KR102042362B1 - 기판처리장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 기판처리장치에 관한 것으로서, 기판처리장치는, 기판을 지지하는 지지 유닛; 상기 기판 상에 처리액을 분사하는 액공급 유닛; 및 상기 지지 유닛을 겹겹이 둘러싸는 복수의 회수통을 포함하고, 상기 복수의 회수통 각각은, 상기 회수통의 둘레를 형성하는 측벽과, 상기 측벽 상단에서 내측방향으로 연장형성되는 경사면을 포함하고, 상기 복수의 회수통 중 가장 내측에 배치되는 내측회수통의 측벽은, 상부측벽과, 상기 상부측벽의 하단부에 결합되는 하부측벽과, 상기 내측회수통의 열팽창에 의한 인접회수통의 들림을 방지하기 위해, 상기 인접회수통의 경사면의 접촉하중에 의해 상기 내측회수통의 경사면 및 상부측벽이 하강가능하도록, 상기 상부측벽과 상기 하부측벽 사이에 구비되는 복수의 탄성부재를 포함한다.

Description

기판처리장치{A SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS}

본 발명은 기판처리장치에 관한 것으로서, 고온공정 진행 시 열팽창에 의한 회수통의 들뜸을 방지할 수 있는 기판처리장치에 관한 것이다.

일반적으로 평판 표시 소자 제조나 반도체 제조 공정에서 유리 기판이나 웨이퍼를 처리하는 공정에는 감광액 도포 공정(photoresist coating process), 현상 공정(developing process), 식각 공정(etching process), 애싱 공정(ashing process) 등 다양한 공정이 수행된다.

각 공정에는 기판에 부착된 각종 오염물을 제거하기 위해, 약액(chemical) 또는 순수(deionized water)를 이용한 세정 공정(wet cleaning process)과 기판 표면에 잔류하는 약액 또는 순수를 건조시키기 위한 건조(drying process) 공정이 수행된다.

최근에는 황산이나 인산과 같은 고온에서 사용되는 약액을 이용하여 실리콘 질화막 및 실리콘 산화막을 선택적으로 제거하는 식각 공정을 진행하고 있다.

고온의 약액을 이용한 기판 처리 장치에서는 식각률을 개선하기 위해 기판을 가열하는 기판 가열 장치가 적용되고 있으며, 출원번호 10-2014-0087756인 발명을 예로 들 수 있다.

상기 발명은, 기판처리장치에 관한 것으로서, 기판처리장치는 내측회수통, 중간회수통, 외측회수통으로 구성되는 처리용기와, 처리용기 내에 기판을 지지하는 기판지지 유닛을 포함한다. 기판지지 유닛 내에는 적외선 램프로 구성되는 기판가열 유닛이 구비되며, 기판처리장치는 기판가열 유닛을 이용하여 기판지지 유닛에 의해 지지되는 기판을 균일하게 가열할 수 있다.

한편, 기판지지 유닛의 회전에 의해 기판에서 비산되는 고온 약액의 전도열과, 적외선 램프에 의한 복사열은 내측회수통을 열팽창시킬 수 있다. 이때, 인접회수통이 열팽창된 내측회수통에 의해 밀려서 들뜰 수 있다. 인접회수통이 들뜨게 되면, 내부 기류의 변화로 공정불량 문제를 일으킬 수 있다.

본 발명은, 고온공정 시 내측회수통이 열팽창에 의한 인접한 회수통의 들뜸을 방지할 수 있는 기판처리장치를 제공하고자 한다.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 기판처리장치는, 기판을 지지하는 지지 유닛과, 상기 기판 상에 처리액을 분사하는 액공급 유닛; 및 상기 지지 유닛을 겹겹이 둘러싸는 복수의 회수통을 포함하고, 상기 복수의 회수통 각각은, 상기 회수통의 둘레를 형성하는 측벽과, 상기 측벽 상단에서 내측방향으로 연장형성되는 경사면을 포함하고, 상기 복수의 회수통 중 가장 내측에 배치되는 내측회수통의 측벽은, 상부측벽과, 상기 상부측벽의 하단부에 결합되는 하부측벽과, 상기 내측회수통의 열팽창에 의한 인접회수통의 들림을 방지하기 위해, 상기 인접회수통의 경사면의 접촉하중에 의해 상기 내측회수통의 경사면 및 상부측벽이 하강가능하도록, 상기 상부측벽과 상기 하부측벽 사이에 구비되는 복수의 탄성부재를 포함한다.

본 발명의 실시예에 의하면, 상기 탄성부재는, 상기 인접회수통의 경사면에 의한 접촉하중이 상기 내측회수통에 미치는 경우, 상기 접촉하중에 의해 압축되어 상기 인접회수통의 들림을 방지한다.

본 발명의 실시예에 의하면, 상기 인접회수통의 경사면에 의한 접촉하중이 상기 내측회수통에 미치지 않는 경우 상기 상부측벽을 설정된 높이로 유지하기 위해 상기 상부측벽을 상기 하부측벽으로부터 일정한 힘으로 밀어올리는 기판처리장치.

본 발명의 실시예에 의하면, 상기 탄성부재는 스프링 및 판스프링 중 어느 하나이다.

본 발명의 실시예에 의하면, 상기 탄성부재는 내식성의 플라스틱 재질이다.

본 발명의 실시예에 의하면, 내측회수통에 탄성부재가 적용되었을 때, 열팽창되는 내측회수통에 의한 회수통들의 굽힘변형 정도를 완화하고, 열팽창되는 내측회수통에 의한 인접회수통의 들림이 방지될 수 있다.

본 발명의 실시예에 의하면, 열팽창되는 내측회수통에 의한 인접회수통의 들림이 방지됨으로써, 내부기류의 변화도 방지되고 공정불량을 방지될 수 있다.

도 1은 본 발명의 일 예에 따른 기판 처리 장치가 제공된 기판 처리 설비의 일 예를 개략적으로 나타낸 평면도이다.
도 2는 도 1의 기판처리장치의 단면도이다.
도 3은 도 2의 기판처리장치의 일부 단면도이다.
도 4는 도 3의 처리용기를 개략적으로 도시한 일부 단면도이다.
도 5는 도 4에 도시된 내측회수통의 열팽창 시와 열팽창되지 않을 때의 상태를 비교하기 위한 도면이다.
도 6은 도 4에 도시된 다양한 탄성부재가 적용된 내측회수통의 일부를 도시한 도면이다.
도 7의 탄성부재가 적용되지 않은 내측회수통과 탄성부재가 적용된 내측회수통에 의한 굽힘변형 정도에 대한 실험결과를 비교하기 위한 도면이다.
도 8은 도 4에 도시된 처리용기의 변형 실시예를 나타낸 일부단면도이다.

이하, 본 발명의 실시 예를 첨부된 도면들을 참조하여 더욱 상세하게 설명한다. 본 발명의 실시 예는 여러 가지 형태로 변형할 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래의 실시 예들로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시 예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장되었다.

도 1은 본 발명의 기판 처리 설비(10)를 개략적으로 나타낸 평면도이다.

