JPH1074725A - 洗浄装置 - Google Patents
洗浄装置Info
- Publication number
- JPH1074725A JPH1074725A JP8231900A JP23190096A JPH1074725A JP H1074725 A JPH1074725 A JP H1074725A JP 8231900 A JP8231900 A JP 8231900A JP 23190096 A JP23190096 A JP 23190096A JP H1074725 A JPH1074725 A JP H1074725A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning liquid
- liquid
- cleaning
- substrate
- processed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Abstract
(57)【要約】
【課題】 洗浄に使用する洗浄液の消費量を減らし、ラ
ンニングコスト及びスペースコストを低減することがで
きる処理装置の提供。 【解決手段】 噴出ノズル３３、３４からウエハＷに噴
出された洗浄液及び噴出ノズル３３からダミーディスペ
ンサ３７に噴出された洗浄液を回収して循環し再利用す
るように構成している。
ンニングコスト及びスペースコストを低減することがで
きる処理装置の提供。 【解決手段】 噴出ノズル３３、３４からウエハＷに噴
出された洗浄液及び噴出ノズル３３からダミーディスペ
ンサ３７に噴出された洗浄液を回収して循環し再利用す
るように構成している。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体ウエ
ハを洗浄するウエハ洗浄装置等の洗浄装置に関する。
ハを洗浄するウエハ洗浄装置等の洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造プロセスにおいては、半導体
ウエハ（以下、単にウエハと呼ぶ。）の洗浄、例えば微
粒子除去や金属汚染除去、酸化膜除去等を行うことが要
求される。微粒子除去の洗浄プロセスにおいては、ＮＨ
4 ／Ｈ2 Ｏ2 ／Ｈ2 Ｏ混合液（以下、ＡＰＭと称す
る。）を使用した液相洗浄が一般的であり、金属汚染除
去の洗浄プロセスにおいては、ＨＣｌ／Ｈ2 Ｏ2 ／Ｈ2
Ｏ混合液（以下、ＨＰＭと称する。）を使用した液相洗
浄が一般的であり、また酸化膜除去の洗浄プロセスにお
いては、ＨＦ／Ｈ2 Ｏ混合液（以下、ＤＨＭと称す
る。）を使用した液相洗浄が一般的である。
ウエハ（以下、単にウエハと呼ぶ。）の洗浄、例えば微
粒子除去や金属汚染除去、酸化膜除去等を行うことが要
求される。微粒子除去の洗浄プロセスにおいては、ＮＨ
4 ／Ｈ2 Ｏ2 ／Ｈ2 Ｏ混合液（以下、ＡＰＭと称す
る。）を使用した液相洗浄が一般的であり、金属汚染除
去の洗浄プロセスにおいては、ＨＣｌ／Ｈ2 Ｏ2 ／Ｈ2
Ｏ混合液（以下、ＨＰＭと称する。）を使用した液相洗
浄が一般的であり、また酸化膜除去の洗浄プロセスにお
いては、ＨＦ／Ｈ2 Ｏ混合液（以下、ＤＨＭと称す
る。）を使用した液相洗浄が一般的である。
【０００３】近年、ウエハの大口径化に伴い、各処理プ
ロセスの枚葉処理化が進む中で、このような洗浄プロセ
スにおいても枚葉処理化が進められている。枚葉処理化
したウエハ洗浄装置として、例えばＡＰＭ洗浄を行うＡ
ＰＭユニットとＨＰＭ洗浄を行うＨＰＭユニットとＤＨ
Ｍ洗浄を行うＤＨＭユニットとをウエハを搬送するウエ
ハ搬送路に沿って配置し、これらユニット間でウエハの
受け渡しを行うウエハ搬送体を上記のウエハ搬送路上を
移動可能に配置して構成した装置がある。
