上、若しくは、僅かに高い被処理基板の表面上から連続する液膜を形成するための外周板と、
上記回転基台に対して相対的に昇降移動可能で、かつ上記被処理基板を吸着して保持する基板保持台と、
上記基板保持台に保持された被処理基板の表面に沿って移動可能で、上記被処理基板に対する現像液の供給と吸引を同時に行うノズルヘッドと、を具備し、
上記基板保持台が被処理基板を吸着保持すると共に、シール部材を介して上記基板保持台と外周板が密着し、かつ基板保持台と上記回転基台が密着して液貯留空間を形成し、上記吸着保持の解除及び上記密着が解除された状態で、上記回転基台及び外周板と共に被処理基板を回転可能に形成してなる、ことを特徴とする現像処理装置。 - 請求項1記載の現像処理装置において、
上記回転基台及び基板保持台に保持された被処理基板と液貯留空間に向かって洗浄液を供給する洗浄液供給手段を更に具備してなる、ことを特徴とする現像処理装置。 - 請求項1又は2記載の現像処理装置において、
上記基板保持台は、外周板の裏面の全周に渡って密着可能な第1の環状シール部材と、回転基台の裏面の全周に渡って密着可能な第2の環状シール部材と、被処理基板の裏面に密着して被処理基板を吸着保持する吸着保持部と、を具備することを特徴とする現像処理装置。 - 請求項3記載の現像処理装置において、
上記第1の環状シール部材及び第2の環状シール部材は、それぞれ密接対象となる外周板の裏面側及び回転基台の裏面側に向かって傾斜状に延在する可撓性を有するシール片を具備することを特徴とする現像処理装置。 - 請求項1ないし4のいずれかに記載の現像処理装置において、
上記基板保持台は、回転基台の回転軸を回転可能に貫挿する貫通孔を有する有底筒状の本体と、この本体の底部上に起立し、その頂面に被処理基板を吸引する吸引口を有する吸着保持部を具備し、上記本体の側壁頂面に第1の環状シール部材を設け、上記本体の底部における上記貫通孔の縁部に第2の環状シール部材を設けた、ことを特徴とする現像処理装置。 - 請求項5記載の現像処理装置において、
上記吸着保持部における吸引口形成部を水平平坦状に形成し、上記吸引口形成部を除く頂面を内方端部から外方端部に向かって下り勾配状に形成してなる、ことを特徴とする現像処理装置。 - 請求項1ないし6のいずれかに記載の現像処理装置において、
上記基板保持台の底部に排液口を設けると共に、底面を上記排液口側に向かって下り勾配状に形成してなる、ことを特徴とする現像処理装置。 - 請求項1ないし7のいずれかに記載の現像処理装置において、
上記基板保持台における液貯留空間を形成する底部の下面に振動子を配設すると共に、この振動子に超音波発振器を接続してなる、ことを特徴とする現像処理装置。
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