도 1을 참조하면, 기판 처리 설비(10)는 인덱스 모듈(100)과 공정 처리 모듈(200)을 포함한다. 인덱스 모듈(100)은 로드포트(120) 및 이송프레임(140)을 포함한다. 로드포트(120), 이송프레임(140), 그리고 공정 처리 모듈(200)은 순차적으로 일렬로 배열된다. 이하, 로드포트(120), 이송프레임(140), 그리고 공정 처리 모듈(200)이 배열된 방향을 제1방향(12)이라 한다. 그리고 상부에서 바라볼 때 제1방향(12)과 수직한 방향을 제2방향(14)이라 하고, 제1방향(12)과 제2방향(14)을 포함한 평면에 수직인 방향을 제3방향(16)이라 한다.

로드포트(120)에는 기판(W)이 수납된 캐리어(130)가 안착된다. 로드포트(120)는 복수 개가 제공되며 이들은 제2 방향(14)을 따라 일렬로 배치된다. 도 1에서는 네 개의 로드포트(120)가 제공된 것으로 도시하였다. 그러나 로드포트(120)의 개수는 공정 처리 모듈(200)의 공정효율 및 풋 프린트 등의 조건에 따라 증가하거나 감소할 수도 있다. 캐리어(130)에는 기판의 가장자리를 지지하도록 제공된 슬롯(도시되지 않음)이 형성된다. 슬롯은 제3방향(16)으로 복수 개가 제공된다. 기판은 제3방향(16)을 따라 서로 이격된 상태로 적층되게 캐리어(130)내에 위치된다. 캐리어(130)로는 전면 개방 일체형 포드(Front Opening Unified Pod;FOUP)가 사용될 수 있다.

공정 처리 모듈(200)은 버퍼유닛(220), 이송챔버(240), 그리고 공정챔버(260)를 포함한다. 이송챔버(240)는 그 길이 방향이 제1방향(12)과 평행하게 배치된다. 제2방향(14)를 따라 이송챔버(240)의 일측 및 타측에는 각각 공정챔버들(260)이 배치된다. 이송챔버(240)의 일측에 위치한 공정챔버들(260)과 이송챔버(240)의 타측에 위치한 공정챔버들(260)은 이송챔버(240)를 기준으로 서로 대칭이 되도록 제공된다. 공정챔버(260)들 중 일부는 이송챔버(240)의 길이 방향을 따라 배치된다. 또한, 공정챔버(260)들 중 일부는 서로 적층되게 배치된다. 즉, 이송챔버(240)의 일측에는 공정챔버(260)들이 A X B(A와 B는 각각 1이상의 자연수)의 배열로 배치될 수 있다. 여기서 A는 제1방향(12)을 따라 일렬로 제공된 공정챔버(260)의 수이고, B는 제3방향(16)을 따라 일렬로 제공된 공정챔버(260)의 수이다. 이송챔버(240)의 일측에 공정 챔버(260)가 4개 또는 6개 제공되는 경우, 공정챔버(260)들은 2 X 2 또는 3 X 2의 배열로 배치될 수 있다. 공정챔버(260)의 개수는 증가하거나 감소할 수도 있다. 상술한 바와 달리, 공정챔버(260)는 이송챔버(240)의 일측에만 제공될 수 있다. 또한, 상술한 바와 달리, 공정챔버(260)는 이송챔버(240)의 일측 및 양측에 단층으로 제공될 수 있다.

버퍼유닛(220)은 이송프레임(140)과 이송챔버(240) 사이에 배치된다. 버퍼 유닛(220)은 이송챔버(240)와 이송프레임(140) 간에 기판(W)이 반송되기 전에 기판(W)이 머무르는 공간을 제공한다. 버퍼유닛(220)은 그 내부에 기판(W)이 놓이는 슬롯(미도시)이 제공되며, 슬롯(미도시)들은 서로 간에 제3방향(16)을 따라 이격되도록 복수 개 제공된다. 버퍼유닛(220)에서 이송프레임(140)과 마주보는 면과 이송챔버(240)와 마주보는 면 각각이 개방된다.

이송프레임(140)은 로드포트(120)에 안착된 캐리어(130)와 버퍼유닛(220) 간에 기판(W)을 반송한다. 이송프레임(140)에는 인덱스레일(142)과 인덱스로봇(144)이 제공된다. 인덱스레일(142)은 그 길이 방향이 제2방향(14)과 나란하게 제공된다. 인덱스로봇(144)은 인덱스레일(142) 상에 설치되며, 인덱스레일(142)을 따라 제2방향(14)으로 직선 이동된다. 인덱스로봇(144)은 베이스(144a), 몸체(144b), 그리고 인덱스암(144c)을 가진다. 베이스(144a)는 인덱스레일(142)을 따라 이동 가능하도록 설치된다. 몸체(144b)는 베이스(144a)에 결합된다. 몸체(144b)는 베이스(144a) 상에서 제3방향(16)을 따라 이동 가능하도록 제공된다. 또한, 몸체(144b)는 베이스(144a) 상에서 회전 가능하도록 제공된다. 인덱스암(144c)은 몸체(144b)에 결합되고, 몸체(144b)에 대해 전진 및 후진 이동 가능하도록 제공된다. 인덱스암(144c)은 복수 개 제공되어 각각 개별 구동되도록 제공된다. 인덱스암(144c)들은 제3방향(16)을 따라 서로 이격된 상태로 적층되게 배치된다. 인덱스암(144c)들 중 일부는 공정처리 모듈(200)에서 캐리어(130)로 기판(W)을 반송할 때 사용되고, 다른 일부는 캐리어(130)에서 공정 처리 모듈(200)로 기판(W)을 반송할 때 사용될 수 있다. 이는 인덱스로봇(144)이 기판(W)을 반입 및 반출하는 과정에서 파티클이 기판(W)에 부착되는 것을 방지할 수 있다.

이송챔버(240)는 버퍼유닛(220)과 공정챔버(260) 간에, 그리고 공정챔버(260)들 간에 기판(W)을 반송한다. 이송챔버(240)에는 가이드레일(242)과 메인로봇(244)이 제공된다. 가이드레일(242)은 그 길이 방향이 제1방향(12)과 나란하도록 배치된다. 메인로봇(244)은 가이드레일(242) 상에 설치되고, 가이드레일(242) 상에서 제1방향(12)을 따라 직선 이동된다. 메인로봇(244)은 베이스(244a), 몸체(244b), 그리고 메인암(244c)을 가진다. 베이스(244a)는 가이드레일(242)을 따라 이동 가능하도록 설치된다. 몸체(244b)는 베이스(244a)에 결합된다. 몸체(244b)는 베이스(244a) 상에서 제3방향(16)을 따라 이동 가능하도록 제공된다. 또한, 몸체(244b)는 베이스(244a) 상에서 회전 가능하도록 제공된다. 메인암(244c)은 몸체(244b)에 결합되고, 이는 몸체(244b)에 대해 전진 및 후진 이동 가능하도록 제공된다. 메인암(244c)은 복수 개 제공되어 각각 개별 구동되도록 제공된다. 메인암(244c)들은 제3 방향(16)을 따라 서로 이격된 상태로 적층되게 배치된다. 버퍼유닛(220)에서 공정챔버(260)로 기판(W)을 반송할 때 사용되는 메인암(244c)과 공정챔버(260)에서 버퍼유닛(220)으로 기판(W)을 반송할 때 사용되는 메인암(244c)은 서로 상이할 수 있다.

