JP2635476B2 - 塗布装置及び塗布方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、被塗布材を処理容器内
に収納し、被塗布材を回転させながらその表面に塗布材
を塗布し、かつ、被塗布材の裏面洗浄が可能な塗布装置
及び塗布方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】この種の塗布装置として、例えば半導体
製造装置に於いてウエハ上にレジストを塗布する塗布装
置を挙げることができる。ウエハ上にレジストを塗布す
る場合、処理容器の内部に配置した回転可能なスピンヘ
ッド上にウエハを載置固定し、ウエハを回転させながら
レジスト液をウエハ表面に供給してレジスト塗布処理を
行っている（特公昭53-37189) 。

【０００３】また、このレジスト塗布時にウエハの裏面
にレジスト液等が付着するので、この付着物が後段の搬
送系に触れる前にこれを塗布装置内で除去する必要があ
り、このためにウエハの裏面側を洗浄するための洗浄ノ
ズルを配置している。そして、レジスト塗布後に、ウエ
ハを回転しながら前記洗浄ノズルよりウエハの裏面に向
かって洗浄液を吐出し、ウエハの裏面洗浄を行うように
なっている。

【０００４】ここで、従来の塗布装置では、前記洗浄ノ
ズルは前記処理容器を構成するカップに支持されるよう
になっていて、このカップはレジスト液が外部に飛散す
ることを防止するために、ウエハ支持部の周囲に配置さ
れている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上述した従来装置によ
れば、ウエハの裏面洗浄用ノズルが、カップに支持され
た構成であるので、下記に示すような問題があった。

【０００６】すなわち、このカップはレジスト液に汚染
されるので定期的な洗浄を要し、カップ取り外しの際に
は洗浄ノズルをカップより取り外す必要があり、そのメ
インテナンス作業が煩雑であった。

【０００７】また、この種のカップは、塗布装置にウエ
ハを搬入出する際の支障とならないように、上下動可能
なものもあり、この上下動を伴うカップの場合には、前
記洗浄ノズルも上下動することになるので、洗浄ノズル
とウエハの裏面との相対位置関係が変化する恐れがあ
り、従って裏面洗浄を確実に行えない場合もあり、これ
を防止するには洗浄ノズルの位置を修正する必要があり
信頼性が低かった。

【０００８】そこで、本発明の目的とするところは、上
述した従来の問題点を解決し、処理容器等のメインテナ
ンス作業が容易であって、かつ、処理容器が上下動する
ものであっても、被塗布材の裏面と洗浄ノズルとの相対
位置関係が変化せずに常時確実な洗浄を実行することが
できる塗布装置及び塗布方法を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明に
係る塗布装置は、回転可能なチャックに被塗布材の裏面
を支持して液飛散防止カップ内に配置し、この被塗布材
の表面に塗布材を滴下し、被塗布材を回転することによ
り塗布材を塗布する塗布装置において、前記液飛散防止
カップは、前記被塗布材の裏面の該被塗布材の周縁より
内方側にて、前記被塗布材の周方向に連続して形成され
る円周状の第１の壁を有し、被塗布材の裏面と対向する
位置であってかつ前記第１の壁に囲まれた位置に、前記
塗布材が表面にほぼ均一に塗布された前記被塗布材の裏
面の周縁部方向に向けて洗浄液を吐出して洗浄する裏面
洗浄ノズルを設けたことを特徴とする。請求項２に記載
の発明に係る塗布装置は、請求項１において、前記裏面
洗浄ノズルは、その周囲に中空のドレイン管が同心に配
設されることを特徴とする。請求項３に記載の発明に係
る塗布装置は、請求項１又は２において、前記チャック
は、前記被塗布材の載置面側の外径よりも基端側の外径
が小さい逆テーパ状に形成されていることを特徴とす
る。請求項４に記載の発明に係る塗布装置は、請求項１
又は２において、前記裏面洗浄ノズルが、複数本設けら
れ、前記被塗布材の周方向の異なる位置に各々配置され
ることを特徴とする。請求項５に記載の発明に係る塗布
方法は、被塗布材の表面に塗布材を滴下し、被塗布材を
回転することにより塗布材をほぼ均一に塗布する工程
と、前記塗布工程後に、前記被塗布材の裏面に向けて裏
面洗浄ノズルより洗浄液を吐出し、前記被塗布材の裏面
を洗浄する工程と、を含むことを特徴とする。請求項６
に記載の発明に係る塗布方法は、被塗布材の表面に塗布
材を滴下し、被塗布材を第１の回転速度にて回転させる
工程と、前記被塗布材を前記第１の回転速度より速い第
２の回転速度にて回転させ、塗布材をほぼ均一に塗布す
る工程と、前記被塗布材を前記第２の回転速度より遅い
第３の回転速度にて回転させると共に、前記被塗布材の
裏面を洗浄液にて洗浄する工程と、を含むことを特徴と
する。

