JP3625752B2 - 液処理装置 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体ウエハ等の基板に対し、現像処理等の液処理を行う液処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体ウエハ（以下ウエハという）や液晶ディスプレイのＬＣＤ基板の表面上に回路パターンを形成するためのマスクは以下の工程により形成される。即ち、先ずウエハ表面にフォトレジスト溶液（以下レジストという）の塗布を行い、光等の照射を行う。前記レジストが例えばネガ形ならば光の当たった部分が硬化し、硬化しない部分即ちレジストの溶けやすい部分を現像液により溶解して目的とするマスクが形成される。現像処理装置は、半導体ウエハを吸着保持して回転させるスピンチャックとスピンチャック上の半導体ウエハに現像液を供給する現像液供給ノズルを備えている。
従来、上述のような現像工程で用いられる現像液供給ノズルとしては、図９（ｂ）に示されるウエハＷの直径方向に対応する長さに亘って多数の吐出孔１１が配列された供給ノズル１２が用いられる。
【０００３】
図９（ａ）で、この供給ノズル１２による現像液の吐出について以下に説明する。供給ノズル１２をウエハＷの中央部にて吐出孔１１がウエハＷの表面から例えば１ｍｍ上方になるように位置させ、吐出孔１１から現像液をウエハＷ表面の直径方向中央部に供給しつつ、ウエハＷを１８０度回転させる。こうすることで、ウエハＷの直径方向に亘って中央部から現像液が吐出されながらウエハＷ一円に広げられ液盛りを完了できる。同時にウエハＷ表面全体に現像液の液膜が所定の厚さで形成されることになる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、従来、線幅の均一性を確保するために現像液を半導体ウエハ上面一円に液盛りする工程は、液盛りされた現像液の合計貯留時間を極力同一に近づけることが要求される。そのために現像液を速やかに半導体ウエハに塗布する必要があるため、現像液の供給圧力を高くしている。
【０００５】
しかしながら、従来の現像処理方法だと現像液供給ノズルは均一に吐出させる目的で吐出孔の径が小さく供給圧力も高く設定してあるために吐出流速が高くなる。そのために、半導体ウエハ表面への初期吐出時には半導体ウエハ表面の溶解部分に与える衝撃が強くなり、線幅の均一性が低下するおそれがある。
【０００６】
また、半導体ウエハの供給ノズルに亘る中央付近は、最初に吐出した現像液と最後に吐出した現像液が重なる部分が出てくるために新旧の現像液が混じり合い、より現像が進み中央付近の線幅の均一性が損なわれるおそれもある。
【０００７】
まして、半導体ウエハを回転させながら現像液を吐出させるために、現像液の慣性力により現像液を液盛りした時の液面の浪打ちが発生し、現像液の混じり合い方も激しいところとそうでないところが発生し現像の均一性が悪化してしまうという問題もある。
【０００８】
そこで、上述したものと同様の現像液供給ノズルを使い図１０に示すような塗布手段を用いる場合が考えられる。図１０は、ウエハＷの周縁外側に供給ノズル１２を移動させ配置し、この位置より吐出を行いながら反対側のウエハ周縁外側までの間をさらに移動させるスキャン方式である。
【０００９】
しかしながら、上述方法により現像液の塗布を行う装置はウエハＷの周囲に図示しない円筒状のカップ１３を有し、その中で一連の現像処理がおこなわれる構造になっている。この筒状のカップ１３は、現像処理終了後にウエハＷを回転させながら洗浄液を吐出する場合の洗浄工程で、液飛散を抑えつつ、飛散する洗浄液を回収するためのものである。
【００１０】
従って、このような円筒状のカップ１３を用い、図１０に示すように供給ノズル１２を初期吐出位置から反対側ウエハＷの周縁までスキャンさせると、供給ノズル１２の吐出開始付近と終了位置付近のウエハＷ周縁では、筒状のカップ１３から供給ノズル１２がはみ出すため図１０中のａの斜線領域で現像液が筒状のカップ１３から外部に漏れてしまい、現像ユニットを汚してしまう。