공정챔버(260) 내에는 기판(W)에 대해 식각 공정을 수행하는 기판 처리 장치(1000)가 제공된다. 각각의 공정챔버(260) 내에 제공된 기판 처리 장치(1000)는 수행하는 식각 공정의 종류에 따라 상이한 구조를 가질 수 있다.

선택적으로 각각의 공정챔버(260) 내의 기판 처리 장치(1000)는 동일한 구조를 가질 수 있다. 선택적으로 공정챔버(260)들은 복수 개의 그룹으로 구분되어, 동일한 그룹에 속하는 공정챔버(260)에 제공된 기판 처리 장치(1000)들은 서로 동일한 구조를 가지고, 상이한 그룹에 속하는 공정챔버(260)에 제공된 기판 처리 장치(1000)들은 서로 상이한 구조를 가질 수 있다. 예컨대, 공정챔버(260)가 2개의 그룹으로 나누어지는 경우, 이송챔버(240)의 일측에는 제1그룹의 공정챔버들(260)이 제공되고, 이송챔버(240)의 타측에는 제2그룹의 공정 챔버들(260)이 제공될 수 있다. 선택적으로 이송챔버(240)의 일측 및 타측 각각에서 하층에는 제1그룹의 공정챔버(260)들이 제공되고, 상층에는 제2그룹의 공정챔버(260)들이 제공될 수 있다. 제1그룹의 공정챔버(260)와 제2그룹의 공정챔버(260)는 각각 사용되는 케미컬의 종류나, 식각 방식의 종류에 따라 구분될 수 있다.

아래에서는 처리액을 이용하여 기판(W)을 식각하는 기판 처리 장치(1000)의 일 예를 설명한다. 아래의 실시예에서는 고온의 인산, 고온의 황산, 알카리성 약액, 산성 약액, 린스액, 그리고 건조가스와 같은 처리유체들을 사용하여 기판(W)을 식각하는 장치를 예로 들어 설명한다. 그러나 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정되지 않으며, 기판(W)을 회전시키면서 공정을 수행하는 다양한 종류의 장치에 모두 적용될 수 있다.

도 2는 도1의 기판 처리 장치의 단면도이고, 도 3은 도 2의 기판처리장치의 일부 단면도이다. 한편, 도면에 도시된 처리 용기(1200)는 3개로 도시되었으나, 회수통의 개수는 이에 제한되지 않는다.

도 2 및 도 3을 참조하면, 기판 처리 장치(1000)는 하우징(1100), 처리 용기(1200), 지지 유닛(1400), 액 공급 유닛(1500), 승강 유닛(2000), 그리고 기류 공급 유닛(1700)을 포함한다.

하우징(1100)은 밀페된 내부 공간을 제공한다. 하우징(1100)은 직육면체 형상으로 제공될 수 있다.

지지 유닛(1400)은 처리 용기(1200) 내에 배치된다. 지지 유닛(1400)은 공정 진행 중 기판(W)을 지지하고 기판(W)을 회전시킨다. 지지 유닛(1400)은 몸체(1410), 지지 핀(1430), 척 핀(1450), 가열 유닛(1460), 그리고 지지축(1470)을 포함한다.

몸체(1410)는 상부에서 바라볼 때 대체로 원형으로 제공되는 상부면을 가진다. 몸체(1410)의 저면에는 모터에 의해 회전 가능한 지지축(1470)이 고정결합된다.

지지 핀(1430)은 복수 개 제공된다. 지지 핀(1430)은 몸체(1410)의 상부면의 가장자리부에 소정 간격으로 이격되게 배치되고 몸체(1410)에서 상부로 돌출된다. 지지 핀들(1430)은 서로 간에 조합에 의해 전체적으로 환형의 링 형상을 가지도록 배치된다. 지지 핀(1430)은 몸체(1410)의 상부면으로부터 기판(W)이 일정거리 이격되도록 기판(W)의 후면 가장자리를 지지한다.

척 핀(1450)은 복수 개 제공된다. 척 핀(1450)은 몸체(1410)의 중심에서 지지 핀(1430)보다 멀리 떨어지게 배치된다. 척 핀(1450)은 몸체(1410)에서 상부로 돌출되도록 제공된다. 척 핀(1450)은 지지 유닛(1400)이 회전될 때 기판(W)이 정 위치에서 측 방향으로 이탈되지 않도록 기판(W)의 측부를 지지한다. 척 핀(1450)은 몸체(1410)의 반경 방향을 따라 대기 위치와 지지 위치 간에 직선 이동 가능하도록 제공된다. 대기 위치는 지지 위치에 비해 몸체(1410)의 중심으로부터 멀리 떨어진 위치이다. 기판(W)이 몸체(1410)에 로딩 또는 언 로딩시에는 척 핀(1450)은 대기 위치에 위치되고, 기판(W)에 대해 공정 수행시에는 척 핀(1450)은 지지 위치에 위치된다. 지지 위치에서 척 핀(1450)은 기판(W)의 측부와 접촉된다.

가열 유닛(1460)은 지지 유닛(1400) 내에 구비되어 기판을 가열한다. 가열 유닛(1460)은 식각공정에서 식각율(etching rate: ER)을 높이기 위한 것으로서, 지지 유닛(1400)의 중앙에 도포되는 처리액이 회전에 의해 확산 시, 기판의 위치별 온도차에 의해 발생되는 식각율 불균일을 방지할 수 있다. 가열 유닛(1460)은 상이한 직경을 가지고 서로 이격되게 배치되며, 링 형상으로 제공되는 복수의 IR 램프들로 구성될 수 있다. 각 IR 램프(252)에는 온도센서 어셈블리가 구성되어 있어 각각 제어가 가능할 수 있다. 한편 IR 램프(252)는 E/R를 향상시킬 수 있지만, IR램프로(252)로부터의 복사열은 회수통(1200)의 열팽창을 일으킬 수 있다.

액 공급 유닛(1500)은 기판 처리 공정 시 기판(W)으로 식각을 위한 공정처리액을 공급한다. 액 공급 유닛(1500)은 노즐 지지대(1510), 노즐(1530), 지지축(1550), 그리고 구동기(1570)를 포함한다. 지지축(1550)은 그 길이 방향이 제3방향(16)을 따라 제공되고, 지지축(1550)의 하단에는 구동기(1570)가 결합된다. 구동기(1570)는 지지축(1550)을 회전 및 승강 운동한다. 노즐 지지대(1510)는 구동기(1570)와 결합된 지지축(1550)의 끝단 반대편과 수직하게 결합된다. 노즐(1530)은 노즐 지지대(1510)의 끝단 저면에 설치된다. 노즐(1530)은 구동기(1570)에 의해 공정 위치와 대기 위치로 이동된다. 공정 위치는 노즐(1530)이 처리 용기(1200)의 수직 상부에 배치된 위치이고, 대기위치는 노즐(1530)이 처리 용기(1200)의 수직 상부로부터 벗어난 위치이다. 액 공급 유닛(1500)은 복수 개가 제공될 수 있다. 액 공급 유닛(1500)이 복수 개 제공되는 경우, 각 공급 유닛(1500)은 서로 상이한 공정처리액을 기판에 제공할 수 있다.

