JP2001126982A

JP2001126982A - 液処理装置及びその方法

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Publication number: JP2001126982A
Application number: JP2000246272A
Authority: JP
Inventors: Yuji Matsuyama; 雄二松山; Shuichi Nagamine; 秀一長峰
Original assignee: Tokyo Electron Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd
Priority date: 1999-08-17
Filing date: 2000-08-15
Publication date: 2001-05-11
Anticipated expiration: 2020-08-15
Also published as: JP3625752B2

Abstract

(57)【要約】【課題】ウエハへの処理液の供給を、ウエハの直径と
ほぼ同じ長さかまたはそれ以上の長さの供給領域を有す
る供給ノズルをスキャンして行う場合に、装置の大型化
を抑え且つ装置の外側に処理液が漏れることを防止する
液処理装置及びその方法を提供すること。【解決手段】ウエハの周囲に設けるカップの上部側を
四角筒状、下部側を円筒状とし、このカップは上方から
見たとき、円筒状をなす部分が四角筒状をなす部分の内
側に位置する形状とする。カップは昇降機構を有し、供
給ノズルのスキャン時にはカップの上部側がウエハの側
方に、洗浄液及び現像液の振り切り時にはカップの下部
側がウエハの上方レベル及び下方レベルに跨る位置とな
るように制御部により制御される。なお供給ノズルのス
キャンは、上部側カップの中に供給ノズルを位置させて
行う。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ等の
基板に対し、現像処理等の液処理を行う液処理装置及び
その方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体ウエハ（以下ウエハという）や液
晶ディスプレイのＬＣＤ基板の表面上に回路パターンを
形成するためのマスクは以下の工程により形成される。
即ち、先ずウエハ表面にフォトレジスト溶液（以下レジ
ストという）の塗布を行い、光等の照射を行う。前記レ
ジストが例えばネガ形ならば光の当たった部分が硬化
し、硬化しない部分即ちレジストの溶けやすい部分を現
像液により溶解して目的とするマスクが形成される。現
像処理装置は、半導体ウエハを吸着保持して回転させる
スピンチャックとスピンチャック上の半導体ウエハに現
像液を供給する現像液供給ノズルを備えている。従来、
上述のような現像工程で用いられる現像液供給ノズルと
しては、図９(b)に示されるウエハＷの直径方向に対応
する長さに亘って多数の吐出孔１１が配列された供給ノ
ズル１２が用いられる。

【０００３】図９(a)で、この供給ノズル１２による現
像液の吐出について以下に説明する。供給ノズル１２を
ウエハＷの中央部にて吐出孔１１がウエハＷの表面から
例えば１mm上方になるように位置させ、吐出孔１１から
現像液をウエハＷ表面の直径方向中央部に供給しつつ、
ウエハＷを１８０度回転させる。こうすることで、ウエ
ハＷの直径方向に亘って中央部から現像液が吐出されな
がらウエハＷ一円に広げられ液盛りを完了できる。同時
にウエハＷ表面全体に現像液の液膜が所定の厚さで形成
されることになる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来、線幅
の均一性を確保するために現像液を半導体ウエハ上面一
円に液盛りする工程は、液盛りされた現像液の合計貯留
時間を極力同一に近づけることが要求される。そのため
に現像液を速やかに半導体ウエハに塗布する必要がある
ため、現像液の供給圧力を高くしている。

【０００５】しかしながら、従来の現像処理方法だと現
像液供給ノズルは均一に吐出させる目的で吐出孔の径が
小さく供給圧力も高く設定してあるために吐出流速が高
くなる。そのために、半導体ウエハ表面への初期吐出時
には半導体ウエハ表面の溶解部分に与える衝撃が強くな
り、線幅の均一性が低下するおそれがある。

【０００６】また、半導体ウエハの供給ノズルに亘る中
央付近は、最初に吐出した現像液と最後に吐出した現像
液が重なる部分が出てくるために新旧の現像液が混じり
合い、より現像が進み中央付近の線幅の均一性が損なわ
れるおそれもある。

【０００７】まして、半導体ウエハを回転させながら現
像液を吐出させるために、現像液の慣性力により現像液
を液盛りした時の液面の浪打ちが発生し、現像液の混じ
り合い方も激しいところとそうでないところが発生し現
像の均一性が悪化してしまうという問題もある。