【００１１】
また、仮に筒状カップ１３を大きくして、ａの領域をカバーしようとしてカップを大きくしようとすると、現像ユニットを大型化しなければならない問題が発生する。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る液処理装置は、基板を水平に保持し、回転自在な基板保持部と、
前記基板保持部を回転させるための回転機構と、
前記基板保持部に保持された基板の側方を囲み、上部側が四角筒状に、また下部側が円筒状に形成されたカップと、
前記カップの内側の一辺に沿って伸び、基板に処理液を供給するノズルと、
このノズルを前記カップの内側の一辺に隣接する辺に沿って移動させる移動機構と、
前記基板保持部とカップとを相対的に昇降させるための昇降手段と、
カップの上部側が供給ノズルの吐出孔の移動領域の側方に位置するレベルとカップの下部側が基板の側方に位置するレベルとの間で基板に対するカップの高さ位置を前記昇降手段を介して制御する制御手段と、
前記基板保持部とカップとの間を排気する排気手段と、
前記回転機構と昇降機構とのうちの少なくとも一方の作動情報に基づいて前記排気手段を作動させる排気制御部と、を有することを特徴とする。
【００１３】
このような装置によれば、カップの上部側が四角筒状に形成され、その中を供給ノズルが移動する構成となっているため、カップ外側へ処理液が漏れることがなく、またカップの占有エリアを小さくすることができる。
【００１４】
前記カップは、例えば四角筒状部分と円筒状部分とが一体成型され、上方から見たとき円筒状をなす部分が四角筒状をなす部分の内側に位置するように構成され、前記供給ノズルは、例えば基板の有効領域の幅に対応する長さの処理液の供給領域を有し、基板の有効領域から外れた待機位置から移動しながら基板の有効領域全域に処理液の供給ができるように構成される。また供給ノズルはカップ内にてダミーディスペンスを行うように構成してもよい。
【００１５】
更に本発明は、処理液が供給された後、回転している基板に洗浄液を供給する洗浄液供給手段を備えた構成とすることができ、また基板の上方に基板表面に対して清浄な空気を供給する空気供給部を設け、基板の下方に排気を行う排気口を形成し、空気供給部からの清浄な空気は基板に向かって降下し、カップ内を介して前記排気口から排気されるようにすることもできる。更には、基板保持部を回転させるための回転機構と、基板保持部とカップとの間を排気する排気手段と、前記回転機構と昇降機構とのうちの少なくとも一方の作動情報に基づいて前記排気手段を作動させる排気制御部と、を備えた構成としてもよい。また、カップ内に供給ノズルの待機位置を設け、前記供給ノズルが待機位置に位置するときに、この供給ノズルに向けて洗浄液を吐出する洗浄機構を設けるようにしてもよい。
【００１７】
【発明の実施の形態】
図１は本発明の液処理装置を現像装置に適用した実施の形態を示す概略図面である。２は基板であるウエハＷの裏面中心部を真空吸着し水平に保持する基板保持部であるスピンチャックである。スピンチャックは、スピンモータ２４の回転軸２１に取りつけられおり、昇降部２２、スピンモータ保持部２３により現像処理位置と、図示しないウエハ搬送装置との受け渡し高さまで上下可動となっている。
【００１８】
ウエハＷがスピンチャック２に吸着保持された状態において、ウエハＷの側方を囲むようにしてカップ３が設けられている。カップ３は各々上下可動な外カップ３１と内カップ３２とからなり、外カップ３１の下端部に接続される昇降部３３により外カップが昇降し、内カップ３２は外カップ３１の移動範囲の一部において連動して昇降するように構成されている。
【００１９】