공정처리액은 복수의 처리액을 포함하며, 예를 들어, 공정처리액은 고온의 인산, 황산, 알카리성 약액, 산성 약액, 린스액, 그리고 건조가스 중 적어도 하나를 포함한다. 공정처리액 중 인산은 고온 상태에서 기판(W)에 토출되며, 기판(W)의 회전에 의해 비산되는 고온의 인산은, 지지 유닛(1400) 내의 가열 유닛(1460)의 복사열과 함께 내측 회수통(1210)의 열팽창을 일으키는 주요 원인이 될 수 있다. 이와는 다르게, 지지유닛(1400)의 회수통(1200)에 대한 높이에 따라 다른 회수통의 열팽창이 발생될 수도 있다.

기류 공급 유닛(1700)은 하우징(1100) 내부로 외기를 공급한다. 기류 공급 유닛(1700)은 하우징(1100)의 상부에 설치된다. 기류 공급 유닛(1700)은 고습도 외기를 필터링하여 하우징(1100)에 공급하여 하강기류를 형성한다. 하강 기류는 기판(W)의 상부에 균일한 기류를 제공한다.

처리용기(1200)는 기판(W) 처리 공정이 수행되는 처리 공간을 제공하며, 그 상부는 개방된다. 처리 용기(1200)는 복수의 회수통(1210, 1230, 1250)과 베이스 통(1280)을 포함한다. 복수의 회수통(1210, 1230, 1250)은 지지 유닛(1400)을 겹겹이 둘러싸는 형태로 구비된다.

각각의 회수통(1210,1230,1250)은 공정에 사용된 처리액 중 서로 상이한 처리액을 회수한다. 제1회수통(1210)은 지지 유닛(1400)을 감싸는 환형의 링 형상으로 제공되고, 제2회수통(1230)은 제1회수통(1210)을 감싸는 환형의 링 형상으로 제공되고, 제3회수통(1250)은 제2회수통(1230)을 감싸는 환형의 링 형상으로 제공된다.

회수통들(1210,1230,1250)의 상하로 적층되게 제공되며, 승강 유닛(2000)의 의해 개별적으로 회수통(1210,1230,1250)의 입구 개방이 가능하다. 제1회수통(1210)의 내측공간(R1), 제1회수통(1210)과 제2회수통(1230)의 사이 공간(R2), 제2회수통(1230)과 제3회수통(1250)의 사이 공간(R3)는 각각 제1회수통(1210), 제2회수통(1230), 제3회수통(1250)으로 처리액이 유입되어 배수관(1290)으로 흐르도록 공간을 제공한다. 각각의 회수통(1210,1230,1250)에는 그 저면 아래 방향으로 수직하게 연장되는 배수관(1290)이 연결된다. 각각의 배수관(1290)은 각각의 회수통(1210,1230,1250)을 통해 유입된 처리액을 배출한다. 배출된 처리액은 외부의 처리액 재생 시스템을 통해 재사용될 수 있다.

제1회수통(1210)은 내벽(1211), 바닥벽(1213), 외벽(1215), 그리고 안내벽(1217)을 가진다. 내벽(1211), 바닥벽(1213), 외벽(1215), 그리고 안내벽(1217)은 각각은 링 형상을 가진다.

외벽(1215)은 지지 유닛(1400)으로부터 멀어지는 방향으로 하향 경사진 경사면(1215a)과, 회수통의 둘레를 형성하며 경사면(1215a)의 하단으로부터 아래 방향으로 수직하게 연장되는 측벽(1215b)을 가진다. 제1 회수통(1210)의 측벽(1215b)의 구성에 대해서는 뒤에서 설명하도록 한다.

바닥벽(1213)은 측벽(1215b)의 하단으로부터 지지 유닛(1400)을 향하는 방향으로 수평하게 연장된다. 바닥벽(1213)의 끝단은 경사면(1215a)의 상단과 동일한 위치까지 연장된다. 내벽(1211)은 바닥벽(1213)의 안쪽 끝단으로부터 위 방향으로 수직하게 연장된다. 내벽(1211)은 그 상단이 경사면(1215a)의 상단과 일정거리 이격되도록 하는 위치까지 연장된다.

내벽(1211)에는 링을 이루는 배치로 복수의 개구들이 형성된다. 각각의 개구들은 슬릿 형상으로 제공된다. 개구는 제1회수통(1210)으로 유입된 가스들이 지지 유닛(1400) 내 아래 공간을 통해 외부로 배출되도록 하는 배기구로서 기능한다. 바닥벽(1213)에는 배수관(1291)이 결합된다. 제1회수통(1210)을 통해 유입된 처리액은 배수관(1291)을 통해 외부로 배출된다.

안내벽(1217)은 유입구를 통해 유입된 처리액이 외벽(1215), 바닥벽(1213), 내벽(1211)으로 둘러싸인 공간(R1)으로 원활하게 흐를 수 있도록 안내한다.

제2회수통(1230)은 내벽(1231), 바닥벽(1233) 그리고 외벽(1235)을 포함한다. 제2회수통(1230)의 내벽(1231), 바닥벽(1233) 그리고 외벽(1235)은 제1회수통(1210)의 외벽(1215), 바닥벽(1213), 그리고 내벽(1211)과 대체로 유사한 형상을 가지나, 제2회수통(1230)이 제1회수통(1210)을 감싸도록 제1회수통(1210)에 비해 큰 크기를 갖는다. 제2회수통(1230)의 외벽(1235)의 경사면(1235a)의 상단과 제1회수통(1210)의 외벽(1215)의 경사면(1215a)의 상단은 상하 방향으로 서로 적층되게 위치되며, 서로 이격시 이격된 공간은 제2회수통(1230)의 유입구로서 기능한다. 제2회수통(1230)의 내벽(1231)의 상단은 제1회수통(1210)의 바닥벽(1213)의 끝단과 접촉된다. 제2회수통(1230)의 내벽(1231)에는 가스의 배출을 위한 슬릿 형상의 배기구들이 링을 이루는 배열로 제공된다. 바닥벽(1233)에는 배수관(1293)이 결합되며, 제2회수통(1230)을 통해 유입된 처리액은 배수관(1293)을 통해 외부로 배출된다.

제3회수통(1250)은 내벽(1251), 바닥벽(1253) 그리고 외벽(1255)을 가진다. 제3회수통(1250)의 내벽(1251), 바닥벽(1253) 그리고 외벽(125)은 제2회수통(1230)의 내벽(1231), 바닥벽(1233), 그리고 외벽(1235)과 대체로 유사한 형상을 가지나, 제3회수통(1250)이 제2회수통(1230)을 감싸도록 제2회수통(1230)에 비해 큰 크기를 갖는다. 제3회수통(1250)의 외벽(1255)의 경사면(1255a)의 상단과 제2회수통(1230)의 외벽(1235)의 경사면(1235b)의 상단은 상하 방향으로 적층되게 위치되며, 서로 이격시 이격된 공간은 제3회수통(1250)의 유입구로서 기능한다. 바닥벽(1253)에는 배수관(1295)이 결합되고, 제3회수통(1250)을 통해 유입된 처리액은 배수관(1295)을 통해 외부의 처리액 재생을 위한 시스템으로 배출된다.

