JP2015192051A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板処理装置1のチャンバ21は、上部開口222を有するチャンバ本体22と、下部開口232および側部開口239を有するチャンバ蓋部23とを備える。基板9の搬入および搬出の際には、基板は側部開口を通過する。側部開口は側部開口開閉機構39により開閉される。基板は、チャンバ本体の本体内部空間221とチャンバ蓋部の蓋内部空間231とに配置可能である。基板が本体内部空間に配置される際に、基板の上面91に処理液が供給され、基板が蓋内部空間に配置される際に、蓋内部空間に供給されるガスを用いて基板の乾燥処理が行われる。基板は、チャンバ内への搬入直後に蓋内部空間に配置されるため、次の基板のチャンバ内への搬入後、基板の周囲を迅速に、かつ、効率よくガス充填状態とすることができる。
【選択図】図1
Description
9 基板
11 ハウジング
12 外側開口開閉機構
21 チャンバ
22 チャンバ本体
23 チャンバ蓋部
31 基板保持部
35 基板回転機構
39 側部開口開閉機構
41 第1移動機構
42 第2移動機構
51 遮蔽板
91 (基板の)上面
112 外側開口
181 上部中央ノズル
198 蓋排気部
221 本体内部空間
222 上部開口
231 蓋内部空間
232 下部開口
239 側部開口
512 (遮蔽板の)下面
811 処理液供給部
812 ガス供給部
J1 中心軸
Claims (6)
- 基板を処理する基板処理装置であって、
下部開口および側部開口を有し、蓋内部空間を形成するチャンバ蓋部と、
本体内部空間を形成するとともに、前記下部開口と上下方向に対向する上部開口を有し、前記上部開口を覆う前記チャンバ蓋部と共にチャンバを形成するチャンバ本体と、
前記チャンバ内において水平状態で基板を保持する基板保持部と、
前記基板の前記チャンバ内への搬入および前記チャンバ外への搬出の際に前記基板が通過する前記側部開口を開閉する側部開口開閉機構と、
前記基板を前記基板保持部と共に前記チャンバに対して前記上下方向に相対的に移動する基板移動機構と、
前記本体内部空間に配置された際における前記基板の上面に処理液を供給する処理液供給部と、
前記蓋内部空間に配置された際における前記基板を前記基板保持部と共に前記上下方向を向く中心軸を中心として回転することにより前記基板を乾燥させる基板回転機構と、
前記蓋内部空間にガスを供給するガス供給部と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置であって、
前記蓋内部空間に配置されて前記基板の前記上面に対向する遮蔽板と、
前記遮蔽板を前記蓋内部空間に配置された前記基板の前記上面に近接する近接位置と、前記基板の前記上面から離間した離間位置とに選択的に配置する遮蔽板移動機構と、
をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項2に記載の基板処理装置であって、
前記蓋内部空間の径方向の大きさが前記下部開口よりも大きく、
前記チャンバ内に基板が配置されていない間に、前記遮蔽板が前記下部開口を閉塞することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項2または3に記載の基板処理装置であって、
前記ガス供給部が、前記遮蔽板の下面の中央部に設けられたガス噴出口を介して前記遮蔽板の前記下面と前記基板の前記上面との間の空間にガスを供給することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1ないし4のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記蓋内部空間内のガスを排出する排気部をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1ないし5のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記チャンバ蓋部および前記チャンバ本体の側方および上方を覆うとともに、水平方向において前記側部開口と対向する外側開口を有するハウジングと、
前記外側開口を開閉する外側開口開閉機構と、
をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。
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