これは、外カップ３１の下端円周上に一定間隔に設けられた複数のＬ字部分３１ｃに引っ掛かることにより、外カップ３１と内カップ３２が共に上昇するように構成されている。また、Ｌ字部分３１ｃ間は現像液や洗浄液の飛散液が外カップ３１の内壁面を伝いドレインライン４３に流れるようになっている。
【００２０】
外カップ３１は、カップ上部側３１ａが四角筒状をなしており、カップ下部側３１ｂは円筒状をなしているものが、一体となった構造を形成したものであり、外カップ３１の上部側及び下部側の水平断面の形状は、それぞれ四角形と円形となっている。即ち、この形状によりカップ上部側３１ａの四角筒状部の中に供給ノズル６が、カップ上部側３１ａの一辺と並行になるように収容可能になっている。そして図２及び図３に示すようにウエハＷの上方から見ると上部側カップ３１ａ中に下部側カップ３１ｂが収まっている。一方、内カップ３２は円筒の上部側が上方内側に傾斜し、上部側開口部が下部側開口部より狭くなるように形成されており、この上部側開口部は内カップ３２が下降位置にあるときにウエハＷの外縁と僅かな隙間を介してこれを囲むように位置決めされる。
【００２１】
スピンチャック２の下方側には回転軸２１を中心にほぼ水平に設けられている円板４１と、この円板４１の周り全周に亘って凹部が形成された液受け部４２とが設けられており、液受け部４２の底面にはドレインライン４３が接続されている。
【００２２】
円板４１の周縁部付近には断面山形のリング体４４が頂部４５（上端）がウエハＷの周縁部裏面に接近するように設けられている。リング体４４の外周とカップ３（内カップ３２）との間には隙間４６が設けられており、前記頂部４５から下方外側に傾斜する斜面を伝って例えば後述する現像液やリンス液が、この隙間４６を通って液受け部４２側へと流れる構成となっている。
【００２３】
また円板４１には下方側から複数の洗浄ノズル４７が突入して設けられている。この洗浄ノズル４７はウエハＷ周縁の裏面側を洗浄するために洗浄液例えば純水を供給するものであり、このために洗浄ノズル４７の洗浄液供給口がウエハＷ周縁側を向くように屈曲して構成されている。
【００２４】
更にまた円板４１には前記洗浄ノズル４７から供給され、ウエハＷやリング体４４にあたって円板４１側へ跳ね返った洗浄液を自然排水するためのドレインライン４８が接続されている。
【００２５】
次にカップ３の外側について説明する。図２にも示すように外カップ３１の外側には、例えば上部側カップ３１ａの一辺と平行になるように水平に延びるガイドレール５が設けられている。図２で示す状態では、ガイドレール５の一端側には供給ノズル６が、他端側には洗浄ノズル５１が夫々位置しており、これらノズル６，５１が図示しない駆動機構によりガイドレール５に案内されてウエハＷの上方を移動できるように構成されている。この例では図示しない駆動機構及びガイドレール５により、供給ノズル６を移動させる移動機構が構成されている。
【００２６】
供給ノズル６は昇降機構を有し、ウエハＷの直径とほぼ同じ長さに亘って配列された多数の吐出孔６１を備えている。供給ノズル６は、供給領域が基板の有効領域の幅（この例ではウエハＷのほぼ直径の長さ）とほぼ同じ長さであればよいが、それよりも長くてもよい。つまり供給領域の長さが有効領域に処理液が行き亘る長さであればよい。また洗浄ノズル５１も供給ノズル６同様に昇降機構を有しており、供給ノズル６及び洗浄ノズル５１の移動及び昇降は制御部７によりコントロールされるように構成されている。この制御部７は既述のスピンチャック２の駆動部２２及び外カップ３１の昇降部３３とも接続されており、駆動部２２によるスピンチャック２の回転及び昇降の制御、また昇降部３３によるカップ３の昇降の制御を行うと共にスピンチャック２及びカップ３の各状況に応じて供給ノズル６や洗浄ノズル５１を動作させることができる構成となっている。
【００２７】
