JP6287750B2 - 基板液処理装置 - Google Patents

Description

本発明は、基板に処理液を供給して処理する基板液処理装置に関する。

基板である半導体ウエハ（以下、ウエハという）に対して各種の処理液を供給して液処理を行う枚葉式の処理ユニット（基板液処理装置）では、回転するウエハの表面にアルカリ性や酸性の薬液を供給し、ウエハ表面のごみや自然酸化物などを除去している。その後、ウエハの表面にリンス液を供給し、ウエハ表面に残存する薬液を洗い流す。そして、ウエハを回転させたままリンス液の供給を止めると、残ったリンス液が振り切られて乾燥したウエハが得られる。

この処理ユニットにおいて、回転するウエハの周囲には、遠心力の作用によりウエハから飛散した処理液を受け止めて、処理液の排液口へ案内する回収カップが設けられる。

例えば特許文献１には、スピンチャックに保持された基板の周囲を取り囲むようにポットを設け、このポットの内側に複数の環状仕切を入れ子状に配置し、これらの環状仕切を上下に移動させることにより、ポットや環状仕切の間に、処理液を回収する複数の環状流路を切り替え可能に構成した処理ユニットが記載されている。特許文献１に記載のポットや環状仕切は、上述の回収カップに相当している。

引用文献１に記載の処理ユニットにおいては、基板から飛散した処理液は、各環状流路を構成するポットや環状仕切に受け止められ、特定の環状流路へ向けて処理液が分別して排出され、当該環状流路を介して処理液が回収される。また、処理液の回収を行っていない環状流路は、ポットや環状仕切を互いに近接した位置に重ねて配置することにより開口部が閉じられ、処理液が流入しないようになっている。

特開２００４−２６５９１２号公報：段落００２６、００６０〜００６１、００６７、００８８〜００９６、図１、１４〜１６

しかしながら特許文献１に記載の処理ユニットにおいて、全ての環状流路は排気装置に接続され、環状流路内の排気が行われている。このため、処理液の回収を行っていない環状流路の開口を閉じたとしても、排気により環状流路内が減圧状態になって、重ねて配置されたポットや環状仕切の隙間に処理液が進入してしまう。このため、所定の回収先に処理液を回収できなかったり、ある処理液が別の回収先に進入して、当該回収先の処理液を汚染してしまったりするおそれがある。

本発明はこのような事情の下になされたものであり、その目的は、複数の処理液を所定の排液流路へと排出することが可能な基板液処理装置を提供することがある。

第１の発明に係る基板液処理装置は、基板を保持する基板保持部と、
前記基板保持部に保持された基板に複数の処理液を切り替えて供給するための処理液供給部と、
前記基板保持部を側方から囲むように設けられ、基板に供給された後の第１処理液を前記基板保持部下方に案内するとともに排液する第１排液流路を形成する内カップと、
前記内カップを囲むように設けられ、基板に供給された後の第２処理液を前記基板保持部下方に案内するとともに排液する第２排液流路を形成する外カップと、
第１処理液を受ける処理位置と、この処理位置から下方側に退避した退避位置との間で、前記内カップを昇降させる昇降機構と、
前記外カップを外方側から覆うように配置されたカバー部と、
前記基板保持部と共に一体的に回転し、処理液を受けている内カップまたは外カップの配置方向へ向けて処理液を案内する回転カップと、を備え、
前記カバー部は、円筒形状に形成された円筒部と、前記円筒部の上部側に設けられ内側に向けて伸延した庇部とを備え、さらに前記外カップとの間で、排気流路を形成し、
前記排気流路は、前記第１排液流路および前記第２排液流路の入口の上方側にて前記第１排液流路および前記第２排液流路と接続されることと、
前記カバー部と前記回転カップとの間で前記排気流路の一部を形成することと、
前記外カップの上部側には、前記回転カップの外周面へ向けて内側に向けて伸延し、当該回転カップの外周面と対向して前記排気流路の一部を構成する先端部を備えた上面部が設けられ、前記先端部には、回転カップと対向する領域に、当該回転カップの周方向に沿って互いに間隔を開けて配置され、上下方向に向けて伸びる複数の突起部が設けられていることと、を特徴とする。
第２の発明に係る基板液処理装置は、基板を保持する基板保持部と、
前記基板保持部に保持された基板に複数の処理液を切り替えて供給するための処理液供給部と、
前記基板保持部を側方から囲むように設けられ、基板に供給された後の第１処理液を前記基板保持部下方に案内するとともに排液する第１排液流路を形成する内カップと、
前記内カップを囲むように設けられ、基板に供給された後の第２処理液を前記基板保持部下方に案内するとともに排液する第２排液流路を形成する外カップと、
第１処理液を受ける処理位置と、この処理位置から下方側に退避した退避位置との間で、前記内カップを昇降させる昇降機構と、
前記外カップを外方側から覆うように配置されたカバー部と、
前記基板保持部と共に一体的に回転し、処理液を受けている内カップまたは外カップの配置方向へ向けて処理液を案内する回転カップと、を備え、
前記カバー部は、円筒形状に形成された円筒部と、前記円筒部の上部側に設けられ内側に向けて伸延した庇部とを備え、さらに前記外カップとの間で、排気流路を形成し、
前記排気流路は、前記第１排液流路および前記第２排液流路の入口の上方側にて前記第１排液流路および前記第２排液流路と接続されることと、
前記カバー部と前記回転カップとの間で前記排気流路の一部を形成することと、
前記外カップの上部側には、前記回転カップの外周面へ向けて内側に向けて伸延する先端部を備えた上面部が設けられ、前記カバー部を構成する庇部の先端は、前記回転カップの外周面に対向し、前記庇部と前記回転カップとの距離は、前記回転カップと前記先端部との距離よりも狭いことと、を特徴とする。
第３の発明に係る基板液処理装置は、基板を保持する基板保持部と、
前記基板保持部に保持された基板に複数の処理液を切り替えて供給するための処理液供給部と、
前記基板保持部を側方から囲むように設けられ、基板に供給された後の第１処理液を前記基板保持部下方に案内するとともに排液する第１排液流路を形成する内カップと、
前記内カップを囲むように設けられ、基板に供給された後の第２処理液を前記基板保持部下方に案内するとともに排液する第２排液流路を形成する外カップと、
第１処理液を受ける処理位置と、この処理位置から下方側に退避した退避位置との間で、前記内カップを昇降させる昇降機構と、
前記外カップを外方側から覆うように配置されたカバー部と、
を備え、
前記カバー部は、円筒形状に形成された円筒部と、前記円筒部の上部側に設けられ内側に向けて伸延した庇部とを備え、さらに前記外カップとの間で、排気流路を形成し、
前記排気流路は、前記第１排液流路および前記第２排液流路の入口の上方側にて前記第１排液流路および前記第２排液流路と接続されることと、
前記排気流路には、前記外カップの周方向に沿って排気された気体を合流させてから外部へ排出する集合排気部が設けられていることと、を特徴とする。