【０００８】そこで、上述したものと同様の現像液供給
ノズルを使い図１０に示すような塗布手段を用いる場合
が考えられる。図１０は、ウエハＷの周縁外側に供給ノ
ズル１２を移動させ配置し、この位置より吐出を行いな
がら反対側のウエハ周縁外側までの間をさらに移動させ
るスキャン方式である。

【０００９】しかしながら、上述方法により現像液の塗
布を行う装置はウエハＷの周囲に図示しない円筒状のカ
ップ１３を有し、その中で一連の現像処理がおこなわれ
る構造になっている。この筒状のカップ１３は、現像処
理終了後にウエハＷを回転させながら洗浄液を吐出する
場合の洗浄工程で、液飛散を抑えつつ、飛散する洗浄液
を回収するためのものである。

【００１０】従って、このような円筒状のカップ１３を
用い、図１０に示すように供給ノズル１２を初期吐出位
置から反対側ウエハＷの周縁までスキャンさせると、供
給ノズル１２の吐出開始付近と終了位置付近のウエハＷ
周縁では、筒状のカップ１３から供給ノズル１２がはみ
出すため図１０中のａの斜線領域で現像液が筒状のカッ
プ１３から外部に漏れてしまい、現像ユニットを汚して
しまう。

【００１１】また、仮に筒状カップ１３を大きくして、
ａの領域をカバーしようとしてカップを大きくしようと
すると、現像ユニットを大型化しなければならない問題
が発生する。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明に係る液処理装置
は、基板を水平に保持し、回転自在な基板保持部と、前
記基板保持部に保持された基板の側方を囲み、上部側が
四角筒状に、また下部側が円筒状に形成されたカップ
と、前記カップの内側の一辺に沿って伸び、基板に処理
液を供給するノズルと、このノズルを前記カップの内側
の一辺に隣接する辺に沿って移動させる移動機構と、前
記基板保持部とカップとを相対的に昇降させるための昇
降手段と、カップの上部側が供給ノズルの吐出孔の移動
領域の側方に位置するレベルとカップの下部側が基板の
側方に位置するレベルとの間で基板に対するカップの高
さ位置を前記昇降手段を介して制御する制御手段と、を
有することを特徴とする。

【００１３】このような装置によれば、カップの上部側
が四角筒状に形成され、その中を供給ノズルが移動する
構成となっているため、カップ外側へ処理液が漏れるこ
とがなく、またカップの占有エリアを小さくすることが
できる。

【００１４】前記カップは、例えば四角筒状部分と円筒
状部分とが一体成型され、上方から見たとき円筒状をな
す部分が四角筒状をなす部分の内側に位置するように構
成され、前記供給ノズルは、例えば基板の有効領域の幅
に対応する長さの処理液の供給領域を有し、基板の有効
領域から外れた待機位置から移動しながら基板の有効領
域全域に処理液の供給ができるように構成される。また
供給ノズルはカップ内にてダミーディスペンスを行うよ
うに構成してもよい。

【００１５】更に本発明は、処理液が供給された後、回
転している基板に洗浄液を供給する洗浄液供給手段を備
えた構成とすることができ、また基板の上方に基板表面
に対して清浄な空気を供給する空気供給部を設け、基板
の下方に排気を行う排気口を形成し、空気供給部からの
清浄な空気は基板に向かって降下し、カップ内を介して
前記排気口から排気されるようにすることもできる。更
には、基板保持部を回転させるための回転機構と、基板
保持部とカップとの間を排気する排気手段と、前記回転
機構と昇降機構とのうちの少なくとも一方の作動情報に
基づいて前記排気手段を作動させる排気制御部と、を備
えた構成としてもよい。また、カップ内に供給ノズルの
待機位置を設け、前記供給ノズルが待機位置に位置する
ときに、この供給ノズルに向けて洗浄液を吐出する洗浄
機構を設けるようにしてもよい。

【００１６】本発明の液処理方法は、回転自在な基板保
持部に基板を水平に保持し、この基板の側方を、カップ
の上部側である四角筒状部分により囲む工程と、前記カ
ップの内側の一辺に沿って伸びるノズルを前記カップの
内側の一辺に隣接する辺に沿って移動させながら基板に
処理液を供給する工程と、前記カップを前記基板保持部
に対して相対的に上昇させて前記基板の側方を、カップ
の下部側である円筒状部分により囲み、上方からの気流
の流れを安定させる工程と、を含むことを特徴とする。