ロセスの枚葉処理化が進む中で、このような洗浄プロセ
スにおいても枚葉処理化が進められている。枚葉処理化
したウエハ洗浄装置として、例えばＡＰＭ洗浄を行うＡ
ＰＭユニットとＨＰＭ洗浄を行うＨＰＭユニットとＤＨ
Ｍ洗浄を行うＤＨＭユニットとをウエハを搬送するウエ
ハ搬送路に沿って配置し、これらユニット間でウエハの
受け渡しを行うウエハ搬送体を上記のウエハ搬送路上を
移動可能に配置して構成した装置がある。
【０００４】このようなウエハ洗浄装置では、ユニット
内に１枚のウエハを搬入し、ＡＰＭ、ＨＰＭ、ＤＨＭ等
の洗浄液を使ってウエハを洗浄した後に濯ぎ液、例えば
純水（ＤＩＷ：deionized water ）を使って洗浄するこ
とが行われる。かかる使用後の洗浄液や濯ぎ液等につい
ては、廃棄するのが一般的である。
内に１枚のウエハを搬入し、ＡＰＭ、ＨＰＭ、ＤＨＭ等
の洗浄液を使ってウエハを洗浄した後に濯ぎ液、例えば
純水（ＤＩＷ：deionized water ）を使って洗浄するこ
とが行われる。かかる使用後の洗浄液や濯ぎ液等につい
ては、廃棄するのが一般的である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな洗浄液及び濯ぎ液のうち、特に洗浄液は非常に高価
であり、しかも上記の如く枚葉処理化した場合にはこう
した洗浄液を大量に消費することとなるため、ランニン
グコストが非常に高価になるという問題がある。また、
このような枚葉式の洗浄装置では、上記洗浄液を貯蔵す
るための洗浄液槽が大型化し、スペースコストが増大す
るという問題もある。
うな洗浄液及び濯ぎ液のうち、特に洗浄液は非常に高価
であり、しかも上記の如く枚葉処理化した場合にはこう
した洗浄液を大量に消費することとなるため、ランニン
グコストが非常に高価になるという問題がある。また、
このような枚葉式の洗浄装置では、上記洗浄液を貯蔵す
るための洗浄液槽が大型化し、スペースコストが増大す
るという問題もある。
【０００６】本発明は、かかる課題に対処したもので、
洗浄に使用する洗浄液の消費量を減らし、ランニングコ
スト及びスペースコストを低減することができる洗浄装
置を提供することを目的としている。
洗浄に使用する洗浄液の消費量を減らし、ランニングコ
スト及びスペースコストを低減することができる洗浄装
置を提供することを目的としている。
【０００７】また、本発明は、洗浄液の回収及び再利用
を簡単な構成で行うことができる洗浄装置を提供するこ
とを目的としている。
を簡単な構成で行うことができる洗浄装置を提供するこ
とを目的としている。
【０００８】本発明のさらなる目的は、洗浄時間を短縮
してスループットを向上することができる洗浄装置を提
供することにある。
してスループットを向上することができる洗浄装置を提
供することにある。
【０００９】本発明のさらなる目的は、被処理基板に対
して洗浄液による悪影響を与えることのない洗浄装置を
提供することにある。
して洗浄液による悪影響を与えることのない洗浄装置を
提供することにある。
【００１０】本発明のさらなる目的は、洗浄液の回収及
び再利用をより効率よく行うことができる洗浄装置を提
供することにある。
び再利用をより効率よく行うことができる洗浄装置を提
供することにある。
【００１１】また、本発明の別の目的は、洗浄処理をよ
り良好に行うことができる洗浄装置を提供することにあ
る。具体的には、例えば被処理基板に対して洗浄液によ
る悪影響を与えたり、ウォーターマーク等が付着するこ
とがない洗浄装置を提供することにある。
り良好に行うことができる洗浄装置を提供することにあ
る。具体的には、例えば被処理基板に対して洗浄液によ
る悪影響を与えたり、ウォーターマーク等が付着するこ
とがない洗浄装置を提供することにある。
【００１２】本発明のさらなる目的は、洗浄に使用する