前記基板液処理装置は、下記の構成を備えていてもよい。
（ａ）前記第１排液流路及び第２排液流路には、前記排気流路以外には、各々処理液を排出する排液配管のみが接続されていること。
（ｂ）第１の発明において、前記突起部は、その上端部が下端部よりも、前記回転カップの回転方向の上流側に位置するように傾けて設けられていること。
（ｃ）第１、第２の発明において、前記排気流路には、前記外カップの周方向に沿って排気された気体を合流させてから外部へ排出する集合排気部が設けられていること。
（ｄ）第３の発明、または（ｃ）において、前記集合排気部へ気体が流入する流入口が、スリットであること。前記集合排気部へ気体が流入する流入口の開口面積は、当該集合排気部から外部へ気体を排出する排気口の開口面積よりも小さいこと。前記集合排気部は、前記内カップ及び外カップの下方側に設けられていること。前記内カップ及び外カップには、各々前記第１処理液または第２処理液が排液される排液口に連通する排液配管が設けられ、これら排液配管は、前記集合排気部を貫通していること。前記昇降機構は、前記内カップを支持する支持部材を介して内カップの昇降を行い、当該昇降機構は、前記集合排気部の下方側に配置されると共に、前記支持部材は当該集合排気部を貫通していること。前記集合排気部内を洗浄する洗浄機構を備えること。
（ｅ）前記排気流路内を洗浄する洗浄機構を備えること。

本発明は、回転する基板から振り切られた処理液を受けて排液口へと排出するための複数の排液流路を形成する内カップ及び外カップとは独立して、気体の排気を行う排気流路が設けられているので、複数の処理液を分別して排出することができる。

本発明の実施の形態に係る処理ユニットを備えた基板処理システムの概要を示す平面図である。 前記処理ユニットの概要を示す縦断側面図である。 前記処理ユニットの基板保持機構及び回収カップを詳細に示した縦断側面図である。 前記処理ユニットに設けられている集合排気部の横断平面図である。 前記処理ユニットの作用を示す第１の説明図である。 前記処理ユニットの作用を示す第２の説明図である。 前記処理ユニットの作用を示す第３の説明図である。 他の例に係る処理ユニットの作用を示す第１の説明図である。 他の例に係る処理ユニットの作用を示す第２の説明図である。 さらに他の例に係る処理ユニットの縦断側面図である。 その他の例に係る処理ユニットの作用説明図である。 第３カップに液体捕集用の突起部を設けた処理ユニットの縦断側面図である。 前記突起部を備えた第３カップの一部破断斜視図である。 前記突起部により液体を捕集する作用を示す模式図である。

図１は、本実施形態に係る基板処理システムの概略構成を示す図である。以下では、位置関係を明確にするために、互いに直交するＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸を規定し、Ｚ軸正方向を鉛直上向き方向とする。

図１に示すように、基板処理システム１は、搬入出ステーション２と、処理ステーション３とを備える。搬入出ステーション２と処理ステーション３とは隣接して設けられる。

搬入出ステーション２は、キャリア載置部１１と、搬送部１２とを備える。キャリア載置部１１には、複数枚の基板、本実施形態では半導体ウエハ（以下ウエハＷ）を水平状態で収容する複数のキャリアＣが載置される。

搬送部１２は、キャリア載置部１１に隣接して設けられ、内部に基板搬送装置１３と、受渡部１４とを備える。基板搬送装置１３は、ウエハＷを保持するウエハ保持機構を備える。また、基板搬送装置１３は、水平方向および鉛直方向への移動ならびに鉛直軸を中心とする旋回が可能であり、ウエハ保持機構を用いてキャリアＣと受渡部１４との間でウエハＷの搬送を行う。

処理ステーション３は、搬送部１２に隣接して設けられる。処理ステーション３は、搬送部１５と、複数の処理ユニット１６とを備える。複数の処理ユニット１６は、搬送部１５の両側に並べて設けられる。

搬送部１５は、内部に基板搬送装置１７を備える。基板搬送装置１７は、ウエハＷを保持するウエハ保持機構を備える。また、基板搬送装置１７は、水平方向および鉛直方向への移動ならびに鉛直軸を中心とする旋回が可能であり、ウエハ保持機構を用いて受渡部１４と処理ユニット１６との間でウエハＷの搬送を行う。

処理ユニット１６は、基板搬送装置１７によって搬送されるウエハＷに対して所定の基板処理を行う。

また、基板処理システム１は、制御装置４を備える。制御装置４は、たとえばコンピュータであり、制御部１８と記憶部１９とを備える。記憶部１９には、基板処理システム１において実行される各種の処理を制御するプログラムが格納される。制御部１８は、記憶部１９に記憶されたプログラムを読み出して実行することによって基板処理システム１の動作を制御する。

なお、かかるプログラムは、コンピュータによって読み取り可能な記憶媒体に記録されていたものであって、その記憶媒体から制御装置４の記憶部１９にインストールされたものであってもよい。コンピュータによって読み取り可能な記憶媒体としては、たとえばハードディスク（ＨＤ）、フレキシブルディスク（ＦＤ）、コンパクトディスク（ＣＤ）、マグネットオプティカルディスク（ＭＯ）、メモリカードなどがある。

上記のように構成された基板処理システム１では、まず、搬入出ステーション２の基板搬送装置１３が、キャリア載置部１１に載置されたキャリアＣからウエハＷを取り出し、取り出したウエハＷを受渡部１４に載置する。受渡部１４に載置されたウエハＷは、処理ステーション３の基板搬送装置１７によって受渡部１４から取り出されて、処理ユニット１６へ搬入される。

処理ユニット１６へ搬入されたウエハＷは、処理ユニット１６によって処理された後、基板搬送装置１７によって処理ユニット１６から搬出されて、受渡部１４に載置される。そして、受渡部１４に載置された処理済のウエハＷは、基板搬送装置１３によってキャリア載置部１１のキャリアＣへ戻される。

図２に示すように、処理ユニット１６は、チャンバ２０と、基板保持機構３０と、処理流体供給部４０と、回収カップ５０とを備える。

チャンバ２０は、基板保持機構３０と処理流体供給部４０と回収カップ５０とを収容する。チャンバ２０の天井部には、ＦＦＵ（Fan Filter Unit）２１が設けられる。ＦＦＵ２１は、チャンバ２０内にダウンフローを形成する。

基板保持機構３０は、保持部３１と、支柱部３２と、駆動部３３とを備える。保持部３１は、ウエハＷを水平に保持する。支柱部３２は、鉛直方向に延在する部材であり、基端部が駆動部３３によって回転可能に支持され、先端部において保持部３１を水平に支持する。駆動部３３は、支柱部３２を鉛直軸まわりに回転させる。かかる基板保持機構３０は、駆動部３３を用いて支柱部３２を回転させることによって支柱部３２に支持された保持部３１を回転させ、これにより、保持部３１に保持されたウエハＷを回転させる。

処理流体供給部４０は、ウエハＷに対して処理流体を供給する。処理流体供給部４０は、処理流体供給源７０に接続される。

回収カップ５０は、保持部３１を取り囲むように配置され、保持部３１の回転によってウエハＷから飛散する処理液を捕集する。回収カップ５０の底部には、排液口５１が形成されており、回収カップ５０によって捕集された処理液は、かかる排液口５１から処理ユニット１６の外部へ排出される。また、回収カップ５０の底部には、ＦＦＵ２１から供給される気体を処理ユニット１６の外部へ排出する排気口５２が形成される。