【００１７】

【発明の実施の形態】図1は本発明の液処理装置を現像
装置に適用した実施の形態を示す概略図面である。２は
基板であるウエハＷの裏面中心部を真空吸着し水平に保
持する基板保持部であるスピンチャックである。スピン
チャックは、スピンモータ２４の回転軸２１に取りつけ
られおり、昇降部２２、スピンモータ保持部２３により
現像処理位置と、図示しないウエハ搬送装置との受け渡
し高さまで上下可動となっている。

【００１８】ウエハＷがスピンチャック２に吸着保持さ
れた状態において、ウエハＷの側方を囲むようにしてカ
ップ３が設けられている。カップ３は各々上下可動な外
カップ３１と内カップ３２とからなり、外カップ３１の
下端部に接続される昇降部３３により外カップが昇降
し、内カップ３２は外カップ３１の移動範囲の一部にお
いて連動して昇降するように構成されている。

【００１９】これは、外カップ３１の下端円周上に一定
間隔に設けられた複数のＬ字部分３１ｃに引っ掛かるこ
とにより、外カップ３１と内カップ３２が共に上昇する
ように構成されている。また、Ｌ字部分３１ｃ間は現像
液や洗浄液の飛散液が外カップ３１の内壁面を伝いドレ
インライン４３に流れるようになっている。

【００２０】外カップ３１は、カップ上部側３１aが四
角筒状をなしており、カップ下部側３１ｂは円筒状をな
しているものが、一体となった構造を形成したものであ
り、外カップ３１の上部側及び下部側の水平断面の形状
は、それぞれ四角形と円形となっている。即ち、この形
状によりカップ上部側３１aの四角筒状部の中に供給ノ
ズル６が、カップ上部側３１aの一辺と並行になるよう
に収容可能になっている。そして図２及び図３に示すよ
うにウエハＷの上方から見ると上部側カップ３１ａ中に
下部側カップ３１ｂが収まっている。一方、内カップ３
２は円筒の上部側が上方内側に傾斜し、上部側開口部が
下部側開口部より狭くなるように形成されており、この
上部側開口部は内カップ３２が下降位置にあるときにウ
エハＷの外縁と僅かな隙間を介してこれを囲むように位
置決めされる。

【００２１】スピンチャック２の下方側には回転軸２１
を中心にほぼ水平に設けられている円板４１と、この円
板４１の周り全周に亘って凹部が形成された液受け部４
２とが設けられており、液受け部４２の底面にはドレイ
ンライン４３が接続されている。

【００２２】円板４１の周縁部付近には断面山形のリン
グ体４４が頂部４５（上端）がウエハＷの周縁部裏面に
接近するように設けられている。リング体４４の外周と
カップ３（内カップ３２）との間には隙間４６が設けら
れており、前記頂部４５から下方外側に傾斜する斜面を
伝って例えば後述する現像液やリンス液が、この隙間４
６を通って液受け部４２側へと流れる構成となってい
る。

【００２３】また円板４１には下方側から複数の洗浄ノ
ズル４７が突入して設けられている。この洗浄ノズル４
７はウエハＷ周縁の裏面側を洗浄するために洗浄液例え
ば純水を供給するものであり、このために洗浄ノズル４
７の洗浄液供給口がウエハＷ周縁側を向くように屈曲し
て構成されている。

【００２４】更にまた円板４１には前記洗浄ノズル４７
から供給され、ウエハＷやリング体４４にあたって円板
４１側へ跳ね返った洗浄液を自然排水するためのドレイ
ンライン４８が接続されている。

【００２５】次にカップ３の外側について説明する。図
２にも示すように外カップ３１の外側には、例えば上部
側カップ３１ａの一辺と平行になるように水平に延びる
ガイドレール５が設けられている。図２で示す状態で
は、ガイドレール５の一端側には供給ノズル６が、他端
側には洗浄ノズル５１が夫々位置しており、これらノズ
ル６，５１が図示しない駆動機構によりガイドレール５
に案内されてウエハＷの上方を移動できるように構成さ
れている。この例では図示しない駆動機構及びガイドレ
ール５により、供給ノズル６を移動させる移動機構が構
成されている。

