JP6280790B2 - 基板処理装置および基板処理方法 - Google Patents
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Images
Description
9 基板
10 制御部
21,21a チャンバ
22 チャンバ本体
23 チャンバ蓋部
31 基板保持部
35 基板回転機構
41 第1移動機構
42 第2移動機構
43 第3移動機構
51 遮蔽板
55 遮蔽板回転機構
91 (基板の)上面
186 スキャンノズル
198 蓋排気部
221 本体内部空間
222 上部開口
231 蓋内部空間
232 下部開口
233 蓋本体部
234 蓋底面部
235 (蓋底面部の)上面
237 蓋部排出ポート
511 (遮蔽板の)上面
512 (遮蔽板の)下面
810 洗浄液供給部
811 処理液供給部
812 ガス供給部
861 吐出ヘッド
862 ヘッド支持部
863 ヘッド回転機構
J1 中心軸
S11〜S22,S31〜S35 ステップ
Claims (10)
- 基板を処理する基板処理装置であって、
下部開口を有し、蓋内部空間を形成するチャンバ蓋部と、
本体内部空間を形成するとともに、前記下部開口と上下方向に対向する上部開口を有し、前記上部開口が前記チャンバ蓋部に覆われることにより、前記チャンバ蓋部と共にチャンバを形成するチャンバ本体と、
前記チャンバ内において水平状態で基板を保持する基板保持部と、
前記基板を前記基板保持部と共に前記チャンバに対して前記上下方向に相対的に移動する基板移動機構と、
前記本体内部空間に配置された際における前記基板の上面に処理液を供給する処理液供給部と、
前記蓋内部空間に配置された際における前記基板を前記基板保持部と共に前記上下方向を向く中心軸を中心として回転する基板回転機構と、
前記蓋内部空間に配置されて前記基板の前記上面に対向する遮蔽板と、
前記上下方向を向く中心軸を中心として前記遮蔽板を回転する遮蔽板回転機構と、
前記遮蔽板の上面に洗浄液を供給する洗浄液供給部と、
を備え、
前記蓋内部空間において、回転する前記遮蔽板の前記上面に供給された洗浄液が、遠心力により前記遮蔽板の前記上面から前記チャンバ蓋部の内側面へと飛散することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置であって、
前記蓋内部空間にガスを供給するガス供給部と、
前記蓋内部空間内のガスを排出する排気部と、
をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1または2に記載の基板処理装置であって、
前記遮蔽板を前記蓋内部空間において前記チャンバ蓋部に対して前記上下方向に相対的に移動する遮蔽板移動機構をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項3に記載の基板処理装置であって、
前記処理液供給部が、
前記蓋内部空間に配置され、前記基板の前記上面に向けて処理液を吐出する吐出部と、
前記吐出部を前記下部開口の上方の吐出位置と、前記蓋内部空間において前記下部開口に対して径方向に離れた待機位置とに選択的に配置する吐出部移動機構と、
を備え、
前記吐出部から前記基板への処理液の供給時に、前記吐出部が前記吐出位置に配置され、かつ、前記遮蔽板が前記吐出部の上方に配置され、
前記吐出部から前記基板への処理液の非供給時に、前記吐出部が前記待機位置に配置され、
前記遮蔽板の前記上面に洗浄液が供給される際に、洗浄液が前記遮蔽板の前記上面から前記待機位置に位置する前記吐出部へと飛散することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1ないし3のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記遮蔽板の前記上面に洗浄液が供給される間に、前記本体内部空間に配置された前記基板の前記上面に、前記処理液供給部により処理液が供給されることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1ないし5のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記チャンバ蓋部が、
上下を反転したカップ状の蓋本体部と、
前記蓋本体部の下端部から径方向内方に拡がるとともに中央部に前記下部開口が設けられた環状であり、上面が径方向外方へと向かうに従って下方に向かう蓋底面部と、
前記蓋底面部と前記蓋本体部との接続部に設けられ、前記蓋内部空間内の液体を排出する排出ポートと、
を備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1ないし6のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記洗浄液供給部が前記遮蔽板の下面にも洗浄液を供給することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1ないし7のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記チャンバ蓋部を前記チャンバ本体に対して前記上下方向に相対的に移動し、前記チャンバ本体の前記上部開口を前記チャンバ蓋部により覆うことにより、前記基板が内部に配置される前記チャンバを形成するチャンバ開閉機構をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項8に記載の基板処理装置であって、
前記チャンバが形成されるよりも前に、前記遮蔽板が前記チャンバ蓋部の前記下部開口を閉塞した状態で、前記蓋内部空間にガスが供給されて前記蓋内部空間に前記ガスが充填されることを特徴とする基板処理装置。 - 基板処理装置において基板を処理する基板処理方法であって、
前記基板処理装置が、
下部開口を有し、蓋内部空間を形成するチャンバ蓋部と、
本体内部空間を形成するとともに、前記下部開口と上下方向に対向する上部開口を有し、前記上部開口が前記チャンバ蓋部に覆われることにより、前記チャンバ蓋部と共にチャンバを形成するチャンバ本体と、
前記チャンバ内において水平状態で基板を保持する基板保持部と、
前記基板を前記基板保持部と共に前記チャンバに対して前記上下方向に相対的に移動する基板移動機構と、
前記本体内部空間に配置された際における前記基板の上面に処理液を供給する処理液供給部と、
前記蓋内部空間に配置された際における前記基板を前記基板保持部と共に前記上下方向を向く中心軸を中心として回転する基板回転機構と、
前記蓋内部空間に配置されて前記基板の前記上面に対向する遮蔽板と、
を備え、
前記基板処理方法が、
a)前記上下方向を向く中心軸を中心として前記遮蔽板を回転する工程と、
b)前記a)工程に並行して、前記遮蔽板の上面に洗浄液を供給する工程と、
を備え、
前記b)工程において、前記洗浄液が、遠心力により前記遮蔽板の前記上面から前記チャンバ蓋部の内側面へと飛散することを特徴とする基板処理方法。
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