以上に概略構成を説明した処理ユニット１６は、本実施の形態の基板液処理装置に相当する。当該処理ユニット１６は、回転するウエハＷから振り切られた複数の処理液と、ＦＦＵ２１から供給され、ウエハＷの周囲を流れる気体（例えば清浄空気）とを、各々独立した排液口５１（第１排液配管５１２ａ、第２排液配管５１２ｂ、第３排液配管５１２ｃ）、排気口５２を介して排出することができる。以下、図３、図４を参照しながら当該機能に係る構成について説明する。

図３は、処理ユニット１６内に設けられている基板保持機構３０及び回収カップ５０の構成を詳細に示した縦断側面図である。
既述の処理流体供給部４０は、処理流体供給源７０から種類の異なる複数の処理液を受け入れ、処理液の種類を切り替えてウエハＷに供給する処理液供給部を構成している。

また図３に示すように、保持部３１の上面側の周縁部には、ウエハＷを支持する複数の支持ピン３１１が設けられ、ウエハＷはこの支持ピン３１１に支持された状態で処理が行われる。保持部３１や支持ピン３１１は、本例の基板保持部に相当する。
支持ピン３１１に支持されたウエハＷの側方には、ウエハＷから振り切られた処理液を案内するガイド部３１２が設けられている。ガイド部３１２は、ウエハＷが配置されている内側の位置から、回収カップ５０が配置されている外方側の位置へ向けて、その上面及び下面の高さ位置が次第に低くなる傾斜面を備えている。

さらに、ガイド部３１２の上方には、ウエハＷから振り切られた処理液やＦＦＵ２１から供給された気体を、前記ガイド部３１２と共に案内する回転カップ３１３が設けられている。回転カップ３１３は、ガイド部３１２の上面との間に隙間を形成する位置に、当該ガイド部３１２を上方側から覆うように配置されている。またガイド部３１２と同様に、回転カップ３１３の下面側には、内側から外側へ向けて高さ位置が次第に低くなる傾斜面が形成されている。ウエハＷから振り切られた処理液やウエハＷの表面を流れる気流は、ガイド部３１２と回転カップ３１３との間の隙間を介して回収カップ５０へ向けて案内される。ガイド部３１２及び回転カップ３１３は、保持部３１の上面から上方へ向けて伸延し、当該保持部３１の周方向に向けて互いに間隔を開けて配置された複数の支持部材３１４によって支持されている。

また本例の処理ユニット１６において、ウエハＷから飛散した処理液を捕集する既述の回収カップ５０は、保持部３１を取り囲むように形成されている。本例の処理ユニット１６には、３組の回収カップ５０が設けられている。以下、これらの回収カップ５０を、保持部３１に近い内側から順に、第１カップ５０ａ、第２カップ５０ｂ、第３カップ５０ｃと呼ぶ。

最外位置の第３カップ５０ｃは、当該第３カップ５０ｃの一部を構成する底板部２０１上に固定して配置されている。本例の処理ユニット１６において、第１カップ５０ａ、第２カップ５０ｂは内カップに相当し、第３カップ５０ｃは外カップに相当する。

第１カップ５０ａは、保持部３１に最も近い位置に配置され、ガイド部３１２と回転カップ３１３とにより案内された処理液が流出する位置へ向けて、内壁面を対向させている。第１カップ５０ａは、円筒形状に形成された円筒部５０３ａと、この円筒部５０３ａの上部側の周方向に沿って設けられ、内側に向けて傾斜した傾斜部５０１ａとを備えている。この傾斜部５０１ａは、処理液が第１カップ５０ａの上方側へと流出するのを抑えると共に、処理液の回収を行っていない回収カップ５０（第２カップ５０ｂ、第３カップ５０ｃ）の開口を塞ぐ役割を果たしている。また、傾斜部５０１ａの内周は、第１カップ５０ａを降下させたときに保持部３１の周囲を囲む。

第１カップ５０ａの下面は、周方向に間隔をおいて配置された複数本の支持部材５３２ａに支持されている。これら支持部材５３２ａは、エアシリンダーなどからなる共通のアクチュエータ５３３ａに接続されている。このアクチュエータ５３３ａを駆動して、支持部材５３２ａを昇降させることにより、第１カップ５０ａは、回転するウエハＷから飛散した処理液を受け止める処理位置と、この処理位置から下方側に退避した退避位置との間を移動することができる。これら支持部材５３２ａやアクチュエータ５３３ａは、第１カップ５０ａの昇降機構に相当する。

図７に示すように第１カップ５０ａは、処理位置まで上昇することにより、第１カップ５０ａの内側の空間を処理液が流れる流路として構成することができる。回転するウエハＷから飛散した処理液は、第１カップ５０ａの内壁面にて受け止められ、この流路内を流下しながら保持部３１の下方側へと案内され、排液される。
なお、第１カップ５０ａと支柱部３２との間に設けられた円筒状の部材は、保持部３１側への処理液やミストの進入を防止するための囲み部材５６である。

第２カップ５０ｂは、第１カップ５０ａの外方位置に配置され、ガイド部３１２と回転カップ３１３とにより案内された処理液が流出する位置へ向けて、円環形状の内壁面を対向させて配置することができる点と、円筒部５０３ｂの上部側に、内側へ向けて傾斜した傾斜部５０１ｂが形成されている点とにおいて、前述の第１カップ５０ａと共通している。

ここで、第２カップ５０ｂの傾斜部５０１ｂは、第１カップ５０ａの傾斜部５０１ａの上方側まで伸び出すように形成され、第２カップ５０ｂの傾斜部５０１ｂの下面に第１カップ５０ａの傾斜部５０１ａの上面を当接させて、傾斜部５０１ａ、５０１ｂ同士を重ね合わせることができる。傾斜部５０１ａ、５０１ｂ同士が重ね合わされると、第２カップ５０ｂ内へと処理液が流入する開口が塞がれる。また、傾斜部５０１ｂの内周は、第２カップ５０ｂを降下させたとき、第１カップ５０ａの傾斜部５０１ａと共に保持部３１の周囲を囲む。

さらに第１カップ５０ａと同様に、第２カップ５０ｂは周方向に間隔をおいて設けられた複数本の支持部材５３２ｂに支持され、これら支持部材５３２ｂは共通のアクチュエータ５３３ｂに接続されている。この結果、第２カップ５０ｂについても上方側の処理位置と、この処理位置から下方側に退避した退避位置との間を移動することができる。これら支持部材５３２ｂやアクチュエータ５３３ｂは、第２カップ５０ｂの昇降機構に相当する。

図６に示すように第１カップ５０ａを退避位置まで下降させる一方、第２カップ５０ｂを処理位置まで上昇させることにより、第１カップ５０ａの外壁面と第２カップ５０ｂの内壁面との間には流路が形成される。回転するウエハＷから飛散した処理液は、第２カップ５０ｂの内壁面にて受け止められ、この流路内を流下しながら保持部３１の下方側へと案内され、排出される。