前記スピンチャック２やカップ３からなる現像ユニットの上方には所定温度及び湿度に調整された清浄な空気を下降流としてウエハＷ表面に供給しこれによりウエハＷにパーティクルが付着するのを抑えるための空気供給部８が設けられている。ここで前述のドレインライン４３は廃液管と排気管を兼用しており、前記空気供給部８から供給される空気はウエハＷ表面に沿って外方側に流れ、カップ３とリング体４４との間の隙間４６を通ってドレインライン４３から排気になるように構成される。なおドレインライン４３には図示しない例えばバルブ及び排気ポンプからなる排気手段が設けられており、この排気手段はスピンチャック２の駆動部２２及び昇降部３３の少なくとも一方の作動情報に基づいて制御部７を介して作動する。例えばスピンチャック２が停止したとき、あるいはカップ３１が上昇したとき、またはそれらのアンド条件で例えば前記バルブが開き、排気動作が行われる。
【００２８】
次に本実施の形態における作用について図４及び図５に基づいて説明する。先ずスピンチャック２がカップ３の上方まで上昇し、既に前工程でレジストが塗布され、露光処理されたウエハＷが図示しない搬送アームからスピンチャック２に受け渡される（図４（ａ））。なお、このとき外カップ３１及び内カップ３２は共に下降した状態である。
【００２９】
続いて図４（ｂ）に示すように、ウエハＷ上面が内カップ３２上端とほぼ同じ高さになる位置までスピンチャック２が下降する。スピンチャック２の下降後、供給ノズル６が外カップ３１外側の待機位置（ホームポジション）からガイドレール５に沿って上部側カップ３１ａとウエハＷ周縁との間に対応する位置まで案内され、続いてその位置からウエハＷの周縁の外側位置まで下降する（図４（ｂ））。このとき供給ノズル６の位置（高さ）はウエハＷに対して現像液の供給を行う高さにセットされるため、吐出孔６１はウエハＷ表面レベルよりも例えば１ｍｍ程度高い位置に置かれる。
【００３０】
しかる後供給ノズル６は図４（ｂ）の位置から現像液の吐出を行いながらスキャンを開始し、図５（ａ）に示すようにウエハＷの一端側から他端側へと移動して（図５中左から右へ移動して）ウエハＷの表面には例えば１．２ｍｍの高さの液膜が形成され、ウエハＷの静止現像が行われる。また、この静止現像中は、前述のドレインライン４３からの排気は例えば停止させる。このとき供給ノズル６の移動は、当該供給ノズル６の吐出孔６１が配列されている吐出領域の中心がウエハＷの中心上方を通過するように、例えば１０ｃｍ／ｓｅｃのスキャンスピードで行われる。供給ノズル６はウエハＷをスキャンした後、図５中ウエハＷの右端側よりも外方位置にて３１ａの上側まで上昇し、図２に示す待機位置へと戻る。供給ノズル６のスキャンにおいて、ウエハＷの両端外側に吐出されてこぼれ落ちる現像液は内カップ３２やリング体４４を伝って液受け部４２へ流れ、ドレインライン４３から排出される。
【００３１】
次に、ドレインライン４３からの排気を復帰させ、供給ノズル６と入れ替わって洗浄ノズル５１がガイドレール５に案内されて、ウエハＷの中央上方に吐出部が位置するように移動する。そして外カップ３１が上昇して下部側カップ３１ｂがウエハＷの上方側レベル及び下方側レベルに跨った状態となり、またこのとき外カップ３１のカギ型部分３１ｃにより内カップ３２も上昇する（図５（ｂ））。次いでスピンチャック２が回転し、洗浄ノズル５１から洗浄液例えば純水がウエハＷ中心部に供給されてウエハＷの遠心力によりウエハＷの中央部から周縁部へ広がり、ウエハＷ上の現像液が洗い流される。
【００３２】
一方、ウエハＷ下方側の洗浄ノズル４７からも洗浄液例えば純水がウエハＷの裏面周縁に向けて吐出され、当該裏面周縁に回り込んだ現像液を洗い流してドレインライン４１及び４３から排出される。
【００３３】
その後洗浄ノズル５１，４７からの洗浄液の吐出を停止し、ウエハＷを回転し続けてウエハＷをスピン乾燥する。このとき、外カップ３１は洗浄時同様に上昇位置のままであり、スピン乾燥終了後にウエハＷの入れ替えのためこれを下降させ、スピンチャックが上昇して図４（ａ）に示す状態へと戻る。
【００３４】