洗浄液の消費量をさらに減らすことができる洗浄装置を
提供することにあり、さらにかかる洗浄液消費量の減少
をより簡単な構造でさらには装置の大型化を招来させる
ことなく実現できる洗浄装置を提供することにある。
洗浄液の消費量をさらに減らすことができる洗浄装置を
提供することにあり、さらにかかる洗浄液消費量の減少
をより簡単な構造でさらには装置の大型化を招来させる
ことなく実現できる洗浄装置を提供することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、請求項１記載の本発明に係る洗浄装置は、被処理基
板を洗浄液及び濯ぎ液を使って洗浄する洗浄手段と、前
記洗浄手段で使った洗浄液を循環させて当該洗浄手段で
再使用させる循環系と、前記洗浄手段で使った濯ぎ液を
排出する排出系とを具備する。
め、請求項１記載の本発明に係る洗浄装置は、被処理基
板を洗浄液及び濯ぎ液を使って洗浄する洗浄手段と、前
記洗浄手段で使った洗浄液を循環させて当該洗浄手段で
再使用させる循環系と、前記洗浄手段で使った濯ぎ液を
排出する排出系とを具備する。
【００１４】本発明では、洗浄処理で使った洗浄液を循
環させて再使用するように構成しているので、洗浄に使
用する洗浄液の消費量を減らし、ランニングコスト及び
スペースコストを低減することができる。
環させて再使用するように構成しているので、洗浄に使
用する洗浄液の消費量を減らし、ランニングコスト及び
スペースコストを低減することができる。
【００１５】請求項２記載の本発明に係る洗浄装置は、
被処理基板の出し入れが可能な開口部を有し、内カップ
の開口部の高さが外カップの開口部の高さよりも低い内
外２重のカップ構造の収容部と、前記収容部内で被処理
基板を保持して回転し、かつ前記内外カップ間を移送す
る回転移送部と、前記内外カップ内でそれぞれ前記回転
移送部により回転される被処理基板に対し、それぞれ洗
浄液及び濯ぎ液のうち一方を噴出する噴出部と、前記内
外カップのうち一方で回収された洗浄液を循環させて前
記噴出部で再使用させる循環系と、前記内外カップのう
ち他方で回収された濯ぎ液を排出する排出系とを具備す
る。
被処理基板の出し入れが可能な開口部を有し、内カップ
の開口部の高さが外カップの開口部の高さよりも低い内
外２重のカップ構造の収容部と、前記収容部内で被処理
基板を保持して回転し、かつ前記内外カップ間を移送す
る回転移送部と、前記内外カップ内でそれぞれ前記回転
移送部により回転される被処理基板に対し、それぞれ洗
浄液及び濯ぎ液のうち一方を噴出する噴出部と、前記内
外カップのうち一方で回収された洗浄液を循環させて前
記噴出部で再使用させる循環系と、前記内外カップのう
ち他方で回収された濯ぎ液を排出する排出系とを具備す
る。
【００１６】本発明では、内カップに移送された被処理
基板に対して噴出された液は内カップで回収され、外カ
ップすなわち外カップと内カップの開口部間に移送され
た被処理基板に対して噴出された液は遠心力により開口
部間に飛翔して外カップで回収され、内外カップのうち
一方で回収された洗浄液を循環させて再使用するように
構成しているので、洗浄液の回収及び再利用を簡単な構
成で行うことができる。 請求項３記載の本発明に係る
洗浄装置は、被処理基板の出し入れが可能な開口部を有
し、内カップの開口部の高さが外カップの開口部の高さ
よりも低い内外２重のカップ構造の収容部と、前記収容
部内で被処理基板を保持して回転し、かつ前記内外カッ
プ間を移送する回転移送部と、前記内外カップ内でそれ
ぞれ前記回転移送部により回転される被処理基板の表裏
両面に対し、それぞれ洗浄液及び濯ぎ液のうち一方を噴
出する噴出部と、前記内外カップのうち一方で回収され
た洗浄液を循環させて前記噴出部で再使用させる循環系