次いで図３に示すように、第３カップ５０ｃは、第１カップ５０ａ及び第２カップ５０ｂのさらに外方位置に配置されている。そして、これら第１カップ５０ａ及び第２カップ５０ｂを退避位置へ移動させると、ガイド部３１２と回転カップ３１３とにより案内された処理液が流出する位置へ向けて円環形状の内壁面を対向させた状態となる。第３カップ５０ｃは、円筒部５０３ｃと、この円筒部５０３ｃの上部側に設けられ、内側に向けて傾斜した傾斜部５０１ｃとを備え、当該傾斜部５０１ｃは第１カップ５０ａや第２カップ５０ｂの上方側まで伸び出している。また、傾斜部５０１ｃの内周は、回転カップ３１３の周囲を囲む。

さらに第３カップ５０ｃの傾斜部５０１ｃの先端部は下方側へ向けて折れ曲がっている。図５等の拡大縦断面図に示すように、当該折れ曲り部は、既述の回転カップ３１３との間に隙間を開けて配置されている。前記折れ曲り部と回転カップ３１３との間の隙間は、保持部３１側から流出した気体を上方側へ向けて案内する流路を形成している。

図３に示すように、第１カップ５０ａ、第２カップ５０ｂの下方位置には、これらのカップ５０ａ、５０ｂの周方向に沿って互いに区画された、処理液を排出するための３つの排液溝（第１排液溝５１１ａ、第２排液溝５１１ｂ、第３排液溝５１１ｃ）が形成されている。各排液溝５１１ａ〜５１１ｃは、各々排液配管５１２ａ〜５１２ｃと接続されている。

例えば第１カップ５０ａにて受け止められた処理液は、第１排液溝５１１ａへと流下し、当該第１排液溝５１１ａ及び第１排液配管５１２ａを介して第１排液配管５１２ａの末端の排液口５１より外部へと排出される。
この排液口５１に連通する、第１カップ５０ａと囲み部材５６とに囲まれる空間や第１排液溝５１１ａは、第１カップ５０ａにて受け止められた処理液（第１処理液）を保持部３１の下方側へ案内し、排液する第１排液流路に相当する。

また、第２カップ５０ｂにて受け止められた処理液は、第１カップ５０ａと第２カップ５０ｂとの間の流路を通って第２排液溝５１１ｂへと流下し、当該第２排液溝５１１ｂ及び第２排液配管５１２ｂを介して第２排液配管５１２ｂの末端の排液口５１より外部へと排出される。
この排液口５１に連通する、第１カップ５０ａと第２カップ５０ｂとの間の流路や第２排液溝５１１ｂも、第２カップ５０ｂにて受け止められた処理液（第１処理液）を保持部３１の下方側へ案内し、排出する第１排液流路に相当する。

さらに、第３カップ５０ｃで受け止められた処理液は、第２カップ５０ｂと第３カップ５０ｃとの間の流路を通って第３排液溝５１１ｃへと流れ込み、当該第３排液溝５１１ｃ及び第３排液配管５１２ｃを介して第３排液配管５１２ｃの末端の排液口５１より外部へと排出される。
この排液口５１に連通する、第２カップ５０ｂと第３カップ５０ｃとの間の流路や第３排液溝５１１ｃは、第３カップ５０ｃにて受け止められた処理液（第２処理液）を保持部３１の下方側へ案内し、排出する第２排液流路に相当する。

さらに本実施の形態に係る処理ユニット１６においては、各回収カップ５０（第１カップ５０ａ、〜第３カップ５０ｃ）における処理液の排液流路とは独立して、保持部３１側から流出した気体を排気口５２へ向けて排気する排気流路（筒状流路５２１、集合排気部５２２）が設けられている。

排気流路の一部を構成する筒状流路５２１に関し、処理ユニット１６には、第３カップ５０ｃを外方側から覆うように配置された円環形状の側壁を備えるカバー部５４が設けられている。カバー部５４の内壁面と第３カップ５０ｃの外壁面との間には隙間が形成され、この隙間が、気体の流れる筒状流路５２１となっている。

前記カバー部５４も、円筒形状の円筒部５４３の上部側に庇部である傾斜部５４１が形成されている。この傾斜部５４１は、第３カップ５０ｃの傾斜部５０１ｃの上面との間に隙間を開けて、当該傾斜部５０１ｃの上方側に配置されている。また、カバー部５４の傾斜部５４１の先端は、第３排液配管５１２ｃの傾斜部５０１ｃの下方側折れ曲がり部分と、回転カップ３１３との間に形成された、気体の流路の上方側まで伸びている。
従って、筒状流路５２１には、カバー部５４の傾斜部５４１の先端と、第３カップ５０ｃの傾斜部５０１ｃの先端との間の隙間から気体が流入し、この筒状流路５２１は第３カップ５０ｃの口部に沿って開口していることになる。よって、第１カップ５０ａ、第２カップ５０ｂ、及び第３カップ５０ｃに囲まれた領域は、筒状流路５２１の下流側に位置する排気口５２には連通していない。

また処理ユニット１６は、筒状流路５２１を構成するカバー部５４の内周面や、第３カップ５０ｃの外周面を洗浄するための洗浄機構４１を備えている。例えば洗浄機構４１は、ＤＩＷ（Deionized Water）などの洗浄液を筒状流路５２１の上部側から、筒状流路５２１の周方向に沿って供給することができる。この洗浄機構４１を備えることにより、アルカリ性や酸性のミストを含む気体が共通の筒状流路５２１内を流れて反応生成物を生成し、筒状流路５２１の壁面に付着したとしても、これらの付着物を洗い流すことができる。洗浄後の洗浄液は、筒状流路５２１の下部側や後述の集合排気部５２２に設けられた不図示の排液口から排出される。

さらに既述の底板部２０１の下方側（第１カップ５０ａ、第２カップ５０ｂ、第３カップ５０ｃの下方側）には、トレイ部５２３が設けられている。トレイ部５２３の周縁部に形成された側壁は、カバー部５４の側壁に連結され、筒状流路５２１を流れてきた気体は、前記底板部２０１と、トレイ部５２３との間に囲まれる空間内に流入する。トレイ部５２３の底面には、例えば外部の真空ポンプ（吸引機構）に接続された既述の排気口５２が設けられ、気体はこの排気口５２から外部へ排出される。底板部２０１と、トレイ部５２３との間に囲まれた前記空間は、筒状流路５２１内を分散して流れてきた気体を合流させてから外部へ排出する集合排気部５２２を構成している。
以上の説明をまとめると、図５に示すようにカバー部５４の内周面と、第３カップ５０ｃの外周面との間に形成される筒状流路５２１、及びカバー部５４と回転カップ３１３との間には、気体の流路が形成されている。これらカバー部５４と第３カップ５０ｃとの間、及び前記カバー部５４と回転カップ３１３との間や、集合排気部５２２は、排気口５２へ連通し、気体の排気流路を構成している。