베이스통(1280)은 처리 용기(1200)를 감싸며 원형의 형상으로 제공된다. 베이스통(1280)은 외벽(1283), 바닥벽(1285), 그리고 배기구(1281)를 가진다. 베이스통(1280)은 처리 용기(1200)의 전체의 외벽(1283)으로 기능한다.

외벽(1283)의 회수통들(1210,1230,1250)의 외벽에서 처리 용기(1200)의 외측 방향으로 제공된다. 외벽(1283)은 링형상으로 제공된다. 외벽(1283)의 내부에는 베이스(2100)와 회수통들(1210,1230,1250)이 제공된다. 바닥벽(1285)의 끝단은 외벽(1283)과 접촉된다. 바닥벽(1285)에는 배수관(1290)들이 연결된다. 바닥벽(1285)에 제공되는 배수관(1290)들은 회수통들(1210,1230,1250)에 제공되는 배수관(1291,1293,1295)에 대향되는 위치에 연결되어 제공된다. 또한 바닥벽(1285)에는 기류들이 빠져나갈 수 있는 배기구(1281)가 제공된다. 배기구(1281)에서는 기판 처리 공정 중에 발생하는 이물질은 기류와 함께 배출되도록 한다.

승강 유닛(2000)은 회수통(1210,1230,1250)에 결합되어 회수통(1210,1230,1250)을 각각 승하강시킨다. 승강 유닛(2000)은 제1승강 유닛(2010), 제2승강 유닛(2030), 제3승강 유닛(2050)을 포함한다. 각각의 승강 유닛(2010,2030,2050)은 베이스(2100), 승강로드(2300) 그리고 구동기(2500)를 가진다.

베이스(2100)는 회수통(1210,1230,1250)에 결합되어 제공된다. 베이스(2100)는 제1베이스(2110), 제2베이스(2130) 그리고 제3베이스(2150)를 포함한다. 승강 로드(2300)는 대응되는 구동기(2500)와 결합되어 회수통(1210,1230,1250)을 상하로 이동시킬 수 있게 한다. 승강 로드(2300)는 제1승강 로드(2301), 제2승강 로드(2303), 제3승강 로드(2305)를 포함한다. 각각의 승강 로드(2300)는 수직 로드(2310), 지지부(2330) 그리고 플랜지(2350)를 포함할 수 있다. 각각의 구동기(2500)는 대응되는 승강 로드(2300)와 결합되어 회수통을 상하로 이동시킨다.

지지부(2330)는 베이스(2100)에 결합되어 제공된다. 지지부(2330)는 플레이트로 제공될 수 있다. 지지부(2330)는 제1지지부(2331), 제2지지부(2333), 제3지지부(2335)를 포함한다. 지지부(2330)들은 순서대로, 제1지지부(2331), 제2지지부(2333), 제3지지부(2335) 순서로 하부에서 상부로 배치된다.

수직 로드(2310)에는 구동기(2500)가 결합된다. 수직 로드(2310)는 지지부(2330)와 수직하게 제공된다. 수직 로드(2310)는 구동기(2500)의 구동시 상하 이동 가능하게 제공된다. 수직 로드(2310)는 제1수직 로드(2311), 제2수직 로드(2313), 제3수직 로드(2315)를 포함한다. 제1수직 로드(2311), 제2수직로드(2313), 제3수직 로드(2315)는 지지 유닛(1400)에서 멀어지는 방향으로 순서대로 배치되며, 수직하게 제공되며 서로 평행하게 제공된다.

플랜지(2350)는 수직 로드(2310)로부터 지지 유닛(1400)에서 멀어지는 방향으로 제공된다. 플랜지(2350)는 제1플랜지(2351) 그리고 제2플랜지(2353)를 포함한다. 제1플랜지(2351)의 상부에 제2플랜지(2353)가 위치가 위치한다. 각각의 플랜지(2351,2353)들은 평행하게 제공된다.

제1승강 유닛(2010)은 제1회수통(1210)을 상하로 이동시킨다. 제1승강 유닛(2010)은 제1베이스(2110), 제1승강로드(2301) 그리고 제1구동기(2510)를 포함한다.

제1베이스(2110)는 제1회수통(1210)과 결합되어 제공된다. 제1베이스(2110)는 링 형상으로 제공된다. 제1베이스(2110)는 제1내측벽(2111), 제1바닥벽(2113) 그리고 제1외측벽(2115)을 포함한다. 제1내측벽(2111)은 제1회수통(1210)의 외벽(1215)의 하부에 제공된다. 제1내측벽(2111)은 외벽(1215)의 길이방향의 하부와 수직하게 제공된다. 제1외측벽(2115)은 제1내측벽(2111)으로부터 지지 유닛(1400)으로부터 멀어지는 방향으로 제공되며, 제1내측벽(2111)과 평행하게 제공된다. 제1외측벽(2115)은 베이스 통(1280)의 외벽(1283) 근접하여 수직하게 제공된다. 제1베이스(2110)에는 상부가 개방되고, 제1내측벽(2111), 제1외측벽(2115), 그리고 제1바닥벽(2113)으로 둘러싸인 제1공간을 제공한다. 제1바닥벽(2113)은 제1내측벽(2111)의 저면과 제1외측벽(2115)의 저면에 연결되어 수평하게 제공된다. 제1바닥벽(2113)에는 처리액을 회수하는 배수관(1297)이 연결된다.

제1승강 로드(2301)은 제1베이스(2110)와 결합된다. 제1승강 로드(2301)는 제1수직 로드(2311), 제1지지부(2331) 그리고 제1플랜지(2351)를 포함한다.

제1지지부(2331)는 제1베이스(2110)에 결합되어 제공된다. 제1지지부(2331)는 플레이트로 제공될 수 있다. 제1지지부(2331)는 수평하게 제공된다. 제1지지부(2331)는 제1외측벽(2115)의 상단과 결합되며 제1외측벽(2115)과 수직하게 제공된다.

제1수직 로드(2311)는 제1지지부(2331)와 수직하게 제공되며, 제1지지부(2331)와 고정결합된다. 제1수직 로드(2311)는 베이스 통(1280)의 외벽(1283)의 외측에 제공되며, 베이스 통(1280)과 평행하게 제공된다.

제1플랜지(2351)는 제2구동기(2530)가 놓이는 장소를 제공한다. 제1플랜지(2351)는 제1수직 로드(2311)로부터 지지 유닛(1400)에서 멀어지는 방향으로 제공된다. 제1플랜지(2351)는 제1수직 로드(2311)에 결합되며 수평하게 제공된다. 제1플랜지(2351)은 제2플랜지(2353)의 하부에 위치한다.

제1구동기(2510)는 제1베이스(2110)와 결합된 제1회수통(1210)을 승하강 시킨다. 제1구동기(2510)는 제1수직 로드(2311)와 고정결합된다. 제1구동기(2510)는 제2구동기(2530)의 하부에 위치한다.

제2승강 유닛(2030)은 제2회수통(1230)을 상하로 이동시킨다. 제2승강 유닛(2030)은 제2베이스(2130), 제2승강로드(2303) 그리고 제2구동기(2530)를 포함한다.