【００２６】供給ノズル６は昇降機構を有し、ウエハＷ
の直径とほぼ同じ長さに亘って配列された多数の吐出孔
６１を備えている。供給ノズル６は、供給領域が基板の
有効領域の幅（この例ではウエハＷのほぼ直径の長さ）
とほぼ同じ長さであればよいが、それよりも長くてもよ
い。つまり供給領域の長さが有効領域に処理液が行き亘
る長さであればよい。また洗浄ノズル５１も供給ノズル
６同様に昇降機構を有しており、供給ノズル６及び洗浄
ノズル５１の移動及び昇降は制御部７によりコントロー
ルされるように構成されている。この制御部７は既述の
スピンチャック２の駆動部２２及び外カップ３１の昇降
部３３とも接続されており、駆動部２２によるスピンチ
ャック２の回転及び昇降の制御、また昇降部３３による
カップ３の昇降の制御を行うと共にスピンチャック２及
びカップ３の各状況に応じて供給ノズル６や洗浄ノズル
５１を動作させることができる構成となっている。

【００２７】前記スピンチャック２やカップ３からなる
現像ユニットの上方には所定温度及び湿度に調整された
清浄な空気を下降流としてウエハＷ表面に供給しこれに
よりウエハＷにパーティクルが付着するのを抑えるため
の空気供給部８が設けられている。ここで前述のドレイ
ンライン４３は廃液管と排気管を兼用しており、前記空
気供給部８から供給される空気はウエハＷ表面に沿って
外方側に流れ、カップ３とリング体４４との間の隙間４
６を通ってドレインライン４３から排気になるように構
成される。なおドレインライン４３には図示しない例え
ばバルブ及び排気ポンプからなる排気手段が設けられて
おり、この排気手段はスピンチャック２の駆動部２２及
び昇降部３３の少なくとも一方の作動情報に基づいて制
御部７を介して作動する。例えばスピンチャック２が停
止したとき、あるいはカップ３１が上昇したとき、また
はそれらのアンド条件で例えば前記バルブが開き、排気
動作が行われる。

【００２８】次に本実施の形態における作用について図
４及び図５に基づいて説明する。先ずスピンチャック２
がカップ３の上方まで上昇し、既に前工程でレジストが
塗布され、露光処理されたウエハＷが図示しない搬送ア
ームからスピンチャック２に受け渡される（図４
(a)）。なお、このとき外カップ３１及び内カップ３２
は共に下降した状態である。

【００２９】続いて図４(b)に示すように、ウエハＷ上
面が内カップ３２上端とほぼ同じ高さになる位置までス
ピンチャック２が下降する。スピンチャック２の下降
後、供給ノズル６が外カップ３１外側の待機位置（ホー
ムポジション）からガイドレール５に沿って上部側カッ
プ３１ａとウエハＷ周縁との間に対応する位置まで案内
され、続いてその位置からウエハＷの周縁の外側位置ま
で下降する（図４(b)）。このとき供給ノズル６の位置
（高さ）はウエハＷに対して現像液の供給を行う高さに
セットされるため、吐出孔６１はウエハＷ表面レベルよ
りも例えば１ｍｍ程度高い位置に置かれる。

【００３０】しかる後供給ノズル６は図４(b)の位置か
ら現像液の吐出を行いながらスキャンを開始し、図５
(a)に示すようにウエハＷの一端側から他端側へと移動
して（図５中左から右へ移動して）ウエハＷの表面には
例えば１．２ｍｍの高さの液膜が形成され、ウエハＷの
静止現像が行われる。また、この静止現像中は、前述の
ドレインライン４３からの排気は例えば停止させる。こ
のとき供給ノズル６の移動は、当該供給ノズル６の吐出
孔６１が配列されている吐出領域の中心がウエハＷの中
心上方を通過するように、例えば１０ｃｍ／ｓｅｃのス
キャンスピードで行われる。供給ノズル６はウエハＷを
スキャンした後、図５中ウエハＷの右端側よりも外方位
置にて３１ａの上側まで上昇し、図２に示す待機位置へ
と戻る。供給ノズル６のスキャンにおいて、ウエハＷの
両端外側に吐出されてこぼれ落ちる現像液は内カップ３
２やリング体４４を伝って液受け部４２へ流れ、ドレイ
ンライン４３から排出される。