ここでカバー部５４と第３カップ５０ｃとの間に形成される前記排気流路は、第１排液流路を構成する第１カップ５０ａと囲み部材５６との間や第１カップ５０ａと第２カップ５０ｂとの間の空間の入口の上方側にて当該第１排液流路と接続されている（図７、図６）。また前記排気流路は、第２排液流路を構成する第２カップ５０ｂと第３カップ５０ｃとの間の空間の入口の上方側にて当該第２排液流路と接続されている（図５）。
また、これら第１排液流路（第１カップ５０ａと囲み部材５６とに囲まれる空間や第１排液溝５１１ａ、第１カップ５０ａと第２カップ５０ｂとの間の流路や第２排液溝５１１ｂ）や第２排液流路（第２カップ５０ｂと第３カップ５０ｃとの間の流路や第３排液溝５１１ｃ）には、前記排気流路以外には、各々処理液（第１処理液または第２処理液）を排出する排液配管（第１排液配管５１２ａ、第２排液配管５１２ｂ、第３排液配管５１２ｃ）のみが接続されている。

図４は、図３に示すａ−ａ’の位置にてトレイ部５２３を矢視した横断平面図である。図３、図４に示すように、筒状流路５２１を通流した気体が集合排気部５２２内に流れ込む外周側の位置には、既述の底板部２０１とトレイ部５２３の底面との間に形成された集合排気部５２２を囲むようにバッフルリング５５が設けられている。
バッフルリング５５には、例えば上下方向に細長く伸びる複数のスリット５５１が、ほぼ等間隔に配置されている。これらのスリット５５１は、気体が通過する際の抵抗がほぼ均一になるように調整され、これにより筒状流路５２１内を気体が均一に分散して流れるようになっている。

また集合排気部５２２への気体の流入口である複数のスリット５５１の開口面積の合計値は、トレイ部５２３の底面に設けられている排出口５２の開口面積よりも小さくなっている。これによって、集合排気部５２２内の気体が排気口５２から排出される際の圧力損失よりも、スリット５５１からバッフルリング５５の内側へ気体が流入する際の圧力損失の方が大きくなる。この結果、バッフルリング５５の内側へ気体が均一に流入し、スリット５５１の一部に偏って気体が通過する偏流の発生を抑えている。

また図３、図４に示すように集合排気部５２２には、上下方向に向けて各排液配管５１２ａ〜５１２ｃが貫通している。さらに集合排気部５２２には支持部材５３２ａ、５３２ｂを貫通させるスリーブ５２５ａ、５２５ｂや、駆動部３３を囲む筒状部５２４が設けられている。

さらに図３に示すように、処理ユニット１６には、集合排気部５２２の内部を洗浄するための洗浄機構４２が設けられている。例えば洗浄機構４２は、ＤＩＷなどの洗浄液と、清浄空気などのキャリアガスとの混合流体を噴射する二流体ノズルを備えている。この洗浄機構４２においても、筒状流路５２１側の洗浄機構４１と同様に、アルカリ性や酸性のミストを含む気体が流れ込むことにより生成した反応生成物を集合排気部５２２の内壁面から洗い流すことができる。洗浄後の洗浄液は、集合排気部５２２の底面に設けられた不図示の排液口から排出される。

以上に詳細な説明をした処理ユニットにおいて、処理流体供給部４０からの処理液の供給や処理液の種類の切り替え、駆動部３３によるウエハＷの回転や第１カップ５０ａ、第２カップ５０ｂの昇降動作は、既述の制御装置４により制御される。

以下、本実施の形態の処理ユニット１６の作用について説明する。
基板搬送装置１７によって各処理ユニット１６に搬送されてきたウエハＷは、不図示の搬入出口を介してチャンバ２０内に搬入される。基板搬送装置１７は、処理対象のウエハＷを保持部３１の支持ピン３１１上に受け渡した後、チャンバ２０内から退避する。

このとき例えば図５に示すように、第１カップ５０ａ及び第２カップ５０ｂは退避位置まで移動し、第２カップ５０ｂと第３カップ５０ｃとの間には、処理液が流下する流路が形成されている。しかる後、ウエハＷの回転を開始し、１種類目の処理液（例えばアルカリ性の薬液）を処理流体供給部４０からウエハＷに供給して液処理を開始する。

回転するウエハＷの表面に供給された処理液が広がることにより当該面の液処理が実行され、やがて処理液はウエハＷの周縁部に到達する。ウエハＷの周縁部に到達した処理液は、ガイド部３１２と回転カップ３１３との間の隙間を流れた後、第３カップ５０ｃ側へ向けて振り切られる。振り切られた処理液は、第３カップ５０ｃの内壁面にて受け止められ、第２カップ５０ｂと第３カップ５０ｃとの間の流路を介して第３排液溝５１１ｃに落下し、第３排液配管５１２ｃから排液口５１へと排出される。処理ユニット１６から排出された処理液は、不図示の回収タンクなどに回収される。

また処理液が供給されるウエハＷの上面には、ＦＦＵ２１から供給された気体がウエハＷの中央部側から周縁部側へ向けて流れ、この気体もガイド部３１２と回転カップ３１３との間の隙間から外方側へ向けて排出される。ここで本例の処理ユニット１６においては、第２カップ５０ｂと第３カップ５０ｃとの間の流路の排気が行われていない一方、筒状流路５２１内は排気口５２を介して排気されている。この結果、第２カップ５０ｂと第３カップ５０ｃとの間の流路内の圧力は、筒状流路５２１内の圧力に対して例えば数百Ｐａ程度、高くなっている。

このため、気体は、回転カップ３１３と第３カップ５０ｃの傾斜部５０１ｃとの間の流路を流れた後、排液流路（第２カップ５０ｂと第３カップ５０ｃとの間の流路）の上方側に配置された、圧力の低い筒状流路５２１に流入する。またガイド部３１２と回転カップ３１３との間から流出した気体が、遠心力の作用によって、第２カップ５０ｂと第３カップ５０ｃとの間の流路内に流れ込んだとしても、気体は、圧力の低い筒状流路５２１側へ向けて流れ出していく。

そして、前記排液流路と、排気流路である筒状流路５２１とは、第３カップ５０ｃの傾斜部５０１ｃを介して互いに分離され、排液流路は、排気流路側の排気口５２に連通していないので、処理液と気体とを分離して排出することができる。

またこのとき、既述のように第１カップ５０ａ、第２カップ５０ｂは、ウエハＷから振り切られた処理液が到達しない退避位置まで移動し、また傾斜部５０１ａ、５０１ｂ同士を重ねることにより第１カップ５０ａと第２カップ５０ｂとの間の流路は入口が閉じられている。そして、第１カップ５０ａの内側の空間や、第１カップ５０ａと第２カップ５０ｂとの間の流路についても排気が行われていないので、これらの空間も筒状流路５２１に対して高い圧力になる。この結果、処理液やの処理液のミストを含む気体がこれらの空間に流れ込むことが抑えられ、使用中の処理液を正しい回収先へと回収し、処理液のロスやコンタミネーションの発生を抑えることができる。

筒状流路５２１に流れ込んだ気体は、当該筒状流路５２１内を下方側へ向けて流れ、図３、図４に示すバッフルリング５５のスリット５５１を通過して集合排気部５２２内に流れ込む。集合排気部５２２内に流れ込み、合流した気体は、排気口５２を介して外部に排出される。

