JP2016072343A - 基板処理装置および基板処理方法 - Google Patents
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Abstract
Description
9 基板
31 基板保持部
35 基板回転機構
41 カップ部
51,51a,51b トッププレート
53 遮蔽板移動機構
55 遮蔽板回転機構
71 制御部
91 上面
191 排出ポート
411 上部開口
511,511b プレート本体部
512,512b プレート外周部
514 (プレート外周部の)内周面
515 (プレート外周部の)外周面
516 本体部下面
813 薬液供給部
814 洗浄液供給部
J1 中心軸
S11〜S15 ステップ
Claims (9)
- 基板を処理する基板処理装置であって、
水平状態の基板を保持する基板保持部と、
上下方向を向く中心軸を中心として前記基板を前記基板保持部と共に回転する基板回転機構と、
前記基板の上面に薬液を供給する薬液供給部と、
前記基板の前記上面に洗浄液を供給する洗浄液供給部と、
前記基板の前記上面に対向する遮蔽板と、
前記遮蔽板を前記基板に対して前記上下方向に相対的に移動する遮蔽板移動機構と、
前記遮蔽板移動機構、前記薬液供給部、前記洗浄液供給部および前記基板回転機構を制御することにより、前記遮蔽板が前記基板に対して前記上下方向の第1相対位置に位置した状態で前記基板の前記上面に前記薬液を供給して薬液処理を行い、前記遮蔽板が前記基板に対して前記第1相対位置よりも近接した第2相対位置に位置した状態で前記基板の前記上面に前記洗浄液を供給して洗浄処理を行い、前記遮蔽板が前記基板に対して前記第2相対位置よりも近接した第3相対位置に位置した状態で前記基板を回転して乾燥処理を行う制御部と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置であって、
前記基板の周囲を覆うとともに前記基板の上方に位置する上部開口を有し、前記基板からの前記薬液を受けるカップ部と、
前記カップ部の内部において前記基板よりも下方に設けられ、周囲のガスを吸引して前記カップ部の外部へと排出する排出ポートと、
をさらに備え、
前記第2相対位置に位置した前記遮蔽板が、前記カップ部の前記上部開口を閉塞することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1または2に記載の基板処理装置であって、
前記第1相対位置に位置した前記遮蔽板が、前記カップ部の前記上部開口を閉塞することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1ないし3のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記第3相対位置に位置した前記遮蔽板が、前記カップ部の前記上部開口を閉塞することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項2ないし4のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記遮蔽板が、
前記基板の前記上面を覆う本体部下面を有する遮蔽板本体部と、
前記本体部下面の外周縁から下方に広がる内周面を有する遮蔽板外周部と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項5に記載の基板処理装置であって、
前記遮蔽板外周部の外周面が、前記中心軸を中心として前記上下方向に広がる円筒面であり、
前記カップ部の前記上部開口の直径が、前記遮蔽板外周部の前記外周面の直径よりも大きく、
前記遮蔽板が、前記第1相対位置、前記第2相対位置および前記第3相対位置のいずれに位置した状態であっても、前記遮蔽板外周部の前記外周面が、前記カップ部の前記上部開口の内周縁と近接して対向することにより、前記カップ部の前記上部開口を閉塞することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置であって、
前記基板よりも下方に設けられて周囲のガスを吸引する排出ポートをさらに備え、
前記遮蔽板が、
前記基板の前記上面を覆う本体部下面を有する遮蔽板本体部と、
前記本体部下面の外周縁から下方に広がる内周面を有する遮蔽板外周部と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。 - 基板を処理する基板処理方法であって、
a)水平状態の基板の上面に対向する遮蔽板が、前記基板に対して上下方向の第1相対位置に位置した状態で、前記基板の前記上面に薬液を供給して薬液処理を行う工程と、
b)前記a)工程よりも後に、前記遮蔽板を前記基板に対して前記上下方向に相対的に移動し、前記遮蔽板が前記基板に対して前記第1相対位置よりも近接した第2相対位置に位置した状態で、前記基板の前記上面に洗浄液を供給して洗浄処理を行う工程と、
c)前記b)工程よりも後に、前記遮蔽板を前記基板に対して前記上下方向に相対的に移動し、前記遮蔽板が前記基板に対して前記第2相対位置よりも近接した第3相対位置に位置した状態で、前記基板を回転して乾燥処理を行う工程と、
を備えることを特徴とする基板処理方法。 - 請求項8に記載の基板処理方法であって、
前記基板の周囲を覆うとともに前記基板の上方に位置する上部開口を有するカップ部が、前記基板からの前記薬液を受け、
前記カップ部の内部において前記基板よりも下方に設けられる排出ポートが、周囲のガスを吸引して前記カップ部の外部へと排出し、
前記b)工程において、前記第2相対位置に位置した前記遮蔽板が、前記カップ部の前記上部開口を閉塞することを特徴とする基板処理方法。
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