【００１０】

【作用】請求項１に記載の発明によれば、以下に示す作
用・効果を有する。 （イ）被塗布材の表面に塗布材をほぼ均一に塗布した後
に、被塗布材の裏面を洗浄する際には、裏面洗浄ノズル
にて被塗布材の特に裏面端縁領域を良好に洗浄できる。 （ロ）第１の壁を形成することで、被塗布材の裏面端縁
に付着した塗布材を裏面洗浄する際に、洗浄によって取
り除かれた塗布材を含む洗浄液が飛散して、被塗布材裏
面及び裏面洗浄ノズル自体に再付着するのを防止でき
る。これにより、裏面洗浄時に汚い液を含む洗浄液を被
塗布材裏面に付着させずに済み、洗浄効率が向上する。
加えて、塗布材塗布時に液飛散防止カップの内面より跳
ね返る塗布材が、被塗布材裏面へ再付着すること、塗布
材塗布時に裏面洗浄ノズルに塗布材が付着すること、を
も防止できる。また、裏面洗浄ノズルを設けているの
で、被塗布材の表面に塗布材を塗布した後に、被処理体
の裏面にて洗浄液を吐出すればよく、従来のように塗布
装置の液飛散防止カップの取り外しを行って裏面洗浄ノ
ズルを一旦取り外すという作業を要することがなく、液
飛散防止カップの洗浄等のメインテナンス作業が簡易化
される。

【００１１】さらに、液飛散防止カップが上下動するタ
イプの塗布装置にあっては、上記上下動によっても被塗
布材と裏面洗浄ノズルとの相対的位置関係が変化しない
ので、常時確実な洗浄効果を確保することができる。請
求項２に記載の発明によれば、裏面洗浄ノズルより洗浄
液を吐出する際にあっては、重力方向と逆らった方向に
吐出することになるので、吐出開始時及び吐出終了時の
ように吐出圧が所定値以下となった場合には、ドレイン
管により、裏面洗浄ノズルの先端側より即座に下方へ落
下する洗浄液を排出させることができる。 請求項３に記
載の発明によれば、チャックの形状が逆テーパ状である
ので、裏面洗浄ノズルより吐出された洗浄液がチャック
の表面に飛散したとしても、このテーパ面に沿って洗浄
液を外方に拡散できる。 請求項４に記載の発明によれ
ば、裏面洗浄ノズルを複数本にて形成し、かつ、異なる
位置に各々形成することで、被塗布材裏面での洗浄効果
を高めることができ、短時間での良好な洗浄が可能とな
る。 請求項５に記載の発明によれば、以下の作用・効果
を有する。 （ハ）被塗布材の表面を塗布材にて塗布する工程の後
に、被塗布材裏面の洗浄工程を行うことで、被塗布材の
表面に塗布材をほぼ均一に塗布することができると共
に、裏面洗浄をも良好に行うことができ、品質が向上す
る。 すなわち、表面塗布工程と裏面洗浄工程を同時に行
うと、被塗布材の端縁に回転渦流が発生し、被塗布材の
表面端縁側で膜厚をほぼ均一に形成できず、加えて端縁
に付着した塗布材を取り除くのが困難であるが、請求項
５では、ほぼ均一に塗布材による膜厚を形成した後に洗
浄を行うので、端縁においても膜厚をほぼ均一に形成
し、端縁に付着する塗布材を良好に除去することができ
る。 また、上記各工程を同時に行うと、洗浄液中の水分
が液拡散防止カップ内に拡散し、塗布材雰囲気中の湿度
・温度が変化し、かつ水分が塗布材に混合して塗布材の
濃度・粘度も変化し、膜厚が変化してしまうが、請求項
５では、ほぼ均一な膜厚を形成した後に洗浄を行うの
で、膜厚の変化を防止して、被塗布材の品質を向上させ
ることができる。 さらに、各工程を同時に行うと、塗布
材が乾燥する前に液拡散防止カップ内に存在するミスト
が、塗布材表面にて局所的に付着するが、請求項５で
は、均一に膜が形成された後、すなわち十分乾燥した
後、に塗布材が塗布された被塗布材の裏面洗浄を行うの
で、この点においても、被塗布材の晶質を向上させるこ
とができる。 請求項６に記載の発明によれば、以下の作
用・効果を有する。 （ニ）第１の回転速度にて塗布材を塗布することで、被
塗布材表面の端縁領域まで塗布材をくまなく行き渡ら
せ、加えて、第１の回転速度にて塗布材を塗布された被
塗布材を第２の回転速度にまで上げることで、前記表面
に塗布された塗布材を乾燥させることができ、ほぼ均一
な膜厚を形成できる。さらに、ほぼ均一に膜厚を形成し
た後に被塗布材の裏面を洗浄するので、塗布動作によっ
て汚染された被塗布材の裏面を確実に洗浄できる。ここ
で、一般に洗浄液の粘性は塗布材の粘性よりも低いの
で、洗浄時は、塗布材塗布時よりも低い回転速度で被塗
布材を回転できると共に、この低い回転速度で十分に洗
浄液を拡散できる。