このように本発明の実施の形態に係る液処理装置によれば、外カップ３１の上部（上部側カップ３１ａ）が四角筒状に形成され、この中に供給ノズル６を位置させてスキャンを行っているため、外カップ３１外側に処理液が漏れることがないし、上部側カップ３１ａの占有エリアが狭くて済む。
【００３５】
また、本実施の形態でウエハＷへ現像液を供給してからウエハＷの乾燥終了まで外カップ３１を上昇位置に置いているので現像の均一性を高める効果がある。即ちウエハＷはいわゆるダウンフロー（清浄気体の降下気流）の雰囲気下に置かれており、現像液をウエハＷ上に液盛りした後所定時間例えば静止させて現像を行うが、このときウエハＷ全面には均一な温度分布を得て均一な現像を行うために一律な気流が当ることが好ましい。この場合ウエハＷの周囲が仮に四角筒状の上部側カップ３１ａで囲まれていると、ウエハＷの周縁と下部側カップ３１ｂの内面との間の空間（排気空間）の大きさが周方向の位置において異なるため、ダウンフローのはね返りによる乱流が発生してウエハＷ表面における気流の不均一の程度が大きくなり、現像の均一性（パターンの線幅の均一性）が悪くなる。これに対してウエハＷの周囲に円筒状の下部側カップ３１ｂを位置させれば、前記排気空間の大きさが一律になるため、ウエハＷ表面における気流が均一になり、現像ムラを抑えることができる。
【００３６】
上述のことから、ウエハＷの側方を囲む外カップ３１を上部側と下部側とで異なる形状を有する一体成型物とし、これをウエハＷへの処理液供給時及び洗浄・乾燥時に応じて適当な形状のカップがウエハＷの側方に位置するように制御しているため、従来装置よりスペースを大きくとることなしに四角筒状カップと円筒状カップとの夫々の利点を兼ね備えた運用を可能としている。
【００３７】
また本実施の形態は、例えば図６に示すように、外カップ３１内に供給ノズル６の待機位置（ホームポジション）１６１と、洗浄ノズル５１の待機位置（ホームポジション）１５１とを設ける構成としてもよい。ここでいう待機位置とは、現像液の供給を行わないときに待機している位置であって動作のスタートポイントである。これら待機位置１６１及び１５１には、供給ノズル６及び洗浄ノズル５１に向けて洗浄液を吐出し、例えば夫々の液吐出部位の洗浄を行うための洗浄液吐出ノズル１６２及び１５２が設けられており、また供給ノズル６は、待機位置１６１の近くでダミーディスペンスを行うようになっている。このような構成とすることで、例えばカップの外側のバスでノズル洗浄やダミーディスペンスを行う装置に比べて、部品点数の削減及び装置の小型化を図ることができる。
【００３８】
なお本実施の形態に係る液処理装置は、現像処理に限らずレジストの塗布処理に適用してもよい。
【００３９】
次に上述の現像装置をユニットに組み込んだ塗布・現像装置の一例の概略について図７及び図８を参照しながら説明する。図７及び図８中、９はウエハカセットを搬入出するための搬入出ステージであり、例えば２５枚収納されたカセットＣが例えば自動搬送ロボットにより載置される。搬入出ステージ９に臨む領域にはウエハＷの受け渡しアーム９０がＸ，Ｙ方向およびθ回転（鉛直軸回りの回転）自在に設けられている。更にこの受け渡しアーム９０の奥側には、例えば搬入出ステージ９から奥を見て例えば右側には塗布・現像系のユニットｕ１が、左側、手前側、奥側には加熱・冷却系のユニットｕ２，ｕ３，ｕ４が夫々配置されていると共に、塗布・現像系ユニットと加熱・冷却系ユニットとの間でウエハＷの受け渡しを行うための、例えば昇降自在、左右、前後に移動自在かつ鉛直軸まわりに回転自在に構成されたウエハ搬送アームＭＡが設けられている。但し図７では便宜上ユニットｕ２及びウエハ搬送アームＭＡは描いていない。
【００４０】
塗布・現像系のユニットにおいては、例えば上段に２個の上述の現像装置を備えた供えた現像ユニット９１が、下段に２個の塗布ユニット９２が設けられている。加熱・冷却系のユニットにおいては、加熱ユニットや冷却ユニット、疎水化処理ユニット等が上下にある。
【００４１】