こうして、予め設定した時間だけ１種類目の処理液による液処理を行ったら、予め設定された順番で２種類目や３種類目の処理液（例えばリンス液や酸性の薬液など）に処理液の種類を切り替えつつウエハＷの液処理を行う。このとき、処理液の種類の切り替えタイミングン合わせて、第１カップ５０ａ、第２カップ５０ｂを処理位置と退避位置との間で昇降させ、ウエハＷから振り切られた処理液の排出先を変更する（図６、図７）。

これらの場合においても処理液の排出が行われている流路（図６における第１カップ５０ａと第２カップ５０ｂとの間の流路、図７における第１カップ５０ａの内側の空間）は、排気が行われていないので、これらの流路内の圧力は、筒状流路５２１内の圧力よりも高くなっている。従って、処理液が排出される流路を変更した場合においても、ウエハＷ側から流れ出た気体は、筒状流路５２１に向けて排出される。

さらに、処理液の回収を行っていない流路（図６における第２カップ５０ｂと第３カップ５０ｃとの間の流路、及び第１カップ５０ａの内側の空間、図７における第１カップ５０ａと第２カップ５０ｂとの間の流路、及び第２カップ５０ｂと第３カップ５０ｃとの間の流路）においても排気が行われていないので、処理液やの処理液のミストを含む気体がこれらの流路に流れ込むことが防止される。この結果、図６、図７の例においても、使用中の処理液を正しい回収先へと回収し、処理液のロスやコンタミネーションの発生を抑えることができる。

こうして各種の処理液による液処理を終えたら、処理液の供給を停止し、ウエハＷの表面に残存している処理液を振り切った後、ウエハＷの回転を止める。そしてチャンバ２０内に進入してきた基板搬送装置１７に、搬入時とは反対の手順でウエハＷを受け渡し、処理ユニット１６からウエハＷを搬出する。

ここで、洗浄機構４１、４２は、処理ユニット１６に次のウエハＷを搬入する際の受け渡し期間中やウエハＷのロットが切り替わるタイミング、また予め設定した時間が経過する度などに筒状流路５２１や集合排気部５２２の洗浄を実行する。

本実施の形態に係る処理ユニット１６によれば以下の効果がある。回転するウエハＷから振り切られた各種の処理液を受け、複数の排液口５１へと各処理液を排出する排液流路を形成する第１カップ５０ａ、第２カップ５０ｂ（内カップ）及び第３カップ５０ｃ（外カップ）とは独立して、気体の排気を行う排気流路（筒状流路５２１、集合排気部５２２）が設けられているので、複数の処理液や気体を正確に分別して排出することができる。

次に、図８〜図１１を参照しながら、本発明の実施の形態のバリエーションについて説明する。図８〜図１１において図３〜図７を用いて説明したものと共通の構成要素には、これらの図に示したものと共通の符号を付してある。
排気流路を構成する筒状流路５２１へ気体を取り込む開口は、第３カップ（外カップ）５０ｃの口部に沿って設ける場合（図５等参照）に限定されない。例えば図８、図９に示すように第１カップ５０ａ、第２カップ５０ｂ、第３カップ５０ｃの傾斜部５０１ａ〜５０１ｃに、これら傾斜部５０１ａ〜５０１ｃを上下に重ねたとき、互いに連通するスリット５０２ａ〜５０２ｃを設け、これらのスリット５０２ａ〜５０２ｃを開口として筒状流路５２１内に気体を流入させてもよい。この例では、カバー部５４の傾斜部５４１と第３カップ５０ｃの傾斜部５０１ｃとの間の隙間は閉じられている。

本例においても、筒状流路５２１は、排液流路（図８の例では第２カップ５０ｂと第３カップ５０ｃとの間の流路、図９の例では第１カップ５０ａと第２カップ５０ｂとの間の流路）の入口よりも上方側に開口する構成となっている。
なお本例の場合には、第１カップ５０ａや第２カップ５０ｂが退避位置に移動しているとき、これらのスリット５０２ａ、５０２ｂは、ガイド部３１２と回転カップ３１３によって案内された処理液が流出する位置の下方側に配置されることになる。しかしながら、処理液は遠心力の作用により第３カップ５０ｃや第２カップ５０ｂの内壁面側へ向けて勢いよく振り切られるので、スリット５０２ａ、５０２ｂには殆ど流入しない。

次いで図１０に示した処理ユニット１６ａは、支持ピン３１１に替えて保持部３１上に直接ウエハＷを載置し、ガイド部３１２や回転カップ３１３を設けていない点と、内カップとして１個の第１カップ５０ａが設けられている点と、第１カップ５０ａ、第３カップ５０ｃの下方側に集合排気部５２２が設けられていない点とにおいて、図３〜図７に示した第１の実施の形態に係る処理ユニット１６と異なっている。

保持部３１にウエハＷを固定する手法は、真空チャックなどを用いてもよく、保持部３１には回転カップ３１３のみを設けてもよい。また、第３カップ５０ｃの内側に配置される第１カップ５０ａの数は、少なくとも１つ設けられていればよく処理液の種類の数などに応じて適宜、増やすこともできる。なお、第１カップ５０ａ、第２カップ５０ｂ、第３カップ５０ｃの総数は、液処理に用いられる処理液の種類の数と一致している必要はなく、複数の処理液をまとめて１つのカップ５０ａ〜５０ｃで受けてもよい。

また図１０に示したカバー部５４は、第３カップ５０ｃの上端に設けられた傾斜部５０１ｃとの間で扁平な環状流路５２１ａを形成し、この環状流路５２１ａは、第３カップ５０ｃの上部側の側壁面を周方向に囲む円環状の排気管５２３ａに接続されている。排気管５２３ａには排気口５２が設けられ、ここから気体の排気が行われる。この場合には排気口５２へ連通する環状流路５２１ａ及び排気管５２３ａが排気流路を構成している。当該例のように集合排気部５２２を設けない場合には、バッフルリング５５に設けたスリット５５１の開口面積を排気口５２からの距離に応じて変化させたり、排気管５２３ａの周方向に沿って複数の排気口５２を設けたりすることなどにより、第３カップ５０ｃの周方向に沿って気体が均一に排気されるようにするとよい。

さらにまた図１１（ａ）、（ｂ）には、外カップ５０ｄや内カップ５０ｅの上端に傾斜部が設けられていない処理ユニット１６ｂの例を示している。この場合には、ウエハＷから処理液が振り切られる位置に対して、内カップ５０ｅの側壁の上端の高さ位置を上下させることにより、処理液を受けるカップ５０ｅ、５０ｄを切り替えることができる。

次いで、排気される気体中に含まれるミストを捕集する機構を第３カップ５０ｃに設けた実施の形態について図１２〜図１４を参照しながら説明する。
図１２の拡大縦断面図に示すように、本例の回転カップ３１３ａは、保持部３１の中央部側から周縁部側へ、斜め下方側へ向けて末広がりに形成されている。また、第３カップ５０ｃの上部側に形成され、前記回転カップ３１３ａの外周面へ向けて伸延する傾斜部５０１ｃの先端側には、下方側へ向けて伸延する先端部５７が形成されている。この先端部５７は、回転カップ３１３ａの外周面に沿って上方側から対向し、当該回転カップ３１３ａを取り囲んで配置されている。これら回転カップ３１３ａと先端部５７との間には所定の隙間が形成され、この隙間が気体の排気流路を形成している点は、図５などに示した第１の実施の形態に係る処理ユニット１６と同様である。また前記傾斜部５０１ｃは、外カップである第３カップ５０ｃの上面部に相当する。