と、前記内外カップのうち他方で回収された濯ぎ液を排
出する排出系とを具備する。
基板に対して噴出された液は内カップで回収され、外カ
ップすなわち外カップと内カップの開口部間に移送され
た被処理基板に対して噴出された液は遠心力により開口
部間に飛翔して外カップで回収され、内外カップのうち
一方で回収された洗浄液を循環させて再使用するように
構成しているので、洗浄液の回収及び再利用を簡単な構
成で行うことができる。 請求項３記載の本発明に係る
洗浄装置は、被処理基板の出し入れが可能な開口部を有
し、内カップの開口部の高さが外カップの開口部の高さ
よりも低い内外２重のカップ構造の収容部と、前記収容
部内で被処理基板を保持して回転し、かつ前記内外カッ
プ間を移送する回転移送部と、前記内外カップ内でそれ
ぞれ前記回転移送部により回転される被処理基板の表裏
両面に対し、それぞれ洗浄液及び濯ぎ液のうち一方を噴
出する噴出部と、前記内外カップのうち一方で回収され
た洗浄液を循環させて前記噴出部で再使用させる循環系
と、前記内外カップのうち他方で回収された濯ぎ液を排
出する排出系とを具備する。
【００１７】本発明では、特に被処理基板の表裏両面に
対して洗浄液及び濯ぎ液を噴出させて洗浄を行うように
構成しているので、洗浄時間を短縮してスループットを
向上することができる。
対して洗浄液及び濯ぎ液を噴出させて洗浄を行うように
構成しているので、洗浄時間を短縮してスループットを
向上することができる。
【００１８】請求項４記載の本発明に係る洗浄装置は、
被処理基板の出し入れが可能な開口部を有し、内カップ
の開口部の高さが外カップの開口部の高さよりも低い内
外２重のカップ構造の収容部と、前記収容部内で被処理
基板を保持して回転し、かつ前記内外カップ間を移送す
る回転移送部と、前記内カップ内で前記回転移送部によ
り回転される被処理基板の表裏両面に対して洗浄液を噴
出し、前記外カップ内で前記回転移送部により回転され
る被処理基板の表裏両面に対して濯ぎ液を噴出する噴出
部と、前記内カップで回収された洗浄液を循環させて前
記噴出部で再使用させる循環系と、前記外カップで回収
された濯ぎ液を排出する排出系とを具備する。
被処理基板の出し入れが可能な開口部を有し、内カップ
の開口部の高さが外カップの開口部の高さよりも低い内
外２重のカップ構造の収容部と、前記収容部内で被処理
基板を保持して回転し、かつ前記内外カップ間を移送す
る回転移送部と、前記内カップ内で前記回転移送部によ
り回転される被処理基板の表裏両面に対して洗浄液を噴
出し、前記外カップ内で前記回転移送部により回転され
る被処理基板の表裏両面に対して濯ぎ液を噴出する噴出
部と、前記内カップで回収された洗浄液を循環させて前
記噴出部で再使用させる循環系と、前記外カップで回収
された濯ぎ液を排出する排出系とを具備する。
【００１９】本発明では、特に内カップ内で洗浄液を噴
出し、外カップ内で濯ぎ液を噴出するように構成したの
で、洗浄液に伴う雰囲気が濯ぎ液によって洗浄された被
処理基板に及ぶようなことはなくなり、被処理基板に対
して洗浄液による悪影響を与えることがなくなる。
出し、外カップ内で濯ぎ液を噴出するように構成したの
で、洗浄液に伴う雰囲気が濯ぎ液によって洗浄された被
処理基板に及ぶようなことはなくなり、被処理基板に対
して洗浄液による悪影響を与えることがなくなる。
【００２０】請求項５記載の本発明に係る洗浄装置は、
被処理基板の出し入れが可能な開口部を有し、内カップ
の開口部の高さが外カップの開口部の高さよりも低い内
外２重のカップ構造の収容部と、前記収容部内で被処理
基板を保持して回転し、かつ前記内外カップ間を移送す
る回転移送部と、前記外カップ内で前記回転移送部によ
り回転される被処理基板の表裏両面に対して洗浄液を噴
出し、前記内カップ内で前記回転移送部により回転され
