JP2007180379A - 基板処理方法及び基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】被処理基板を載置する基板載置手段と、前記基板載置手段を回転駆動する回転駆動手段と、前記基板載置手段に載置された被処理基板の表面に処理液を供給する処理液供給手段と、前記基板載置手段に載置された被処理基板の周囲を取り囲むように配置され、前記駆動手段による被処理基板の回転に伴って飛散した処理液をその種類に応じて回収するように設けられた複数の環状処理槽を有する処理液回収手段と、前記処理液を前記複数の環状処理槽のいずれかで回収するときに当該処理中の環状処理槽からの排気を他の環状処理槽からの排気よりも多くなるように制御する排気制御手段とを備える基板処理装置。
【選択図】図1
Description
前記被処理基板の周囲を取り囲むように配置され、前記被処理基板の回転に伴って飛散した処理液をその種類に応じて回収するように設けられた複数の環状処理槽を有する処理液回収手段を用いて、前記処理液を前記複数の環状処理槽のいずれかで回収するときに当該処理中の環状処理槽からの排気を他の環状処理槽からの排気よりも多くなるように制御しながら前記処理液を回収するステップと、を備えることを特徴とする。
各4個の排気口36a〜36dは排気集積空間(図示省略)で合流させ、共通の排気制御手段40a〜40dに接続してあり、各排気制御手段40a〜40dは、各排気量を制御する排気量制御部42に接続してある。
先ず、図示しない搬送機構を用いてウェーハW1枚を支持体21の支持ピン27上に載置する。次に、駆動装置23を作動させることによりシャフト22を介して支持体21を回転させ、噴射ノズル25から回転するウェーハWの上面に処理液を滴下する。この噴射ノズル25は、図示しない移動手段によって、ウェーハWの半径方向に直線的に、あるいはウェーハWの中心を通る円弧を描くように往復運動させて処理液を噴射させる。これによって、ウェーハW上の処理液の均一化が図られる。さらに、ウェーハW表面に滴下された処理液は、遠心力によってウェーハW上で外周方向に流れ、外周端部から吹き飛ばされる。このウェーハWは、回転中に横方向へ移動しようとするが、この移動は規制ピン28によって阻止される。
1 基板処理装置
2 基板処理機構
3 処理液回収機構
21 (基板)支持体
22 シャフト
23 駆動装置
24 昇降装置
25 噴射ノズル
30 処理カップ
31 案内板
32 凹状溝
34 回収槽
35 排液口
36 排気口
40 排気制御手段
41 配管
42 排気量制御部
Claims (4)
- 載置された被処理基板を回転駆動させながら、当該被処理基板の表面に処理液を供給するステップと、
前記被処理基板の周囲を取り囲むように配置され、前記被処理基板の回転に伴って飛散した処理液をその種類に応じて回収するように設けられた複数の環状処理槽を有する処理液回収手段を用いて、前記処理液を前記複数の環状処理槽のいずれかで回収するときに当該処理中の環状処理槽からの排気を他の環状処理槽からの排気よりも多くなるように制御しながら前記処理液を回収するステップと、
を備えることを特徴とする基板処理方法。 - 前記処理液を回収するステップは、処理を行っていない前記他の環状処理槽からも、前記処理中の環状処理槽よりも少量の排気を行って排気制御することを特徴とする請求項1に記載の基板処理方法。
- 被処理基板を載置する基板載置手段と、
前記基板載置手段を回転駆動する回転駆動手段と、
前記基板載置手段に載置された被処理基板の表面に処理液を供給する処理液供給手段と、
前記基板載置手段に載置された被処理基板の周囲を取り囲むように配置され、前記駆動手段による被処理基板の回転に伴って飛散した処理液をその種類に応じて回収するように設けられた複数の環状処理槽を有する処理液回収手段と、
各基板処理槽の排気量をそれぞれ単独に制御できる排気制御手段と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。 - 前記基板載置手段を昇降させる昇降手段と、
前記基板載置手段の位置が前記各環状処理槽への導路開口部と対応するように前記昇降手段を制御する昇降制御手段と、
を更に備えることを特徴とする請求項3に記載の基板処理装置。
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- 2005-12-28 JP JP2005378896A patent/JP2007180379A/ja active Pending
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