塗布・現像系ユニットや加熱・冷却系ユニットを含む上述の部分をクリーントラックと呼ぶことにすると、このクリーントラックの奥側にはインターフェイスユニット１００を介して露光装置１０１が接続されている。インターフェイスユニット１００は例えば昇降自在、左右、前後に移動自在かつ鉛直軸まわりに回転自在に構成されたウエハ搬送アーム１０２によりクリーントラックと露光装置１０１の間でウエハＷの受け渡しを行うものである。
【００４２】
この装置のウエハの流れについて説明すると、先ず外部からウエハＷが収納されたウエハカセットＣが前記搬入出ステージ９に搬入され、ウエハ搬送アーム９０によりカセットＣ内からウエハＷが取り出され、既述の加熱・冷却ユニットｕ３の棚の一つである受け渡し台を介してウエハ搬送アームＭＡに受け渡される。次いでユニットｕ３の一の棚の処理部内にて疎水化処理が行われた後、塗布ユニット９２にてレジスト液が塗布され、レジスト膜が形成される。レジスト膜が塗布されたウエハＷは加熱ユニットで加熱された後インターフェイスユニット１００を介して露光装置１０１に送られ、ここでパターンに対応するマスクを介して露光が行われる。
【００４３】
その後ウエハＷは加熱ユニットで加熱された後、冷却ユニットで冷却され、続いて現像ユニット９１に送られて現像処理され、レジストマスクが形成される。しかる後ウエハＷは搬入出ステージ９上のカセットＣ内に戻される。
【００４４】
【発明の効果】
以上説明したように、種々の液膜塗布方法が利用できる本発明は、処理装置を大型化せずに可能であり、例えば高い線幅均一性を得るための最適な方法が選択できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る液処理装置の実施の形態を表す断面図である。
【図２】本発明に係る液処理装置の実施の形態を表す平面図である。
【図３】前記液処理装置における供給ノズルの作用を表す斜視図である。
【図４】前記液処理装置の作用を表す工程図である。
【図５】前記液処理装置の作用を表す工程図である。
【図６】本発明に係る液処理装置の他の実施の形態を表す平面図である。
【図７】前記液処理装置を組み込んだ塗布・現像装置の一例を示す斜視図である。
【図８】前記液処理装置を組み込んだ塗布・現像装置の一例を示す平面図である。
【図９】従来の液処理装置の一例を表す説明図である。
【図１０】従来の液処理装置の他の一例を表す斜視図である。
【符号の説明】
Ｗ ウエハ
２ スピンチャック
２１ 回転軸
２２ 駆動部
３ カップ
３１ 外カップ
３２ 内カップ
３１ａ 上部側カップ
３１ｂ 下部側カップ
３３ 昇降部
４１ 円板
４２ 液受け部
４３ ドレインライン
４４ リング体
４５ 頂部
４６ 隙間
４７ 洗浄ノズル
４８ ドレインライン
５ ガイドレール
５１ 洗浄ノズル
６ 供給ノズル
６１ 吐出孔
７ 制御部
８ 空気供給部

Claims (12)

1. 基板を水平に保持し、回転自在な基板保持部と、
   前記基板保持部を回転させるための回転機構と、
   前記基板保持部に保持された基板の側方を囲み、上部側が四角筒状に、また下部側が円筒状に形成されたカップと、
   前記カップの内側の一辺に沿って伸び、基板に処理液を供給するノズルと、
   このノズルを前記カップの内側の一辺に隣接する辺に沿って移動させる移動機構と、
   前記基板保持部とカップとを相対的に昇降させるための昇降手段と、
   カップの上部側が供給ノズルの吐出孔の移動領域の側方に位置するレベルとカップの下部側が基板の側方に位置するレベルとの間で基板に対するカップの高さ位置を前記昇降手段を介して制御する制御手段と、
   前記基板保持部とカップとの間を排気する排気手段と、
   前記回転機構と昇降機構とのうちの少なくとも一方の作動情報に基づいて前記排気手段を作動させる排気制御部と、を有することを特徴とする液処理装置。
2. 基板を水平に保持し、回転自在な基板保持部と、