제2베이스(2130)는 제2회수통(1230)과 결합되어 제공된다. 제2베이스(2130)는 링 형상으로 제공된다. 제2베이스(2130)는 제2내측벽(2131), 제2바닥벽(2133) 그리고 제2외측벽(2135)을 포함한다. 제2베이스(2130)의 제2내측벽(2131), 제2바닥벽(2133) 그리고 제2외측벽(2135)은 대체로 제1베이스(2110)의 제1내측벽(2111), 제1바닥벽(2113) 그리고 제1외측벽(2115)과 동일한 형상으로 제공된다. 제2베이스(2130)는 제1공간 내에 위치한다. 제2내측벽(2131)은 제2회수통(1230)의 외벽(1235)의 하부에 제공된다. 제2내측벽(2131)은 외벽(1235)의 길이방향의 하부와 수직하게 제공된다. 제2외측벽(2135)은 제2내측벽(2131)으로부터 지지 유닛(1400)으로부터 멀어지는 방향으로 제공되며, 제2내측벽(2131)과 평행하게 제공된다. 제2외측벽(2135)은 제1외측벽(2115)과 제3외측벽(2155)의 사이에 위치한다. 제2바닥벽은(2133) 제1내측벽(2111)의 저면과 제1외측벽(2115)의 저면에 연결되어 수평하게 제공된다. 제2베이스(2130)에는 상부가 개방되고 제2내측벽(2131), 제2외측벽(2135), 그리고 제2바닥벽(2133)으로 둘러싸인 제2공간을 제공한다. 제2바닥벽(2133)에는 처리액을 회수하는 배수관(1297)이 연결된다.

제2승강 로드(2303)은 제2베이스(2130)와 결합된다. 제2승강 로드(2303)는 제2수직 로드(2313), 제2지지부(2333) 그리고 제2플랜지(2353)를 포함한다. 제2지지부(2333)는 제2베이스(2130)와 결합된다. 제2지지부(2333)는 플레이트로 제공될 수 있다. 제2지지부(2333)는 수평하게 제공된다. 제2지지부(2333)는 제2외측벽(2135)의 상단과 결합되며 제2외측벽(2135)과 수직하게 제공된다.

제2수직 로드(2313)는 제2지지부(2333)와 수직하게 제공되며, 제2지지부(2333)와 고정결합된다. 제2수직 로드(2313)는 제1수직 로드(2311)의 외측에 제공되며, 제1수직 로드(2311)와 평행하게 제공된다.

제2플랜지(2353)는 제3구동기(2550)가 놓이는 장소를 제공한다. 제2플랜지(2353)는 제2수직 로드(2313)로부터 지지 유닛(1400)에서 멀어지는 방향으로 제공된다. 제2플랜지(2353)는 제2수직 로드(2313)에 결합되며 수평하게 제공된다. 제2플랜지(2353)은 제1플랜지(2351)상부와 제3플랜지(2353)의 하부에 위치한다.

제2구동기(2530)는 제2수직 로드(2313)와 고정결합된다. 제2구동기(2530)는 제1플랜지(2351)의 상부에 고정결합된다. 제2구동기(2530)는 제2베이스(2130)와 결합된 제2회수통(1230)을 승하강시킬수 있다. 제3승강 유닛(2050)은 제3회수통(1250)을 상하로 이동시킨다. 제3승강 유닛(2050)은 제3베이스(2150), 제3승강로드(2305) 그리고 제3구동기(2550)를 포함한다.

제3베이스(2150)는 제3회수통(1250)과 결합되어 제공된다. 제3베이스(2150)는 링형상으로 제공된다. 제3베이스(2150)는 제3내측벽(2151), 제3바닥벽(2153) 그리고 제3외측벽(2155)을 포함한다. 제3베이스(2150)의 제3내측벽(2151), 제3바닥벽(2153) 그리고 제3외측벽(2155)은 대체로 제2베이스(2130)의 제2내측벽(2131), 제3바닥벽(2153) 그리고 제2외측벽(2135)과 동일한 형상으로 제공된다. 제3베이스(2150)는 제2공간 내에 위치한다. 제3내측벽(2151)은 제3회수통(1250)의 외벽(1255)의 하부에 제공된다. 제3내측벽(2151)은 외벽(1255)의 길이방향의 하부와 수직하게 제공된다. 제3외측벽(2155)은 제3내측벽(2151)으로부터 지지 유닛(1400)으로부터 멀어지는 방향으로 제공되며, 제3내측벽(2151)과 평행하게 제공된다. 제3외측벽(2155)은 제2외측벽(2135)과 제3회수통(1250)의 외벽(1255) 사이에 위치한다. 제3바닥벽(2153)은 제3내측벽(2151)의 저면과 제3외측벽(2155)의 저면에 연결되어 수평하게 제공된다. 제3베이스(2150)에는 상부가 개방되고, 제3내측벽(2151)과, 제3외측벽(2155)과 제3바닥벽(2153)으로 둘러싸인 제3공간을 제공한다. 제3바닥벽(2153)에는 처리액을 회수하는 배수관(1297)이 연결된다. 제1베이스(2110), 제2베이스(2130) 그리고 제3베이스(2150)의 제3바닥벽(2153)에 제공되는 배구관(1297)의 연결 위치는 서로 대향되게 제공된다.

제3승강 로드(2305)은 제3베이스(2150)와 결합된다. 제3승강 로드(2305)는 제3수직 로드(2315), 제3지지부(2335) 를 포함한다.

제3지지부(2335)는 제3베이스(2150)와 결합된다. 제3지지부(2335)는 플레이트로 제공될 수 있다. 제3지지부(2335)는 수평하게 제공된다. 제3지지부(2335)는 제3외측벽(2155)의 상단과 결합되며 제3외측벽(2155)과 수직하게 제공된다.

제3수직 로드(2315)는 제3지지부(2335)와 수직하게 제공되며, 제3지지부(2335)와 고정결합된다. 제3수직 로드(2315)는 제2수직 로드(2313)의 외측에 제공되며, 제2수직 로드(2313)와 평행하게 제공된다.

제3플랜지(2355)는 보조 구동기(2570)가 놓이는 장소를 제공한다. 제3플랜지(2355)는 제3수직 로드(2315)로부터 지지 유닛(1400)에서 멀어지는 방향으로 제공된다. 제3플랜지(2355)는 제3수직 로드(2315)에 결합되며 수평하게 제공된다. 제3플랜지(2355)은 제2플랜지(2351)상부에 위치한다.

제3구동기(2550)는 제3수직 로드(2315)와 고정결합된다. 제3구동기(2550)는 제2플랜지(2353)의 상부에 고정결합된다. 제3구동기(2550)는 제3베이스(2150)와 결합된 제3회수통(1250)을 승하강시킬수 있다.

상기 구성에 의하면, 제1 회수통 내지 제3 회수통(1210, 1230, 1250)의 높이 조절이 개별적으로 가능하다.

이하 도 4 내지 도 7을 참조하여, 도 3에 도시된 처리용기를 구성하는 회수통에 대해 상세히 알아본다.

