JP5973300B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
9 基板
12 チャンバ
15,15a 基板回転機構
18 処理液供給部
120 内部空間
121 チャンバ本体
122 チャンバ蓋部
123 トッププレート
126 トッププレート移動機構
131 チャンバ開閉機構
141 基板支持部
142 基板押さえ部
151 ステータ部
152 ロータ部
181 上部ノズル
221 収容部
235 トッププレート軸部
241 第1係合部
242 第2係合部
261 第1磁石
262 第2磁石
263 磁石移動機構
J1 中心軸
S11〜S16 ステップ
Claims (7)
- 基板を処理する基板処理装置であって、
チャンバ本体およびチャンバ蓋部を有し、前記チャンバ蓋部により前記チャンバ本体の上部開口を閉塞することにより密閉された内部空間を形成するチャンバと、
前記チャンバ蓋部を前記チャンバ本体に対して上下方向に相対的に移動するチャンバ開閉機構と、
前記チャンバ内に配置され、水平状態で基板を支持する基板支持部と、
前記基板支持部の上方に配置され、前記基板に対向する前記上下方向を向く中心軸に垂直な下面を有するトッププレートと、
前記中心軸を中心とする周方向において前記トッププレートの前記基板支持部に対する相対位置を規制する位置規制部材と、
前記中心軸を中心として前記基板を前記基板支持部および前記トッププレートと共に回転する基板回転機構と、
前記基板上に処理液を供給する処理液供給部と、
磁力を利用して前記トッププレートを前記チャンバ蓋部に対して前記上下方向に相対的に移動することにより、前記基板の処理の際に前記トッププレートと前記基板との間の前記上下方向の距離を変更するトッププレート移動機構と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置であって、
前記中心軸を中心とする略円柱状であり、前記トッププレートの上面に固定されるトッププレート軸部をさらに備え、
前記トッププレート軸部の少なくとも一部が、前記チャンバ蓋部に設けられた略有蓋円筒状の収容部に収容され、
前記トッププレート移動機構が、
前記トッププレート軸部において、前記トッププレート軸部の外周面に沿って前記周方向に配置された第1磁石と、
前記チャンバ蓋部において前記収容部の周囲に前記周方向に配置される第2磁石と、
前記第2磁石を前記上下方向に移動することにより、前記トッププレート軸部を前記トッププレートと共に前記上下方向に移動する磁石移動機構と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1または2に記載の基板処理装置であって、
前記トッププレートの外周縁が、前記中心軸を中心とする径方向において、前記基板の外周縁よりも全周に亘って外側に位置することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1ないし3のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記トッププレートに固定される基板押さえ部をさらに備え、
前記基板支持部が、前記基板を下側から支持し、
前記トッププレート移動機構により前記トッププレートを下方に移動することにより、前記基板押さえ部を前記基板の外縁部に接触させて前記基板を上側から押さえることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1ないし4のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記処理液供給部が、前記トッププレートの中央から処理液を吐出することにより、前記トッププレートと前記基板との間を処理液で満たすノズルを含むことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1ないし5のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記基板回転機構が、
前記チャンバの前記内部空間に配置され、前記基板支持部が取り付けられる環状のロータ部と、
前記チャンバ外において前記ロータ部の周囲に配置され、前記ロータ部との間に回転力を発生するステータ部と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項6に記載の基板処理装置であって、
前記ロータ部が、前記ステータ部との間に働く磁力により、前記内部空間において浮遊状態にて回転することを特徴とする基板処理装置。
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