【００３１】次に、ドレインライン４３からの排気を復
帰させ、供給ノズル６と入れ替わって洗浄ノズル５１が
ガイドレール５に案内されて、ウエハＷの中央上方に吐
出部が位置するように移動する。そして外カップ３１が
上昇して下部側カップ３１ｂがウエハＷの上方側レベル
及び下方側レベルに跨った状態となり、またこのとき外
カップ３１のカギ型部分３１ｃにより内カップ３２も上
昇する（図５(b)）。次いでスピンチャック２が回転
し、洗浄ノズル５１から洗浄液例えば純水がウエハＷ中
心部に供給されてウエハＷの遠心力によりウエハＷの中
央部から周縁部へ広がり、ウエハＷ上の現像液が洗い流
される。

【００３２】一方、ウエハＷ下方側の洗浄ノズル４７か
らも洗浄液例えば純水がウエハＷの裏面周縁に向けて吐
出され、当該裏面周縁に回り込んだ現像液を洗い流して
ドレインライン４１及び４３から排出される。

【００３３】その後洗浄ノズル５１，４７からの洗浄液
の吐出を停止し、ウエハＷを回転し続けてウエハＷをス
ピン乾燥する。このとき、外カップ３１は洗浄時同様に
上昇位置のままであり、スピン乾燥終了後にウエハＷの
入れ替えのためこれを下降させ、スピンチャックが上昇
して図４(a)に示す状態へと戻る。

【００３４】このように本発明の実施の形態に係る液処
理装置によれば、外カップ３１の上部（上部側カップ３
１ａ）が四角筒状に形成され、この中に供給ノズル６を
位置させてスキャンを行っているため、外カップ３１外
側に処理液が漏れることがないし、上部側カップ３１ａ
の占有エリアが狭くて済む。

【００３５】また、本実施の形態でウエハＷへ現像液を
供給してからウエハＷの乾燥終了まで外カップ３１を上
昇位置に置いているので現像の均一性を高める効果があ
る。即ちウエハＷはいわゆるダウンフロー（清浄気体の
降下気流）の雰囲気下に置かれており、現像液をウエハ
Ｗ上に液盛りした後所定時間例えば静止させて現像を行
うが、このときウエハＷ全面には均一な温度分布を得て
均一な現像を行うために一律な気流が当ることが好まし
い。この場合ウエハＷの周囲が仮に四角筒状の上部側カ
ップ３１ａで囲まれていると、ウエハＷの周縁と下部側
カップ３１ｂの内面との間の空間（排気空間）の大きさ
が周方向の位置において異なるため、ダウンフローのは
ね返りによる乱流が発生してウエハＷ表面における気流
の不均一の程度が大きくなり、現像の均一性（パターン
の線幅の均一性）が悪くなる。これに対してウエハＷの
周囲に円筒状の下部側カップ３１ｂを位置させれば、前
記排気空間の大きさが一律になるため、ウエハＷ表面に
おける気流が均一になり、現像ムラを抑えることができ
る。

【００３６】上述のことから、ウエハＷの側方を囲む外
カップ３１を上部側と下部側とで異なる形状を有する一
体成型物とし、これをウエハＷへの処理液供給時及び洗
浄・乾燥時に応じて適当な形状のカップがウエハＷの側
方に位置するように制御しているため、従来装置よりス
ペースを大きくとることなしに四角筒状カップと円筒状
カップとの夫々の利点を兼ね備えた運用を可能としてい
る。

【００３７】また本実施の形態は、例えば図６に示すよ
うに、外カップ３１内に供給ノズル６の待機位置（ホー
ムポジション）１６１と、洗浄ノズル５１の待機位置
（ホームポジション）１５１とを設ける構成としてもよ
い。ここでいう待機位置とは、現像液の供給を行わない
ときに待機している位置であって動作のスタートポイン
トである。これら待機位置１６１及び１５１には、供給
ノズル６及び洗浄ノズル５１に向けて洗浄液を吐出し、
例えば夫々の液吐出部位の洗浄を行うための洗浄液吐出
ノズル１６２及び１５２が設けられており、また供給ノ
ズル６は、待機位置１６１の近くでダミーディスペンス
を行うようになっている。このような構成とすること
で、例えばカップの外側のバスでノズル洗浄やダミーデ
ィスペンスを行う装置に比べて、部品点数の削減及び装
置の小型化を図ることができる。