도 4는 도 3의 처리용기를 개략적으로 도시한 일부 단면도이고, 도 5는 도 4에 도시된 내측회수통이 열팽창된 때와 열팽창되지 않을 때의 상태를 비교하기 위한 도면이다.

본 발명의 실시예에서는 특정 공정 시, 지지 유닛(1400)이 내측회수통(1210)의 높이에 위치함으로써, 지지 유닛(1400)으로부터의 복사열과 고온의 공정처리액에 의해 내측회수통이 열팽창되는 것을 전제로 한다.

도 4를 참조하면, 지지 유닛(1400)을 겹겹이 둘러싸는 복수의 회수통(1210, 1230, 1250) 중 가장 내측에 위치한 내측회수통인 제1 회수통(1210)은 지지 유닛(1400)과 가장 가까운 곳에 위치하므로, 공정 진행 중에 지지 유닛(1400)에 구비되는 가열 유닛(1460)으로부터의 복사열에 그대로 노출될 뿐 아니라, 회전하는 기판(W)으로부터 비산되는 고온의 처리액과 직접 접촉하여 많은 열을 받는다. 이에 따라 제1 회수통(1210)은 열에 의해 팽창되기 쉽다.

내측회수통인 제1 회수통(1210)이 열팽창되는 경우, 제1 회수통(1210)의 경사면(1215a)이 상부에 위치한 제2 회수통(1230)의 경사면(1235a)을 밀어올릴 수 있다. 제1 내지 제3 회수통(1210, 1230, 1250)의 높이는 안정적인 기류를 형성하기에 적합한 높이로 설정되었기 때문에, 제1 내지 제3 회수통 중 어느 하나가 들리는 경우, 내부 기류가 변경되어 공정 불량을 야기할 수 있다. 특히, 제2 회수통(1230)이 들리는 경우, 제1 지지부(2331)와 제2 지지부(2333) 사이 간격이 벌어짐에 따라 제1 지지부(2331)와 제2 지지부(2333) 사이로 기류가 유입되어 ER(Etching rate)의 변화로 공정불량을 야기할 수 있다.

제1 회수통(1210)의 열팽창에 의한 제2 회수통(1230)의 들림을 방지하기 위해, 본 발명의 제1 회수통(1210)의 측벽(1215b)은 상부측벽(1215c)과 하부측벽(1215d)과 탄성부재(1215e)를 포함한다. 이에 따라 제2 회수통(1230)의 경사면(1235a)에 의한 접촉하중에 의해 제1 회수통(1210)의 측벽(1215b)의 높이가 줄어들 수 있다.

구체적으로, 제1 회수통(1210)의 측벽(1215b)은 상부측벽(1215c)과, 상부측벽(1215c)의 하단부에 어느정도 상하방향으로 유동되도록 결합되는 하부측벽(1215d)과, 상기 상부측벽(1215c)와 하부측벽(1215d) 사이에 위치하여 상부측벽(1215c)을 하부측벽(1215d)로부터 밀어올려 일정 높이를 유지하는 탄성부재(1215e)를 포함한다.

상부측벽(1215c)의 하단부에는 하부측벽(1215d)의 상단부가 삽입될 수 있는 삽입홈(1215f)을 구비하며, 하부측벽(1215d)의 상단부에는 측방향으로 일부 돌출된 헤드(1215g)가 구비된다. 상부측벽(1215c)의 하단부에는 삽입된 하부측벽(1215d)의 헤드(1215g)를 하방으로 빠져나가지 못하도록 고정하는 스토퍼(1215h)가 구비된다. 스토퍼(1215h)는 복수개로 구비될 수 있다. 탄성부재(1215e)에 의해 상부측벽(1215c)이 밀어올려지는 높이가 스토퍼(1215h)에 의해 결정된다. 탄성부재(1215e)에 의해 밀어올려지는 상부측벽(1215c)의 높이는 제2 회수통(1230)의 경사면(1235a)에 의한 접촉하중이 존재하지 않을 때 유지되어야하는 상부측벽(1215c)의 높이가 된다.

상부측벽(1215c)의 상단부는 경사면(1215a)에서 연장형성되며, 상부측벽(1215c)의 하단부는 하부측벽(1215d)과 탄성부재(1215e)를 사이에 두고 결합된다.

탄성부재(1215e)는 열팽창된 제1 회수통(1210)의 경사면(1215a)이 제2 회수통(1230)의 경사면(1235a)을 들어올리지 못하도록 압축될 수 있다.

인접회수통인 제2 회수통(1230)의 경사면(1235a)에 의한 접촉하중이 존재하지 않는 경우, 탄성부재(1215e)는 상부측벽(1215c)를 설정된 높이로 유지한다. 상부측벽(1215c)가 탄성부재(1215e)에 의해 상승될 수 있는 최대 높이는 스토퍼(1215h)에 의해 결정되며, 상부측벽(1215c)가 상승되는 최대 높이가 공정 처리 시에 적합한 높이가 된다.

또한, 인접회수통인 제2 회수통(1230)의 경사면(1235a)에 의한 접촉하중이 존재하는 경우, 탄성부재(1215e)는 접촉하중에 의해 압축되어 상기 인접회수통의 들림을 방지할 수 있다.

도 5를 참조하면, 도 5의 (a)는 내측회수통의 열팽창이 인접회수통을 밀어올릴 정도로 팽창되지 않아 인접회수통의 경사면에 의한 접촉하중이 내측회수통에 미치지 않는 상태를 나타낸다.

이 경우, 탄성부재(1215e)는 압축되지 않은 상태로서, 스토퍼(1215h)가 허용하는 높이까지 상부측벽(1215c)을 하부측벽(1215d)로부터 밀어올리고 있다. 이때 하부측벽(1215d)의 헤드(1215g)는 스토퍼(1215h)에 의해 걸리게 된다.

도 5의 (b)는 내측회수통의 열팽창이 인접회수통을 밀어올릴 정도로 팽창되어 인접회수통의 경사면에 의한 접촉하중이 내측회수통에 미치는 상태를 나타낸다.

이 경우, 탄성부재(1215e)는 압축된 상태로서, 하부측벽(1215d)이 상부측벽(1215c)의 홈내로 많이 삽입된 상태를 나타낸다. 탄성부재(1215e)는 최대로 이완된 상태에서도 인접회수통을 들어올리지 못할 정도의 탄성력을 갖으며, 최대로 압축된 상태에서 상부측벽(1215c)를 설정높이인 최대높이까지 들어올릴 수 있는 정도의 탄성력을 갖는다.

즉, 인접회수통의 경사면에 의한 접촉하중이 내측회수통에 미치는 경우, 접촉하중에 의해 탄성부재(1215e)가 압축됨으로써, 상부측벽(1215c)의 높이가 낮아져서 인접회수통의 들림을 방지할 수 있다. 또한, 접촉하중이 내측회수통에 미치지 않는 경우에는 설정된 높이로 상부측벽(1215c)의 높이를 유지할 수 있다.

도 6은 도 4에 도시된 다양한 탄성부재가 적용된 내측회수통의 일부를 도시한 도면이다.

탄성부재(1215e)는 예를 들어, 도 6의 (a)에 도시된 판스프링 또는 도 6의 (b)에 도시된 스프링이 사용될 수 있다. 탄성부재(1215e)는 접촉하중이 외력에 의해 수축이 가능한 것으로서, 도 6의 (a), (b)의 형상에 제한되지 않는다.