【００１２】

【実施例】以下、本発明を半導体ウエハのレジスト塗布
装置に適用した一実施例について、図面を参照して具体
的に説明する。

【００１３】スピンチャック１０は、たとえば真空吸着
によって半導体ウエハ１を載置固定し、これを回転でき
るものであり、このスピンチャック１０は、モータ２０
の出力軸に固定され、回転駆動されるようになってい
る。モータ２０は、加速性に優れた高性能モータで構成
され、その上側にフランジ２１を有し、このフランジ２
１によって塗布装置内の適宜位置に固定されている。な
お、このフランジ２１は、図示しない温調機によって温
度調整が可能であって、モータ２０の発熱を上側に伝達
しないように構成することもできる。

【００１４】前記チャック１０に支持されるウエハ１の
上方には、ウエハ１のほぼ中心位置よりレジスト液を滴
下するレジストノズル３０が設けられ、このレジストノ
ズル３０はスキャナー３１によって移動自在となってい
る。たとえばロットの切れ目等でノズル３０からのディ
スペンスが所定時間実行されない場合には、ノズル３０
先端でレジスト液が長時間空気と接触されることにより
固まってしまうことがあるので、ダミーディスペンスを
実行する必要があり、この場合にはノズル３０をチャッ
ク１０より外した位置まで退避させる必要があるので、
この種の移動を前記スキャナー３１によって実行するよ
うになっている。

【００１５】また、このレジストノズル３０へのレジス
ト液の供給系として、レジスト液収容部３２，ベローズ
ポンプ３３及びこのベローズポンプ３３と連動して開閉
されるバルブＶ１，サックバックバルブＶ２等が設けら
れている。なお、前記サックバックバルブＶ２は、レジ
ストノズル３０からのレジスト液吐出後、レジストノズ
ル３０先端部で表面張力によって露出しているレジスト
液をレジストノズル３０内に引き戻すためのバルブであ
り、レジスト液の固化を防止するためのものである。

【００１６】また、レジスト液塗布時にレジスト液が装
置外部へ飛散することを防止するために、液飛散防止カ
ップ４０がウエハ１の周囲に形成されている。なお、こ
のカップ４０は、上下動可能であって、レジスト液塗布
時には図１の位置まで上昇されて停止し、ウエハ１の搬
入出時には上記位置よりも下降するように構成されてい
る。なお、このカップ４０の下面には、図示しないドレ
イン管及び排気管が接続されている。

【００１７】ここで、本実施例の特徴的構成として、ウ
エハ１の裏面を洗浄するための洗浄ノズル５０は、ウエ
ハ１の裏面と対向する位置に固定された固定ベースの一
例として、前記モータ２０の取り付け用のフランジ２１
に固定されている。この洗浄ノズル５０は、少なくとも
チャック１０を外れた位置に固定される必要がある。そ
して、この洗浄ノズル５０に洗浄液たとえば溶剤を供給
するための溶剤収容部５１が設けられ、洗浄ノズル５０
を介してウエハ１の裏面に溶剤を吐出可能となってい
る。また、この洗浄ノズル５０先端側は、図２に示すよ
うにその切り口がウエハ１の端側を向くように傾斜さ
れ、ウエハ１の裏面はもちろんのことその端面をも洗浄
可能としている。また、本実施例のスピンチャック１０
は、図１に示すように、ウエハ１を吸着する吸着面側の
外径よりも、フランジ２１に近い基端側の外径が小さ
く、逆テーパ状となっている。これは、洗浄ノズル５０
からの洗浄液がテーパ面に沿って半径方向外方に拡散し
易くするためのもので、円筒形状等とした場合のように
液だまりが生ずることを防止している。