【００３８】なお本実施の形態に係る液処理装置は、現
像処理に限らずレジストの塗布処理に適用してもよい。

【００３９】次に上述の現像装置をユニットに組み込ん
だ塗布・現像装置の一例の概略について図７及び図８を
参照しながら説明する。図７及び図８中、９はウエハカ
セットを搬入出するための搬入出ステージであり、例え
ば２５枚収納されたカセットＣが例えば自動搬送ロボッ
トにより載置される。搬入出ステージ９に臨む領域には
ウエハＷの受け渡しアーム９０がＸ，Ｙ方向およびθ回
転（鉛直軸回りの回転）自在に設けられている。更にこ
の受け渡しアーム９０の奥側には、例えば搬入出ステー
ジ９から奥を見て例えば右側には塗布・現像系のユニッ
トｕ１が、左側、手前側、奥側には加熱・冷却系のユニ
ットｕ２，ｕ３，ｕ４が夫々配置されていると共に、塗
布・現像系ユニットと加熱・冷却系ユニットとの間でウ
エハＷの受け渡しを行うための、例えば昇降自在、左
右、前後に移動自在かつ鉛直軸まわりに回転自在に構成
されたウエハ搬送アームＭＡが設けられている。但し図
７では便宜上ユニットｕ２及びウエハ搬送アームＭＡは
描いていない。

【００４０】塗布・現像系のユニットにおいては、例え
ば上段に２個の上述の現像装置を備えた供えた現像ユニ
ット９１が、下段に２個の塗布ユニット９２が設けられ
ている。加熱・冷却系のユニットにおいては、加熱ユニ
ットや冷却ユニット、疎水化処理ユニット等が上下にあ
る。

【００４１】塗布・現像系ユニットや加熱・冷却系ユニ
ットを含む上述の部分をクリーントラックと呼ぶことに
すると、このクリーントラックの奥側にはインターフェ
イスユニット１００を介して露光装置１０１が接続され
ている。インターフェイスユニット１００は例えば昇降
自在、左右、前後に移動自在かつ鉛直軸まわりに回転自
在に構成されたウエハ搬送アーム１０２によりクリーン
トラックと露光装置１０１の間でウエハＷの受け渡しを
行うものである。

【００４２】この装置のウエハの流れについて説明する
と、先ず外部からウエハＷが収納されたウエハカセット
Ｃが前記搬入出ステージ９に搬入され、ウエハ搬送アー
ム９０によりカセットＣ内からウエハＷが取り出され、
既述の加熱・冷却ユニットｕ３の棚の一つである受け渡
し台を介してウエハ搬送アームＭＡに受け渡される。次
いでユニットｕ３の一の棚の処理部内にて疎水化処理が
行われた後、塗布ユニット９２にてレジスト液が塗布さ
れ、レジスト膜が形成される。レジスト膜が塗布された
ウエハＷは加熱ユニットで加熱された後インターフェイ
スユニット１００を介して露光装置１０１に送られ、こ
こでパターンに対応するマスクを介して露光が行われ
る。

【００４３】その後ウエハＷは加熱ユニットで加熱され
た後、冷却ユニットで冷却され、続いて現像ユニット９
１に送られて現像処理され、レジストマスクが形成され
る。しかる後ウエハＷは搬入出ステージ９上のカセット
Ｃ内に戻される。

【００４４】

【発明の効果】以上説明したように、種々の液膜塗布方
法が利用できる本発明は、処理装置を大型化せずに可能
であり、例えば高い線幅均一性を得るための最適な方法
が選択できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る液処理装置の実施の形態を表す断
面図である。