る被処理基板の表裏両面に対して濯ぎ液を噴出する噴出
部と、前記外カップで回収された洗浄液を循環させて前
記噴出部で再使用させる循環系と、前記内カップで回収
された濯ぎ液を排出する排出系とを具備する。
被処理基板の出し入れが可能な開口部を有し、内カップ
の開口部の高さが外カップの開口部の高さよりも低い内
外２重のカップ構造の収容部と、前記収容部内で被処理
基板を保持して回転し、かつ前記内外カップ間を移送す
る回転移送部と、前記外カップ内で前記回転移送部によ
り回転される被処理基板の表裏両面に対して洗浄液を噴
出し、前記内カップ内で前記回転移送部により回転され
る被処理基板の表裏両面に対して濯ぎ液を噴出する噴出
部と、前記外カップで回収された洗浄液を循環させて前
記噴出部で再使用させる循環系と、前記内カップで回収
された濯ぎ液を排出する排出系とを具備する。
【００２１】本発明では、特に内カップ内で濯ぎ液を噴
出し、外カップ内で洗浄液を噴出するように構成したの
で、洗浄液をより効率よく回収することができる。
出し、外カップ内で洗浄液を噴出するように構成したの
で、洗浄液をより効率よく回収することができる。
【００２２】請求項６記載の本発明に係る洗浄装置は、
被処理基板に対して同一の噴出ノズルを使って洗浄液及
び濯ぎ液を交互に噴出する噴出部と、前記噴出部が被処
理基板に対して洗浄液及び濯ぎ液を噴出する前に予め所
定期間前記噴出ノズルより洗浄液及び濯ぎ液を排出させ
る手段とを具備する。
被処理基板に対して同一の噴出ノズルを使って洗浄液及
び濯ぎ液を交互に噴出する噴出部と、前記噴出部が被処
理基板に対して洗浄液及び濯ぎ液を噴出する前に予め所
定期間前記噴出ノズルより洗浄液及び濯ぎ液を排出させ
る手段とを具備する。
【００２３】本発明では、噴出部が被処理基板に対して
洗浄液及び濯ぎ液を噴出する前に予め所定期間噴出ノズ
ルより洗浄液及び濯ぎ液を排出させるように構成してい
るので、被処理基板に対して洗浄液を噴出しようとする
場合に噴出ノズルに残っていた濯ぎ液が被処理基板に対
して噴出されることがなくなり、また被処理基板に対し
て濯ぎ液を噴出しようとする場合に噴出ノズルに残って
いた洗浄液が被処理基板に対して噴出されることがなく
なる。従って、被処理基板に対して洗浄液による悪影響
を与えたり、ウォーターマーク等が付着することがなく
なり、洗浄処理をより良好に行うことができるようにな
る。
洗浄液及び濯ぎ液を噴出する前に予め所定期間噴出ノズ
ルより洗浄液及び濯ぎ液を排出させるように構成してい
るので、被処理基板に対して洗浄液を噴出しようとする
場合に噴出ノズルに残っていた濯ぎ液が被処理基板に対
して噴出されることがなくなり、また被処理基板に対し
て濯ぎ液を噴出しようとする場合に噴出ノズルに残って
いた洗浄液が被処理基板に対して噴出されることがなく
なる。従って、被処理基板に対して洗浄液による悪影響
を与えたり、ウォーターマーク等が付着することがなく
なり、洗浄処理をより良好に行うことができるようにな
る。
【００２４】請求項７記載の本発明に係る洗浄装置は、
被処理基板に対して同一の噴出ノズルを使って洗浄液及
び濯ぎ液を交互に噴出する噴出部と、前記噴出部が被処
理基板に対して洗浄液及び濯ぎ液を噴出する前に予め所
定期間前記噴出ノズルより洗浄液及び濯ぎ液を排出させ
る手段と、前記噴出ノズルより排出された洗浄液及び濯
ぎ液のうち洗浄液については回収して循環させて前記噴
出部で再使用させる循環系とを具備する。
被処理基板に対して同一の噴出ノズルを使って洗浄液及
び濯ぎ液を交互に噴出する噴出部と、前記噴出部が被処
理基板に対して洗浄液及び濯ぎ液を噴出する前に予め所
定期間前記噴出ノズルより洗浄液及び濯ぎ液を排出させ
る手段と、前記噴出ノズルより排出された洗浄液及び濯
