JP4532508B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
120 支持板
140 支持軸
200 処理液供給部材
220 ノズル
300 処理液回収部材
300a、300b、300c 外部回収容器、内部回収容器、中間回収容器
304a、304b、304c 排出管
320a、320b、320c 外部ベース、内部ベース、中間ベース
340a、340b、340c 外部容器、内部容器、中間容器
400 排気部材
420 排気管
440 分離板
500 昇降部材
Claims (15)
- 複数の処理液を用いて基板を処理する装置において、
基板が置かれ、基板を回転させる支持部材と、
前記支持部材に置かれた基板上に複数の処理液を供給する処理液供給部材と、
前記支持部材が位置する空間を有し、前記処理液供給部材から供給された処理液を分離回収するように配置される複数の処理液回収容器を有する処理液回収部材と、
工程進行のとき、前記処理液から発生される汚染ガスを分離排気する排気部材と、
前記処理液回収容器の流入口に対する前記支持部材の相手高さを変化するために前記支持部材と前記処理液回収部材のうちの少なくともいずれか1つを移動させる昇降部材とを含み、
前記処理液回収容器は最内側に配置される内部回収容器と最外側に配置される外部回収容器とを有し、
前記内部回収容器は、
底壁、内側壁、及び外側壁を有し、内部に処理液及び汚染ガスが流入する空間を有し、処理液が排出される排出口及び前記内側壁に汚染ガスが排気される通路が形成された内部ベースと、
前記外側壁上に置かれ、処理液及び汚染ガスが前記内部ベースに形成された空間に流入する経路を有する内部容器と、を具備し、
前記外部回収容器は、
底壁と外側壁を有し、内部に処理液及び汚染ガスが流入する空間を有し、処理液の排出される排出口が形成された外部ベースと、
前記外部ベースの外側壁上に置かれ、処理液及び汚染ガスが前記外部ベースに形成された空間に流入する経路を有する外部容器と、を具備し、
前記外部ベースには複数の排気口が形成され、
前記排気部材は、
前記排気口のそれぞれに結合する排気管と、
前記内部容器及び内部ベースを通じて前記外部ベース内の空間に流入した汚染ガスと、前記外部容器を通じて前記外部ベース内の空間に流入した汚染ガスが分離排出されるように前記外部ベース内の空間を区画する分離板と、を含むことを特徴とする基板処理装置。 - 前記処理液回収容器のそれぞれは前記支持部材を囲むように配置され、前記処理液回収容器が前記支持部材から遠く位置するほど前記処理液回収容器の流入口は高く配置されることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記内部ベースの外側壁の上端と前記内部容器の下端には互いにかみ合わさるように溝または突起が形成されることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記排気口は前記外部ベースの端領域に配置され、
前記分離板は、
前記分離板の内部に区画された空間が前記内部ベースに形成された開口と通じて、前記排気口のうちの少なくとも1つの排気口を含み、前記分離板の外部に区画された空間が前記外部容器と通じて、前記排気口のうちの少なくとも1つの排気口を含むようになされることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記排気口は前記外部ベースの端領域に配置され、
前記分離板は、
前記外部ベースの端領域と中央領域の境界に沿って配置され、内部空間が前記内部ベースの開口と通じるように形成される境界部と、
前記排気口のうち選択された一部排気口と通じて、前記境界部の内部空間から延長された空間を有するように前記境界部から前記端領域に突き出される拡張部とを含むことを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記外部ベース上には上部に突き出された突起が形成され、
前記分離板の下端には前記外部ベース上に形成された突起と相応する形状を有する溝が形成され、
前記分離板の溝と前記外部ベースの突起がかみ合わさるように前記分離板が前記外部ベース上に置かれ、前記分離板と前記外部ベースが結合することを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記排気管はその先端が前記外部ベースの底壁から上部に一定距離突き出されて配置されるように設けられることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記処理液回収容器は前記内部回収容器と前記外部回収容器との間に配置される少なくとも1つの中間回収容器をさらに含み、
前記中間回収容器は、
底壁、内側壁、及び外側壁を有し、内部に処理液及び汚染ガスが流入される空間を提供し、処理液が排出される排出口及び前記内側壁に汚染ガスが排気される通路が形成された中間ベースと、
前記外側壁上に置かれ、処理液及び汚染ガスが前記内部ベースに形成された空間に流入する経路を有する中間容器と、を具備することを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記中間ベースと前記内部ベースは一体に形成され、
前記内部ベースの外側壁の上端と前記内部容器の下端には互いにかみ合わさるように溝または突起が形成され、前記内部容器が前記内部ベースに置かれることで前記内部容器と前記内部ベースが結合し、
前記中間ベースの外側壁の上端と前記中間容器の下端には互いにかみ合わさるように溝または突起が形成され、前記中間容器が前記中間ベースに置かれることで前記中間通過前記中間ベースが結合し、
前記外部ベースの外側壁の上端と前記外部容器の下端には互いにかみ合わさるように溝または突起が形成され、前記外部容器が前記外部ベースに置かれることで前記外部容器と前記外部ベースが結合することを特徴とする請求項8に記載の基板処理装置。 - 前記処理液は互いに異なっている時期に前記支持部材上に置かれた基板に供給される少なくとも2種類のエッチング液を含むことを特徴とする請求項1乃至請求項9のうちのいずれか1項に記載の基板処理装置。
- 前記処理液は前記エッチング液と互いに異なっている時期に前記支持部材上に置かれた基板に供給される洗浄液をさらに含むことを特徴とする請求項10に記載の基板処理装置。
- 前記処理液は互いに異なっている時期に前記支持部材上に置かれた基板に供給される少なくとも2種類のエッチング液と前記エッチング液と互いに異なっている時期に前記支持部材上に置かれた基板に供給される洗浄液とを含み、
前記装置は前記昇降部材を制御する制御器をさらに含み、
前記制御器は、前記洗浄液は外部排気容器を通じて排出され、前記エッチング液は内部排気容器または中間排気容器を通じて排出されるように前記昇降部材を制御することを特徴とする請求項8に記載の基板処理装置。 - 前記支持部材は前記基板が置かれる支持板、前記支持板を支持する支持軸、及び前記支持軸を回転させる基板駆動器を有し、
前記処理液供給部材は工程進行のとき、前記支持板に置かれた基板の上部に配置されるノズル、前記ノズルと結合する支持台、及び前記ノズルが前記支持板に置かれた基板の上部とこれから外れた位置に移動するように前記支持台を駆動するノズル駆動器を有し、
前記昇降部材は前記支持板及び前記支持台が固定結合したベースと前記ベースを昇下降させる垂直駆動器を含むことを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記外部ベースには複数の排気口が形成され、
前記排気部材は、
前記排気口のそれぞれに結合する排気管と、
前記内部容器、前記外部容器、及び前記中間容器を通じて前記外部ベース内の空間に流入された処理液のうちエッチング液が互いに異なっている排気管を通じて排気されるように前記外部ベース内の空間を複数個に分離する分離板を含むことを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記内部ベースに形成された排出口は前記内部ベースの底壁に提供され、前記外部ベースに形成された排出口は前記外部ベースの底壁に提供されることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
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