【図２】本発明に係る液処理装置の実施の形態を表す平
面図である。

【図３】前記液処理装置における供給ノズルの作用を表
す斜視図である。

【図４】前記液処理装置の作用を表す工程図である。

【図５】前記液処理装置の作用を表す工程図である。

【図６】本発明に係る液処理装置の他の実施の形態を表
す平面図である。

【図７】前記液処理装置を組み込んだ塗布・現像装置の
一例を示す斜視図である。

【図８】前記液処理装置を組み込んだ塗布・現像装置の
一例を示す平面図である。

【図９】従来の液処理装置の一例を表す説明図である。

【図１０】従来の液処理装置の他の一例を表す斜視図で
ある。

【符号の説明】

Ｗウエハ２スピンチャック２１回転軸２２駆動部３カップ３１外カップ３２内カップ３１ａ上部側カップ３１ｂ下部側カップ３３昇降部４１円板４２液受け部４３ドレインライン４４リング体４５頂部４６隙間４７洗浄ノズル４８ドレインライン５ガイドレール５１洗浄ノズル６供給ノズル６１吐出孔７制御部８空気供給部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ０３Ｆ 7/30 ５０２Ｈ０１Ｌ 21/30 ５６９Ｃ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板を水平に保持し、回転自在な基板保
持部と、前記基板保持部に保持された基板の側方を囲み、上部側
が四角筒状に、また下部側が円筒状に形成されたカップ
と、前記カップの内側の一辺に沿って伸び、基板に処理液を
供給するノズルと、このノズルを前記カップの内側の一辺に隣接する辺に沿
って移動させる移動機構と、前記基板保持部とカップとを相対的に昇降させるための
昇降手段と、カップの上部側が供給ノズルの吐出孔の移動領域の側方
に位置するレベルとカップの下部側が基板の側方に位置
するレベルとの間で基板に対するカップの高さ位置を前
記昇降手段を介して制御する制御手段と、を有すること
を特徴とする液処理装置。
【請求項２】カップは上方から見たとき、円筒状をな
す部分が四角筒状をなす部分の内側に位置していること
を特徴とする請求項１記載の液処理装置。
【請求項３】供給ノズルは、基板の有効領域の幅に対
応する長さの処理液の供給領域を有し、基板の有効領域
から外れた待機位置から移動しながら基板の有効領域全
域に処理液の供給ができるように構成されたことを特徴
とする請求項１または２記載の液処置装置。
【請求項４】処理液が供給された後、回転している基
板に洗浄液を供給する洗浄液供給手段を備えたことを特
徴とする請求項１，２または３記載の液処理装置。
【請求項５】基板の上方には、基板表面に対して清浄
な空気を供給する空気供給部が設けられ、また基板の下
方には排気を行う排気口が形成されており、空気供給部
からの清浄な空気は基板に向かって降下し、更にカップ
内を介して前記排気口から排気されることを特徴とする
請求項１ないし４のいずれかに記載の液処理装置。
【請求項６】基板保持部を回転させるための回転機構
と、基板保持部とカップとの間を排気する排気手段と、
前記回転機構と昇降機構とのうちの少なくとも一方の作
動情報に基づいて前記排気手段を作動させる排気制御部
と、を備えたことを特徴とする請求項１ないし５のいず
れかに記載の液処理装置。
【請求項７】カップの四角筒状部分と円筒状部分は一
体成型されていることを特徴とする請求項１ないし６の
いずれかに記載の液処理装置。
【請求項８】カップ内には供給ノズルの待機位置が設
けられていることを特徴とする請求項１ないし７のいず
れかに記載の液処理装置。
【請求項９】供給ノズルが待機位置に位置するとき
に、この供給ノズルに向けて洗浄液を吐出する洗浄機構
が設けられていることを特徴とする請求項８記載の液処
理装置。
【請求項１０】供給ノズルは、カップ内にてダミーデ
ィスペンスを行うように構成されていることを特徴とす
る請求項１ないし９のいずれかに記載の液処理装置。
【請求項１１】回転自在な基板保持部に基板を水平に
保持し、この基板の側方を、カップの上部側である四角
筒状部分により囲む工程と、前記カップの内側の一辺に沿って伸びるノズルを前記カ
ップの内側の一辺に隣接する辺に沿って移動させながら
基板に処理液を供給する工程と、前記カップを前記基板保持部に対して相対的に上昇させ
て前記基板の側方を、カップの下部側である円筒状部分
により囲み、上方からの気流の流れを安定させる工程
と、を含むことを特徴とする液処理方法。
【請求項１２】ノズルの最初の液吐出開始位置は基板
周縁の外側であることを特徴とする請求項１１記載の液
処理方法。