탄성부재(1215e)는 내측회수통(1210)의 원주방향을 따라 서로 이격된 상태로 복수개 구비될 수 있다. 또한 스토퍼(1215h)도 내측회수통(1210)의 원주방향을 따라 서로 이격된 상태로 복수개 구비될 수 있다.

탄성부재는 내식성이 강한 플라스틱 재질이 이용될 수 있다. 내식성이 강한 플라스틱 재질의 탄성부재(1215e)인 경우, 공정처리액에 의한 부식을 방지할 수 있다. 플라스틱 재질의 판스프링의 제조가 플라스틱 재질의 스프링의 제조보다 용이하므로, 탄성부재(1215e)로서 판스프링을 이용함이 바람직하다.

도 7은 탄성부재가 적용되지 않은 내측회수통과 탄성부재가 적용된 내측회수통에 의한 회수통들의 굽힘변형 정도에 대한 실험결과를 비교하기 위한 도면이다.

도 7의 (a)는 탄성부재가 적용되지 않은 내측회수통을 포함하는 회수통들의 굽힘변형 정도에 대한 실험결과를 나타내는 도면이고, 도 7의 (b)는 탄성부재가 적용된 내측회수통을 포함하는 회수통들의 굽힘변형 정도에 대한 실험결과를 나타내는 도면이다.

회수통들의 굽힘변형이 많을수록 회수통들의 색이 어둡게 변색되어 나타난다. 변색정도를 살펴보면, 도 7의 (a)에 도시된 회수통들의 굽힘변형이 도 7의 (b)에 도시된 탄성부재가 적용된 내측회수통을 포함하는 회수통들의 굽힘변형보다 심함을 알 수 있다.

구체적으로, 열팽창되지 않은 내측회수통(1210)과 인접회수통(1230) 사이 간격이 0mm으로 설정된 경우, 도 7의 (a)는 열팽창된 내측회수통(1210)과 인접회수통(1230) 사이 간격이 1.6mm 정도로 벌어진 결과를 나타내었고, 도 7의 (b)는 열팽창된 내측회수통(1210)과 인접회수통(1230) 사이 간격이 0.2mm 정도로 벌어진 결과를 나타내었다.

즉, 내측회수통(1210)에 탄성부재(1215e)가 적용되었을 때, 내측회수통(1210)이 열팽창되어도 인접 회수통의 굽힘변형 정도를 완화할 수 있게 되어, 열팽창된 내측회수통(1210)에 의한 인접회수통(1230)의 들림을 방지할 수 있다. 이에 따라 처리 용기(1200) 내 기류변화를 방지할 수 있을 뿐 아니라 기류변화에 따른 공정불량을 방지할 수 있다.

도 8은 도 4에 도시된 처리용기의 변형 실시예를 나타낸 일부단면도이다.

도 8을 참조하면, 다른 실시예로서, 복수의 회수통(1210, 1230, 1250)들 중 가장 외측에 배치된 외측회수통인 제3 회수통(1250)을 제외한 모든 회수통(1210, 1230)에 탄성부재가 구비될 수 있다.

외측회수통(1250)이 열팽창하는 경우, 열팽창된 외측회수통(1250)에 의해 들어올려질 인접회수통이 존재하지 않지만, 외측회수통의 내측에 위치하는 회수통(1210, 1230)들 중 적어도 하나가 열팽창하는 경우, 열팽창된 회수통에 의해 들어올려질 인접회수통이 존재한다. 또한 공정에 따라 각각의 회수통들의 높이가 조절되므로, 고온의 공정처리액이 내측 회수통이 아닌 다른 회수통에 비산될 수 있다. 그리고 가열 유닛(1460)은 내측 회수통을 포함한 복수의 회수통에 복사열을 전달할 수 있다.

이전 실시예에서는 고온의 공정처리액이 내측회수통(1210)에 비산될 뿐만 아니라, 가열 유닛(1460)으로부터의 복사열이 내측회수통(1210)에 전달되는 것을 전제로한 구성이었지만, 다른 공정에서는 열팽창되는 회수통이 다른 회수통일 수 있다. 따라서 이전 실시예에서의 탄성부재를 구비하는 내측회수통(1210) 구성을 외측회수통(1250)을 제외한 모든 회수통(1210, 1230)에 적용될 수 있다. 이 경우, 이전 실시예에 비해서, 고온 공정 진행 시 회수통들 중 어느 회수통이 열팽창하더라도 열팽창에 의한 인접회수통의 들림을 방지할 수 있다. 인접회수통의 들림이 방지됨에 따라, 내부 기류변화 및 이에 따른 공정불량도 방지할 수 있다.

이상 본 발명을 구체적인 실시예를 통하여 상세히 설명하였으나, 이는 본 발명을 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 그 변형이나 개량이 가능함이 명백하다.

1000: 기판처리장치 1100: 하우징
1200: 처리용기 1210: 제1 회수통
1211, 1231, 1251: 내벽 1213, 1233, 1253: 바닥벽
1215, 1235, 1255: 외벽 1215a, 1235a, 1255a: 경사면
1215b 1235b, 1255b: 측벽 1230: 제2 회수통
1250: 제3 회수통 1400: 지지 유닛
1460: 가열 유닛 1500: 액 공급 유닛
2000: 승강 유닛

Claims (5)

1. 기판을 지지하는 지지 유닛;
   상기 기판 상에 처리액을 분사하는 액공급 유닛; 및
   상기 지지 유닛을 겹겹이 둘러싸는 복수의 회수통을 포함하고,
   상기 복수의 회수통 각각은, 상기 회수통의 둘레를 형성하는 측벽과, 상기 측벽 상단에서 내측방향으로 연장형성되는 경사면을 포함하고,
   상기 복수의 회수통 중 가장 내측에 배치되는 내측회수통의 측벽은,
   상부측벽과,
   상기 상부측벽의 하단부에 결합되는 하부측벽과,
   상기 내측회수통의 열팽창에 의한 인접회수통의 들림을 방지하기 위해, 상기 인접회수통의 경사면의 접촉하중에 의해 상기 내측회수통의 경사면 및 상부측벽이 하강가능하도록, 상기 상부측벽과 상기 하부측벽 사이에 구비되는 복수의 탄성부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
2. 제1항에 있어서,
   상기 탄성부재는,
   상기 인접회수통의 경사면에 의한 접촉하중이 상기 내측회수통에 미치는 경우, 상기 접촉하중에 의해 압축되어 상기 인접회수통의 들림을 방지하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
3. 제1항에 있어서,
   상기 탄성부재는,
   상기 인접회수통의 경사면에 의한 접촉하중이 상기 내측회수통에 미치지 않는 경우, 상기 상부측벽을 설정된 높이로 유지하기 위해 상기 상부측벽을 상기 하부측벽으로부터 밀어올리는 기판처리장치.
4. 제1항에 있어서,
   상기 탄성부재는 스프링 및 판스프링 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
5. 제1항에 있어서,
   상기 탄성부재는 내식성 플라스틱 재질인 것을 특징으로 하는 기판처리장치.

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