ぎ液のうち洗浄液については回収して循環させて前記噴
出部で再使用させる循環系とを具備する。
【００２５】本発明では、特に噴出ノズルより排出され
た洗浄液及び濯ぎ液のうち洗浄液については回収して循
環させるように構成したので、洗浄液の消費量をさらに
減らすことができる。
た洗浄液及び濯ぎ液のうち洗浄液については回収して循
環させるように構成したので、洗浄液の消費量をさらに
減らすことができる。
【００２６】請求項８記載の本発明に係る洗浄装置は、
被処理基板に対して同一の噴出ノズルを使って洗浄液及
び濯ぎ液を交互に噴出する噴出部と、前記噴出ノズルよ
り噴出された洗浄液を回収する洗浄液回収部と、前記噴
出ノズルより噴出された濯ぎ液を回収する濯ぎ液回収部
と、前記噴出部が被処理基板に対して洗浄液を噴出する
前に予め所定期間前記噴出ノズルより前記洗浄液回収部
に洗浄液を排出させ、前記噴出部が被処理基板に対して
濯ぎ液を噴出する前に予め所定期間前記噴出ノズルより
前記洗浄液回収部に洗浄液を排出させる手段と、前記洗
浄液回収部により回収された洗浄液を循環させて前記噴
出部で再使用させる循環系とを具備する。 本発明で
は、特に噴出ノズルより噴出された洗浄液を回収する洗
浄液回収部と噴出ノズルより噴出された濯ぎ液を回収す
る濯ぎ液回収部とを区別して構成したので、洗浄液の回
収を容易に行うことができる。
被処理基板に対して同一の噴出ノズルを使って洗浄液及
び濯ぎ液を交互に噴出する噴出部と、前記噴出ノズルよ
り噴出された洗浄液を回収する洗浄液回収部と、前記噴
出ノズルより噴出された濯ぎ液を回収する濯ぎ液回収部
と、前記噴出部が被処理基板に対して洗浄液を噴出する
前に予め所定期間前記噴出ノズルより前記洗浄液回収部
に洗浄液を排出させ、前記噴出部が被処理基板に対して
濯ぎ液を噴出する前に予め所定期間前記噴出ノズルより
前記洗浄液回収部に洗浄液を排出させる手段と、前記洗
浄液回収部により回収された洗浄液を循環させて前記噴
出部で再使用させる循環系とを具備する。 本発明で
は、特に噴出ノズルより噴出された洗浄液を回収する洗
浄液回収部と噴出ノズルより噴出された濯ぎ液を回収す
る濯ぎ液回収部とを区別して構成したので、洗浄液の回
収を容易に行うことができる。
【００２７】請求項９記載の本発明に係る洗浄装置は、
被処理基板に対して同一の噴出ノズルを使って洗浄液及
び濯ぎ液を交互に噴出する噴出部と、前記噴出部に隣接
して設けられ、前記噴出ノズルより噴出された洗浄液を
回収する洗浄液回収部と、前記噴出部に隣接して設けら
れ、前記噴出ノズルより噴出された濯ぎ液を回収する濯
ぎ液回収部と、前記噴出ノズルを前記噴出部と前記洗浄
液回収部と前記濯ぎ液回収部との間を移動させるノズル
移動手段と、前記噴出部が被処理基板に対して洗浄液を
噴出する前に前記ノズル移動手段により前記噴出ノズル
を前記洗浄液回収部へ移動させて予め所定期間噴出ノズ
ルより洗浄液回収部に洗浄液を排出させ、前記噴出部が
被処理基板に対して濯ぎ液を噴出する前に前記ノズル移
動手段により前記噴出ノズルを前記濯ぎ液回収部へ移動
させて予め所定期間噴出ノズルより洗浄液回収部に洗浄
液を排出させる手段と、前記洗浄液回収部により回収さ
れた洗浄液を循環させて前記噴出部で再使用させる循環
系とを具備する。
被処理基板に対して同一の噴出ノズルを使って洗浄液及
び濯ぎ液を交互に噴出する噴出部と、前記噴出部に隣接
して設けられ、前記噴出ノズルより噴出された洗浄液を
回収する洗浄液回収部と、前記噴出部に隣接して設けら
れ、前記噴出ノズルより噴出された濯ぎ液を回収する濯
ぎ液回収部と、前記噴出ノズルを前記噴出部と前記洗浄
液回収部と前記濯ぎ液回収部との間を移動させるノズル
移動手段と、前記噴出部が被処理基板に対して洗浄液を
噴出する前に前記ノズル移動手段により前記噴出ノズル
