JP6279954B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
チャンバ21内において、遮蔽板51がチャンバ蓋部23の下部開口232から上方に離間している状態で、下部開口232および上部開口222を介して行われる。これにより、基板9に対する複数の処理(すなわち、ガス置換処理、液処理および乾燥処理の一連の処理)が行われる空間を、処理内容に合わせて、本体内部空間221と蓋内部空間231との間で切り替えることができる。
9 基板
21,21a チャンバ
22 チャンバ本体
23,23a チャンバ蓋部
31 基板保持部
35 基板回転機構
41 第1移動機構
42 第2移動機構
43 第3移動機構
51 遮蔽板
91 上面
183 処理液吐出口
185 第2ガス噴出口
221 本体内部空間
222 上部開口
223 外筒部
224 外筒接続部
225 カップ部
226a 本体排出ポート
231 蓋内部空間
232 下部開口
233 蓋本体部
234 蓋底面部
235 (蓋底面部の)上面
237 蓋部排出ポート
512 (遮蔽板の)下面
811 処理液供給部
812 ガス供給部
J1 中心軸
S11〜S20 ステップ
Claims (8)
- 基板を処理する基板処理装置であって、
下部開口を有し、前記下部開口の上方に蓋内部空間を形成するチャンバ蓋部と、
本体内部空間を形成するとともに、前記チャンバ蓋部と共にチャンバを形成するチャンバ本体と、
前記本体内部空間において水平状態で基板を保持する基板保持部と、
前記基板の上面に処理液を供給する処理液供給部と、
前記蓋内部空間に配置されて前記基板の前記上面に対向し、前記下部開口を閉塞可能な遮蔽板と、
前記チャンバ内において、前記遮蔽板が前記チャンバ蓋部の前記下部開口から上方に離間した状態で、前記遮蔽板よりも上方から前記蓋内部空間にガスを供給することにより、前記蓋内部空間の気圧を前記本体内部空間の気圧よりも高くし、前記蓋内部空間の前記ガスを、前記遮蔽板と前記チャンバ蓋部との間の間隙から前記下部開口を介して前記本体内部空間へと送出するガス供給部と、
前記本体内部空間において前記基板よりも下方に設けられ、前記蓋内部空間から流入した前記ガスを吸引して前記チャンバ外へと排出する排出ポートと、
を備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置であって、
前記遮蔽板の下面の中央部にガス噴出口が設けられ、
前記ガス供給部により、前記ガス噴出口を介して前記遮蔽板の前記下面と前記基板の前記上面との間の空間にも前記ガスが供給されることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1または2に記載の基板処理装置であって、
前記遮蔽板の下面の中央部に処理液吐出口が設けられ、
前記処理液供給部により、前記処理液吐出口を介して前記基板の前記上面に処理液が供給されることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1または2に記載の基板処理装置であって、
前記処理液供給部が、
処理液を吐出する吐出ヘッドと、
水平方向に延びる部材であり、自由端部に前記吐出ヘッドが固定され、固定端部が前記蓋内部空間において前記チャンバ蓋部に取り付けられるヘッド支持部と、
を備え、
前記基板処理装置が、前記固定端部を中心として前記吐出ヘッドを前記ヘッド支持部と共に回転するヘッド回転機構をさらに備え、
前記基板上に処理液が供給される際には、前記ヘッド回転機構により前記吐出ヘッドが回転されて前記遮蔽板と前記下部開口との間に配置され、前記吐出ヘッドから前記下部開口を介して前記基板の前記上面に処理液が吐出されることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1ないし4のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記遮蔽板を前記蓋内部空間において前記チャンバ蓋部に対して上下方向に相対的に移動する遮蔽板移動機構をさらに備え、
前記チャンバが形成されるよりも前に、前記遮蔽板が前記チャンバ蓋部の前記下部開口に重ねられた状態で、前記ガス供給部により前記蓋内部空間に前記ガスが供給されて前記蓋内部空間に前記ガスが充填されることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項5に記載の基板処理装置であって、
前記チャンバ蓋部が、
上下を反転したカップ状の蓋本体部と、
前記蓋本体部の下端部から径方向内方に拡がるとともに中央部に前記下部開口が設けられた環状の蓋底面部と、
を備え、
前記下部開口に重ねられた前記遮蔽板の下面が、前記下部開口の周囲の全周に亘って前記蓋底面部の上面に接することにより前記下部開口を閉塞することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1ないし4のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記基板を前記基板保持部と共に前記チャンバに対して上下方向に相対的に移動する基板移動機構と、
前記上下方向を向く中心軸を中心として前記基板を前記基板保持部と共に回転する基板回転機構と、
をさらに備え、
前記基板に対する処理液の供給終了後に、前記基板移動機構により前記基板が前記本体内部空間から前記蓋内部空間へと移動され、
前記蓋内部空間において前記基板が前記基板回転機構により回転する際に、前記遮蔽板が前記基板に近接した位置にて前記中心軸を中心として回転することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1ないし7のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記チャンバ本体が、前記チャンバ蓋部の下方にて前記基板保持部の径方向外側に全周に亘って位置するカップ部を備え、
前記カップ部の下方に前記排出ポートが設けられることを特徴とする基板処理装置。
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