【００１８】また、液飛散防止カップ４０の底形状は下
記の通りである。すなわち、図１に示すように、カップ
４０は、その底部中心側の前記フランジ２１を囲むよう
に起立した第１の壁４２と、この第１の壁４２の上端を
外方向に折り曲げた第２の壁４４とを有する。

【００１９】また、この洗浄ノズル５０の周囲には、図
２に示すように中空の管が同心で配置され、この中空管
を洗浄液のドレイン管５２としている。

【００２０】なお、この塗布装置へのウエハ１の搬送系
として、図２に示すように塗布装置の上方にはベルト方
式等によって対向距離間を可変でき、かつ、上下動可能
なウエハチャック６０，６０が設けられている。

【００２１】次に、作用について説明する。

【００２２】先ず、ウエハ１のトランスファーメカニズ
ムを駆動する前に、チャック１０へのバキュームをＯ
Ｎ，ＯＦＦし、チャック１０上にウエハ１が存在してい
ないことをバキュームセンサの出力によって検知する。
ウエハ１の不存在が確認されたら、ウエハ１を塗布装置
に搬入するためのベルト（図示せず）を駆動して搬送
し、前記ウエハチャック６０，６０を内側に移動するこ
とでウエハ１をセンタリングして挟持し、その後、ウエ
ハチャック６０，６０を下降させてスピンチャック１０
上にウエハ１を載置する。なお、この状態では、ウエハ
１の搬入に支障とならないように、カップ４０は図１の
位置よりも下降して待機している。

【００２３】次に、スピンチャック１０のバキューム系
を駆動して、スピンチャック１０上でウエハ１を真空吸
着することで固定する。

【００２４】その後、前記カップ４０を上昇させて図１
に示す位置で停止する。

【００２５】以上のような搬送駆動は、レジスト塗布装
置のＣＰＵの指令に基づき、予め組み込まれた搬送プロ
グラムに従って実行される。この搬送駆動の終了後に、
ユーザによって組み込まれた独自プログラムをレシピ
（Ｒｅｃｉｐｅ）コントローラによって実行すること
で、レジスト塗布動作が開始される。すなわち、モータ
２０の駆動によってスピンチャック１０上のウエハ１を
１０００ｒｐｍ程度に回転させた状態で、バルブＶ１，
Ｖ２をオープンとし、ベローズポンプ３３を駆動するこ
とにより、ウエハ１のほぼ中心に位置する上方位置に設
定されているレジストノズル３０より所定量のレジスト
液をウエハ１の表面に滴下する。その後、ウエハ１の回
転数を４０００ｒｐｍ程度まで上げて回転し、遠心力に
よってウエハ１の表面に均一にレジスト液を塗布するこ
とになる。この際、予めウエハ１はウエハチャック６
０，６０によりセンタリングしてスピンチャック１０上
に支持されているので、ウエハ１の中心に正確にレジス
ト液を滴下することができ、均一な成膜を実現できる。

【００２６】この際、ウエハ１の端部より飛散したレジ
スト液は、カップ４０によって底部に導かれ、図示しな
いドレイン管より排出されることになる。

【００２７】上記のレジスト塗布動作の終了後、上記動
作によって汚染されたウエハ１の裏面洗浄を開始する。
この裏面洗浄は、洗浄ノズル５０より洗浄剤たとえば溶
剤を吐出し、かつ、ウエハ１をモータ２０によってスピ
ンコート時よりも低い回転数たとえば２０００ｒｐｍ程
度の回転数で回転しつつ実行する。一般に、洗浄液の粘
性はレジスト液よりも低いので、この程度の回転速度で
十分に洗浄液を拡散できる。このとき、スピンチャック
１０の形状が逆テーパ状であるので、洗浄ノズル５０よ
り吐出された洗浄液がスピンチャック１０の表面に飛散
したとしても、このテーパ面に沿って洗浄液を半径方向
外方に拡散できる。