図１３に示すように、回転カップ３１３ａの外周面と対向する前記先端部５７の内周面（回転カップ３１３ａと対向する領域）には、第１カップ５０ａ〜第３カップ５０ｃ側から、前記隙間を介して筒状流路５２１側へ向けて流れ込む気体中の処理液のミストを捕集するための複数の突起部５７１が設けられている。図１３の一部破断斜視図、及び図１４の模式図に示すように、突起部５７１は、前記回転カップ３１３ａの周方向に沿って互いに間隔を開けて配置されている。以下、隣り合う突起部５７１間の凹部を溝部５７２と呼ぶ。また、図１３及び図１４中に示した実線の矢印は、先端部５７の内側を回転する回転カップ３１３ａの回転方向を示している。

各突起部５７１は、例えば１ｍｍ〜数ｃｍ程度の幅寸法を有し、回転カップ３１３ａの回転方向と交差する上下方向に向けて伸びるように形成されている。さらに図１４に示すように突起部５７１は、回転カップ３１３ａの回転方向と交差する方向（図１４中に一点鎖線で示してある）に対し、その上端部が下端部よりも前記回転方向の上流側に位置するように、傾けて設けられていることが好ましい。

次いで先端部５７に設けられた突起部５７１の作用について説明する。図１２に示すように、第１カップ５０ａ〜第３カップ５０ｃ側（図１２の例では第２カップ５０ｂと第３カップ５０ｃとの間）に流れ込んだ気体は、回転カップ３１３ａと先端部５７との間の隙間、及び第３カップ５０ｃ、カバー部５４の傾斜部５０１ｃ、５４１の間を介して、圧力の低い筒状流路５２１側へ向けて排気される。この結果、当該気体は回転カップ３１３ａと先端部５７との間の前記隙間を下方側から上方側へと通過する。また、この気流には、回転カップ３１３ａの回転方向に沿って横方向に流れる力も加わる。

この結果、図１４に示すように、気体に含まれるミストＭには、前記気体の流れに沿って、回転カップ３１３ａの回転方向の上流側から、前記回転方向の下流側へ向けて、斜め上向きに移動する力が作用する。さらに、当該ミストＭを含む気体には、回転カップ３１３ａの外周面側から、突起部５７１が形成されている領域へ向けて気体を押し出すように作用する遠心力が働くので、ミストＭは、この流れに乗って、隣り合う突起部５７１間の溝部５７２内に進入する。

溝部５７２内に進入したミストＭが突起部５７１の側壁面に到達すると、ミストＭは当該側壁面に捕集される。捕集されたミストＭは、前記側壁面で凝集して液滴Ｌとなり、この側壁面を流れ落ちた後、下方側に向けて滴下する。
ここで突起部５７１の上端部が、その下端部よりも回転カップ３１３ａの回転方向の上流側に位置しているとき、ミストＭが捕集される突起部５７１の側壁面は、その面を斜め下方側に向けて配置されている。この結果、気体が下方側から上方側へ上昇する流れを遮るように当該側壁面が配置され、ミストＭの捕集がしやすくなる。また側壁面が、その面を斜め下方側に向けて配置されていることにより、捕集されたミストＭを下方側へ向けて排出しやすくなる。

なお、突起部５７１は、ミストＭの捕集が行われる突起部５７１の側壁面が、斜め下方側を向くように、傾けて設ける場合に限定されない。例えば回転カップ３１３ａの回転方向と直交する方向に沿って、ほぼ垂直に配置してもよい。
また、突起部５７１は、図１２に示すように、その内周面が斜め下方に向けて形成されていることは必須ではない。例えば図５に示すように、第３カップ５０ｃの傾斜部５０１ｃの先端部が、回転カップ３１３に対向してほぼ垂直、あるいは斜め上方へ向けて形成されている場合においても、突起部５７１を設けることにより、気体中のミストＭを捕集し、液滴Ｌとして下方側に排出する作用は得られる。

さらにまた、各突起部５７１の形状についても図１３、図１４に示した例に限定されない。図１３においては側壁面と突起面とを備え、縦断面が矩形状となっている突起部５７１の例を示してあるが、突起部５７１の縦断面は半円形状などの曲面を有する形状としてもよい。また、各突起部５７１の平面形状は、図１４に示すように直線状に形成される他、例えばカーブを描いて曲がっていてもよい。

さらに図１２には、カバー部５４の上部側に設けられた傾斜部５４１と回転カップ３１３ａとの間の隙間の距離ｄ１、及び、気体の排気流路を構成する回転カップ３１３ａと、第３カップ５０ｃの先端部５７（突起部５７１が設けられている本例では、突起部５７１の突起面）との距離ｄ２を示してある。これらの距離を比較すると、傾斜部５４１と回転カップ３１３ａとの距離ｄ１は、回転カップ３１３と、第３カップ５０ｃの先端部５７との距離ｄ２よりも狭くなっている（ｄ１＜ｄ２）。

カバー部５４の内側で回転カップ３１３ａを回転させると、回転カップ３１３ａから気体に働く遠心力の影響を受けて、カバー部５４と回転カップ３１３ａとの間の空間の圧力が上昇する。このとき「ｄ１＜ｄ２」の関係を満たすように、回転カップ３１３ａ、カバー部５４、先端部５７を配置することにより、カバー部５４と回転カップ３１３ａとの間の隙間を通じて上方側へ気体が漏れ出すことを抑え、筒状流路５２１側へ向けて気体を排出されやすくする状態を形成することができる。
ここで、上述の隙間の距離の関係は、図１２に記載した処理ユニット１６の例に限定されるものではない。例えば図３〜図７を用いて説明した、回転カップ３１３を備える処理ユニット１６における、カバー部５４の上部側に設けられた傾斜部５４１と回転カップ３１３との間の隙間の距離（ｄ１）と、回転カップ３１３と、第３カップ５０ｃの先端部（突起部５７１は設けられていない）との距離（ｄ２）との関係においても、「ｄ１＜ｄ２」としてもよい。

さらに、本実施の形態の処理ユニット１６、１６ａ、１６ｂを適用可能な液処理の種類は、アルカリ性や酸性の薬液を用いたウエハＷの洗浄処理ユニットに限られるものではない。例えばウエハＷに対して塗布されるレジスト液やめっき液の種類を切り替え可能に構成された塗布ユニットや、レジスト膜の上層に形成された撥水性の保護膜を溶解する溶解液やレジスト膜の現像を行う現像液を切り替えて供給する現像ユニットなどにも上述の各処理ユニット１６、１６ａ、１６ｂは適用することができる。

そして、本実施の形態の処理ユニット１６、１６ａ、１６ｂを用いて処理することが可能な基板の種類は、半導体ウエハに限定されるものではない。例えばフラットパネルディスプレイ用のガラス基板の液処理を行う処理ユニットに対しても本実施の形態は適用することができる。