   前記基板保持部に保持された基板の側方を囲み、上部側が四角筒状に、また下部側が円筒状に形成されたカップと、
   前記カップの内側の一辺に沿って伸び、基板に処理液を供給するノズルと、
   このノズルを前記カップの内側の一辺に隣接する辺に沿って移動させる移動機構と、
   前記基板保持部とカップとを相対的に昇降させるための昇降手段と、
   カップの上部側が供給ノズルの吐出孔の移動領域の側方に位置するレベルとカップの下部側が基板の側方に位置するレベルとの間で基板に対するカップの高さ位置を前記昇降手段を介して制御する制御手段と、を有し、
   前記カップ内には供給ノズルの待機位置が設けられ、供給ノズルが前記待機位置に位置するときに、この供給ノズルに向けて洗浄液を吐出する洗浄機構が設けられていることを特徴とする液処理装置。
3. 基板の上方には、基板表面に対して清浄な空気を供給する空気供給部が設けられ、また基板の下方には排気を行う排気口が形成されており、空気供給部からの清浄な空気は基板に向かって降下し、更にカップ内を介して前記排気口から排気されることを特徴とする請求項１又は２記載の液処理装置。
4. 供給ノズルは、カップ内にてダミーディスペンスを行うように構成されていることを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の液処理装置。
5. 基板を水平に保持し、回転自在な基板保持部と、
   前記基板保持部に保持された基板の側方を囲み、上部側が四角筒状に、また下部側が円筒状に形成されると共に、各々が一体成型された外カップと、
   前記基板保持部に保持された基板の側方に囲み、前記外カップの内側に形成された内カップと、
   前記外カップの内側の一辺に沿って伸び、基板に処理液を供給するノズルと、
   このノズルを前記外カップの内側の一辺に隣接する辺に沿って移動させる移動機構と、
   前記基板保持部と外カップとを相対的に昇降させるための昇降手段と、
   外カップの上部側が供給ノズルの吐出孔の移動領域の側方に位置するレベルと、外カップの下部側が基板の側方に位置するレベルとの間で基板に対する外カップの高さ位置を前記昇降手段を介して制御する制御手段と、を有することを特徴とする液処理装置。
6. 前記昇降手段によって前記外カップが昇降するときに、前記内カップが前記外カップの移動範囲の一部において連動して昇降するように構成されたことを特徴とする請求項５記載の液処理装置。
7. 前記外カップは、その下端円周上に一定間隔で設けられた複数のＬ字部分を有し、前記昇降手段によって前記外カップが昇降するときに、前記内カップに前記Ｌ字部分が引っ掛かることで、前記内カップと前記外カップとが共に昇降するように構成されたことを特徴とする請求項５又は６記載の液処理装置。
8. 前記外カップは上方から見たとき、円筒状をなす部分が四角筒状をなす部分の内側に位置していることを特徴とする請求項５ないし７のいずれかに記載の液処理装置。
9. 基板の上方には、基板表面に対して清浄な空気を供給する空気供給部が設けられ、また基板の下方には排気を行う排気口が形成されており、空気供給部からの清浄な空気は基板に向かって降下し、更に外カップ内を介して前記排気口から排気されることを特徴とする請求項５ないし８のいずれかに記載の液処理装置。
10. 供給ノズルは、外カップ内にてダミーディスペンスを行うように構成されていることを特徴とする請求項５ないし９のいずれかに記載の液処理装置。
11. 供給ノズルは、基板の有効領域の幅に対応する長さの処理液の供給領域を有し、基板の有効領域から外れた待機位置から移動しながら基板の有効領域全域に処理液の供給ができるように構成されたことを特徴とする請求項１ないし１０のいずれかに記載の液処置装置。
12. 処理液が供給された後、回転している基板に洗浄液を供給する洗浄液供給手段を備えたことを特徴とする請求項１ないし１１のいずれかに記載の液処理装置。

Images