【００２８】ここで、洗浄ノズル５０は、モータ２０の
取り付け用のフランジ２１に固定されているので、一度
ウエハ１との相対的位置関係を調整すれば、以降はこの
位置関係が不変であるので、常時確実な洗浄効果を確保
することができる。また、この洗浄ノズル５０より溶剤
を吐出する際にあっては、重力方向と逆らった方向に吐
出することになるので、吐出開始時及び吐出終了時のよ
うに吐出圧が所定値以下となった場合には、ノズル５０
の先端側より即座にその下方に落下する恐れがある。こ
れを放置するとすれば、モータ２０内に浸透してリーク
させる恐れがあるので、本実施例ではノズル５０周囲に
ドレイン管５２を配置し、この落下した洗浄剤を排出可
能としている。

【００２９】なお、本実施例では、洗浄ノズル５０の先
端部がウエハ１の端部に向くようにその切り口が傾斜さ
れているので、所定の回転数でウエハ１を回転すること
で、ウエハ１の裏面ばかりか、その端面をも洗浄するこ
とができる。

【００３０】ここで、本実施例ではレジスト液の塗布あ
るいは洗浄液による洗浄時に、一旦カップ４０の内面に
向けて飛散したレジスト液又は洗浄液が、ウエハ１の裏
面に再付着することを防止できる。すなわち、カップ４
０は、その底部と共に第１，第２の壁４２，４４とでコ
字型に形成され、底側からの液の跳ね返りを第２の壁４
４により阻止し、ウエハ１の裏面への再付着を防止でき
る。

【００３１】上述したウエハ１の裏面洗浄の終了後は、
カップ４０を図１の位置よりも下方に下降させ、次にス
ピンチャック１０のバキュームをＯＦＦした後に、前記
ウエハチャック６０，６０によってウエハ１を挟持して
ウエハ１の搬出を実行する。

【００３２】以上の動作により、一枚のウエハ１に対す
るレジスト塗布動作の一サイクルが終了し、以降これを
繰り返して実行することになる。

【００３３】ここで、この種のレジスト塗布装置では、
カップ４０等が汚染されるため、これを装置より取り外
して定期的に洗浄等するメインテナンスが不可欠であ
り、この場合従来はカップ４０に洗浄ノズルが支持され
ている構成であったので、カップ４０の取り外しの際に
は洗浄ノズルをも取り外す必要があり、この作業が煩雑
であり、作業時間もかかって作業者の負担が大きかっ
た。

【００３４】本実施例では、固定ベースであるモータ２
０のフランジ２１に洗浄ノズル５０を支持しているの
で、カップ４０の取り外しに際して何等の支障がなく、
上記メインテナンス作業が簡易化される効果もある。

【００３５】以上、本発明の一実施例について説明した
が、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、本
発明の要旨の範囲内で種々の変形実施が可能である。

【００３６】たとえば、裏面洗浄用のノズル５０を、ウ
エハ１の裏面と対向する位置に固定された固定ベース上
に支持する構成としては、上記実施例のようにモータ２
０のフランジ２１に支持するものに限らず、固定ベース
であってチャックに支持された被塗布材との相対的位置
関係が不変となる部材であれば、上記実施例と同様な効
果を得ることができる。

【００３７】また、上述した洗浄ノズルは、固定ベース
上に１本のみ支持するものに限らず、複数本取り付ける
ものであっても良い。

【００３８】また、洗浄ノズル５０と同心で構成したド
レイン管５２は必ずしも設ける必要はなく、モータ２０
に洗浄液が浸透しない他の構成を採用することもでき
る。

【００３９】また、塗布装置を構成する各種部材につい
ては、上記実施例に掲げたもののに限らず、スピンチャ
ックがモータと共に上下動するタイプなど、種々の方式
を採用することができる。

【００４０】さらに、本発明が適用される塗布装置とし
ては、必ずしも半導体ウエハへのレジスト塗布に限ら
ず、マスクへのレジスト塗布等種々の塗布装置に適用可
能である。

【００４１】

【発明の効果】請求項１の発明によれば、被塗布材の表
面に塗布材をほぼ均一に塗布した後に、被塗布材の裏面
を洗浄する際には、裏面洗浄ノズルにて被塗布材の裏面
端縁領域を良好に洗浄できる。しかも、第１の壁によ
り、裏面洗浄ノズルに塗布材が付着するのを防止でき、
純度の高い洗浄液にて裏面洗浄でき、洗浄効率がアップ
する。また、被塗布材裏面にて塗布材雰囲気を遮断でき
る。さらに、裏面洗浄ノズルを設けているので、被塗布
材の表面に塗布材を塗布した後に、被処理体の裏面にて
溶剤を吐出すればよく、従来のようにカップ等の取り外
しを行って裏面洗浄ノズルを一旦取り外すという作業を
要することがなく、処理容器の洗浄等のメインテナンス
作業が簡易化される。