を前記洗浄液回収部へ移動させて予め所定期間噴出ノズ
ルより洗浄液回収部に洗浄液を排出させ、前記噴出部が
被処理基板に対して濯ぎ液を噴出する前に前記ノズル移
動手段により前記噴出ノズルを前記濯ぎ液回収部へ移動
させて予め所定期間噴出ノズルより洗浄液回収部に洗浄
液を排出させる手段と、前記洗浄液回収部により回収さ
れた洗浄液を循環させて前記噴出部で再使用させる循環
系とを具備する。
【００２８】本発明では、特に洗浄液回収部及び濯ぎ液
回収部を噴出部に隣接して設け、洗浄液の排出が必要な
場合には噴出ノズルを洗浄液回収部及び濯ぎ液回収部に
移送するように構成したので、洗浄液消費量の減少をよ
り簡単な構造でさらには装置の大型化を招来させること
なく実現できる。
回収部を噴出部に隣接して設け、洗浄液の排出が必要な
場合には噴出ノズルを洗浄液回収部及び濯ぎ液回収部に
移送するように構成したので、洗浄液消費量の減少をよ
り簡単な構造でさらには装置の大型化を招来させること
なく実現できる。
【００２９】請求項１０記載の本発明に係る洗浄装置
は、被処理基板に対して同一の噴出ノズルを使って洗浄
液及び濯ぎ液を交互に噴出する噴出部と、前記噴出部に
隣接して設けられ、前記噴出ノズルより噴出された洗浄
液及び濯ぎ液のうち一方を回収する内カップと他方を回
収する外カップとを有する内外２重のカップ構造の回収
部と、前記噴出ノズルを前記噴出部と前記回収部との間
を移動させるノズル移動手段と、前記噴出部が被処理基
板に対して洗浄液を噴出する前に前記ノズル移動手段に
より前記噴出ノズルを前記一方のカップへ移動させて予
め所定期間噴出ノズルより洗浄液を排出させ、前記噴出
部が被処理基板に対して濯ぎ液を噴出する前に前記ノズ
ル移動手段により前記噴出ノズルを前記他方のカップへ
移動させて予め所定期間噴出ノズルより洗浄液を排出さ
せる手段と、前記回収部により回収された洗浄液のうち
洗浄液については循環させて前記噴出部で再使用させる
循環系とを具備する。
は、被処理基板に対して同一の噴出ノズルを使って洗浄
液及び濯ぎ液を交互に噴出する噴出部と、前記噴出部に
隣接して設けられ、前記噴出ノズルより噴出された洗浄
液及び濯ぎ液のうち一方を回収する内カップと他方を回
収する外カップとを有する内外２重のカップ構造の回収
部と、前記噴出ノズルを前記噴出部と前記回収部との間
を移動させるノズル移動手段と、前記噴出部が被処理基
板に対して洗浄液を噴出する前に前記ノズル移動手段に
より前記噴出ノズルを前記一方のカップへ移動させて予
め所定期間噴出ノズルより洗浄液を排出させ、前記噴出
部が被処理基板に対して濯ぎ液を噴出する前に前記ノズ
ル移動手段により前記噴出ノズルを前記他方のカップへ
移動させて予め所定期間噴出ノズルより洗浄液を排出さ
せる手段と、前記回収部により回収された洗浄液のうち
洗浄液については循環させて前記噴出部で再使用させる
循環系とを具備する。
【００３０】本発明では、特に回収部を噴出ノズルより
噴出された洗浄液及び濯ぎ液のうち一方を回収する内カ
ップと他方を回収する外カップとを有する内外２重のカ
ップ構造としたので、装置のさらなる小型化を図ること
ができる。
噴出された洗浄液及び濯ぎ液のうち一方を回収する内カ
ップと他方を回収する外カップとを有する内外２重のカ
ップ構造としたので、装置のさらなる小型化を図ること
ができる。
【００３１】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図に基
づいて説明すれば、図１〜図３は、各々本発明の実施形
態が採用された半導体ウエハ（以下、「ウエハ」とい
う）のウエハ洗浄装置１の全体構成の図であって、図１
は平面、図２は正面、図３は背面を夫々示している。
づいて説明すれば、図１〜図３は、各々本発明の実施形