Ｗ ウエハ
３１ 保持部
５０ａ 第１カップ
５０ｂ 第２カップ
５０ｃ 第３カップ
５１２ａ 第１排液配管
５１２ｂ 第２排液配管
５１２ｃ 第３排液配管
５２１ 筒状流路
５３２ａ、５３２ｂ
支持部材
５３３ａ、５３３ｂ
アクチュエータ
５７ ミスト捕集部
５７１ 突起部
５７２ 溝部

Claims (13)

1. 基板を保持する基板保持部と、
   前記基板保持部に保持された基板に複数の処理液を切り替えて供給するための処理液供給部と、
   前記基板保持部を側方から囲むように設けられ、基板に供給された後の第１処理液を前記基板保持部下方に案内するとともに排液する第１排液流路を形成する内カップと、
   前記内カップを囲むように設けられ、基板に供給された後の第２処理液を前記基板保持部下方に案内するとともに排液する第２排液流路を形成する外カップと、
   第１処理液を受ける処理位置と、この処理位置から下方側に退避した退避位置との間で、前記内カップを昇降させる昇降機構と、
   前記外カップを外方側から覆うように配置されたカバー部と、
   前記基板保持部と共に一体的に回転し、処理液を受けている内カップまたは外カップの配置方向へ向けて処理液を案内する回転カップと、を備え、
   前記カバー部は、円筒形状に形成された円筒部と、前記円筒部の上部側に設けられ内側に向けて伸延した庇部とを備え、さらに前記外カップとの間で、排気流路を形成し、
   前記排気流路は、前記第１排液流路および前記第２排液流路の入口の上方側にて前記第１排液流路および前記第２排液流路と接続されることと、
   前記カバー部と前記回転カップとの間で前記排気流路の一部を形成することと、
   前記外カップの上部側には、前記回転カップの外周面へ向けて内側に向けて伸延し、当該回転カップの外周面と対向して前記排気流路の一部を構成する先端部を備えた上面部が設けられ、前記先端部には、回転カップと対向する領域に、当該回転カップの周方向に沿って互いに間隔を開けて配置され、上下方向に向けて伸びる複数の突起部が設けられていることと、を特徴とする基板液処理装置。
2. 基板を保持する基板保持部と、
   前記基板保持部に保持された基板に複数の処理液を切り替えて供給するための処理液供給部と、
   前記基板保持部を側方から囲むように設けられ、基板に供給された後の第１処理液を前記基板保持部下方に案内するとともに排液する第１排液流路を形成する内カップと、
   前記内カップを囲むように設けられ、基板に供給された後の第２処理液を前記基板保持部下方に案内するとともに排液する第２排液流路を形成する外カップと、
   第１処理液を受ける処理位置と、この処理位置から下方側に退避した退避位置との間で、前記内カップを昇降させる昇降機構と、
   前記外カップを外方側から覆うように配置されたカバー部と、
   前記基板保持部と共に一体的に回転し、処理液を受けている内カップまたは外カップの配置方向へ向けて処理液を案内する回転カップと、を備え、
   前記カバー部は、円筒形状に形成された円筒部と、前記円筒部の上部側に設けられ内側に向けて伸延した庇部とを備え、さらに前記外カップとの間で、排気流路を形成し、
   前記排気流路は、前記第１排液流路および前記第２排液流路の入口の上方側にて前記第１排液流路および前記第２排液流路と接続されることと、
   前記カバー部と前記回転カップとの間で前記排気流路の一部を形成することと、
   前記外カップの上部側には、前記回転カップの外周面へ向けて内側に向けて伸延する先端部を備えた上面部が設けられ、前記カバー部を構成する庇部の先端は、前記回転カップの外周面に対向し、前記庇部と前記回転カップとの距離は、前記回転カップと前記先端部との距離よりも狭いことと、を特徴とする基板液処理装置。
3. 基板を保持する基板保持部と、
   前記基板保持部に保持された基板に複数の処理液を切り替えて供給するための処理液供給部と、
   前記基板保持部を側方から囲むように設けられ、基板に供給された後の第１処理液を前記基板保持部下方に案内するとともに排液する第１排液流路を形成する内カップと、
   前記内カップを囲むように設けられ、基板に供給された後の第２処理液を前記基板保持部下方に案内するとともに排液する第２排液流路を形成する外カップと、
   第１処理液を受ける処理位置と、この処理位置から下方側に退避した退避位置との間で、前記内カップを昇降させる昇降機構と、
   前記外カップを外方側から覆うように配置されたカバー部と、
   を備え、
   前記カバー部は、円筒形状に形成された円筒部と、前記円筒部の上部側に設けられ内側に向けて伸延した庇部とを備え、さらに前記外カップとの間で、排気流路を形成し、
   前記排気流路は、前記第１排液流路および前記第２排液流路の入口の上方側にて前記第１排液流路および前記第２排液流路と接続されることと、
   前記排気流路には、前記外カップの周方向に沿って排気された気体を合流させてから外部へ排出する集合排気部が設けられていることと、を特徴とする基板液処理装置。
4. 前記第１排液流路及び第２排液流路には、前記排気流路以外には、各々処理液を排出する排液配管のみが接続されていることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一つに記載の基板液処理装置。
5. 前記突起部は、その上端部が下端部よりも、前記回転カップの回転方向の上流側に位置するように傾けて設けられていることを特徴とする請求項１に記載の基板液処理装置。
6. 前記排気流路には、前記外カップの周方向に沿って排気された気体を合流させてから外部へ排出する集合排気部が設けられていることを特徴とする請求項１または２に記載の基板液処理装置。
7. 前記集合排気部へ気体が流入する流入口が、スリットであることを特徴とする請求項３または６に記載の基板液処理装置。
8. 前記集合排気部へ気体が流入する流入口の開口面積は、当該集合排気部から外部へ気体を排出する排気口の開口面積よりも小さいことを特徴とする請求項３、６または７のいずれか一つに記載の基板液処理装置。
9. 前記集合排気部は、前記内カップ及び外カップの下方側に設けられていることを特徴とする請求項３、６、７または８のいずれか一つに記載の基板液処理装置。
10. 前記内カップ及び外カップには、各々前記第１処理液または第２処理液が排液される排液口に連通する排液配管が設けられ、これら排液配管は、前記集合排気部を貫通していることを特徴とする請求項３、６、７、８または９のいずれか一つに記載の基板液処理装置。
11. 前記昇降機構は、前記内カップを支持する支持部材を介して内カップの昇降を行い、当該昇降機構は、前記集合排気部の下方側に配置されると共に、前記支持部材は当該集合排気部を貫通していることを特徴とする請求項３、６、７、８、９または１０のいずれか一つに記載の基板液処理装置。
12. 前記集合排気部内を洗浄する洗浄機構を備えることを特徴とする請求項３、６、７、８、９、１０または１１のいずれか一つに記載の基板液処理装置。
13. 前記排気流路内を洗浄する洗浄機構を備えることを特徴とする請求項１ないし１２のいずれか一つに記載の基板液処理装置。

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