【００４２】さらにまた、カップが上下動するタイプの
塗布装置にあっては、この上下動によっても被塗布材と
裏面洗浄ノズルとの相対的位置関係が変化しないので、
常時確実な洗浄効果を確保することができる。しかも、
塗布材による塗布時に、一旦液飛散防止カップの内面に
向けて飛散して底側から跳ね返った塗布材が、被塗布材
の裏面への再付着を阻止でき、塗布した後に裏面を洗浄
するので、塗布動作によって汚染された被塗布材の裏面
を確実に洗浄できる。請求項２の発明によれば、吐出開
始及び終了時のように吐出圧が低い場合に、ドレイン管
により、下方へ落下する洗浄液を排出させることができ
る。 請求項３に記載の発明によれば、裏面洗浄ノズルよ
り吐出された洗浄液がチャックの表面に飛散したとして
も、テーパ面に沿って洗浄液を外方に拡散できる。 請求
項４に記載の発明によれば、被塗布材裏面での洗浄効果
を高めることができ、短時間での良好な洗浄が可能とな
る。 請求項５に記載の発明によれば、被塗布材の表面を
塗布材にて塗布する工程の後に、被塗布材裏面の洗浄工
程を行うことで、被塗布材の表面に塗布材をほぼ均一に
塗布することができ、端縁においても膜厚をほぼ均一に
形成することができる。また、処理時の膜厚の変化を防
止して、被塗布材の晶質を向上させることができる。 請
求項６に記載の発明によれば、第２の回転速度にまで上
げて回転させることで、塗布材を乾燥させることがで
き、ほぼ均一な膜厚を形成できる。さらに、ほぼ均一に
膜厚を形成した後に被塗布材の裏面を洗浄するので、塗
布動作によって汚染された被塗布材の裏面を確実に洗浄
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を半導体ウエハのレジスト塗布装置に適
用した一実施例を説明するための概略説明図

【図２】図１の塗布装置を上方より見た概略斜視図であ
る。

【符号の説明】

１ 被塗布材 １０ チャック ２０ モータ ２１ フランジ ３０ レジストノズル ４０ 処理容器 ５０ 洗浄ノズル ５１ ドレイン管

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 回転可能なチャックに被塗布材の裏面を
   支持して液飛散防止カップ内に配置し、この被塗布材の
   表面に塗布材を滴下し、被塗布材を回転することにより
   塗布材を塗布する塗布装置において、 前記液飛散防止カップは、前記被塗布材の裏面の該被塗
   布材の周縁より内方側にて、前記被塗布材の周方向に連
   続して形成される円周状の第１の壁を有し、 被塗布材の裏面と対向する位置であってかつ前記第１の
   壁に囲まれた位置に、前記塗布材が表面にほぼ均一に塗
   布された前記被塗布材の裏面の周縁部方向に向けて洗浄
   液を吐出して洗浄する裏面洗浄ノズルを設けたことを特
   徴とする塗布装置。
2. 【請求項２】 請求項１において、 前記裏面洗浄ノズルは、その周囲に中空のドレイン管が
   同心に配設されることを特徴とする塗布装置。
3. 【請求項３】 請求項１又は２において、 前記チャックは、前記被塗布材の載置面側の外径よりも
   基端側の外径が小さい逆テーパ状に形成されていること
   を特徴とする塗布装置。
4. 【請求項４】 請求項１又は２において、 前記裏面洗浄ノズルが、複数本設けられ、前記被塗布材
   の周方向の異なる位置に各々配置されることを特徴とす
   る塗布装置。
5. 【請求項５】 被塗布材の表面に塗布材を滴下し、被塗
   布材を回転することにより塗布材をほぼ均一に塗布する
   工程と、 前記塗布工程後に、前記被塗布材の裏面に向けて裏面洗
   浄ノズルより洗浄液を吐出し、前記被塗布材の裏面を洗
   浄する工程と、 を含むことを特徴とする塗布方法。
6. 【請求項６】 被塗布材の表面に塗布材を滴下し、被塗
   布材を第１の回転速度にて回転させる工程と、 前記被塗布材を前記第１の回転速度より速い第２の回転
   速度にて回転させ、塗布材をほぼ均一に塗布する工程
   と、 前記被塗布材を前記第２の回転速度より遅い第３の回転
   速度にて回転させると共に、前記被塗布材の裏面を洗浄
   液にて洗浄する工程と、 を含むことを特徴とする塗布方法。