態が採用された半導体ウエハ（以下、「ウエハ」とい
う）のウエハ洗浄装置１の全体構成の図であって、図１
は平面、図２は正面、図３は背面を夫々示している。
【００３２】このウエハ洗浄装置１は、被処理基板とし
てウエハＷをウエハカセットＣＲで複数枚、例えば２５
枚単位で外部からシステムに搬入したり、あるいはシス
テムから搬出したり、ウエハカセットＣＲに対してウエ
ハＷを搬入・搬出したりするためのカセットステーショ
ン１０と、１枚ずつウエハＷに所定の洗浄処理を施す枚
葉式の各種洗浄処理ユニットを所定位置に配置してなる
洗浄処理ステーション１１とを一体に接続した構成を有
している。
てウエハＷをウエハカセットＣＲで複数枚、例えば２５
枚単位で外部からシステムに搬入したり、あるいはシス
テムから搬出したり、ウエハカセットＣＲに対してウエ
ハＷを搬入・搬出したりするためのカセットステーショ
ン１０と、１枚ずつウエハＷに所定の洗浄処理を施す枚
葉式の各種洗浄処理ユニットを所定位置に配置してなる
洗浄処理ステーション１１とを一体に接続した構成を有
している。
【００３３】カセットステーション１０では、図１に示
すように、カセット載置台２０上の位置決め突起２０ａ
の位置に、複数個例えば４個までのウエハカセットＣＲ
が、夫々のウエハ出入口を処理ステーション１１側に向
けてＸ方向（図１中の上下方向）一列に載置され、この
カセット配列方向（Ｘ方向）およびウエハカセッ卜ＣＲ
内に収納されたウエハのウエハ配列方向（Ｚ方向；垂直
方向）に移動可能なウエハ搬送体２１が各ウエハカセッ
トＣＲに選択的にアクセスするようになっている。さら
にこのウエハ搬送体２１は、θ方向に回転自在に構成さ
れており、後述するように洗浄処理ステーション１１側
のウエハ搬送体２２にも相互にアクセスできるようにな
っている。
すように、カセット載置台２０上の位置決め突起２０ａ
の位置に、複数個例えば４個までのウエハカセットＣＲ
が、夫々のウエハ出入口を処理ステーション１１側に向
けてＸ方向（図１中の上下方向）一列に載置され、この
カセット配列方向（Ｘ方向）およびウエハカセッ卜ＣＲ
内に収納されたウエハのウエハ配列方向（Ｚ方向；垂直
方向）に移動可能なウエハ搬送体２１が各ウエハカセッ
トＣＲに選択的にアクセスするようになっている。さら
にこのウエハ搬送体２１は、θ方向に回転自在に構成さ
れており、後述するように洗浄処理ステーション１１側
のウエハ搬送体２２にも相互にアクセスできるようにな
っている。
【００３４】洗浄処理ステーション１１には、図１に示
すように、ウエハ搬送体２２が設けられている。ウエハ
搬送体２２は、ウエハ搬送路（Ｙ方向）に沿って移動可
能とされている。ウエハ搬送体２２の搬送路の両側に
は、洗浄処理ユニットが配置されている。処理ステーシ
ョン１１のウエハ搬送体２２は、θ方向にも回転自在に
構成されており、上述したカセットステーション１０側
のウエハ搬送体２１の他に、各洗浄処理ユニットにもア
クセスできるようになっている。
すように、ウエハ搬送体２２が設けられている。ウエハ
搬送体２２は、ウエハ搬送路（Ｙ方向）に沿って移動可
能とされている。ウエハ搬送体２２の搬送路の両側に
は、洗浄処理ユニットが配置されている。処理ステーシ
ョン１１のウエハ搬送体２２は、θ方向にも回転自在に
構成されており、上述したカセットステーション１０側
のウエハ搬送体２１の他に、各洗浄処理ユニットにもア
クセスできるようになっている。
【００３５】ウエハ搬送体２２の搬送路の両側には、図
１に示したように例えば４つの洗浄処理ユニットが配置
されている。装置の前面側には、単に濯ぎ液、例えば純
水（ＤＩＷ：deionized water ）により洗浄を行うＤＩ
Ｗ洗浄ユニット及び洗浄液、例えばＡＰＭを使用した洗
浄を行うＡＰＭ洗浄ユニットが配置され、装置の背面側
には、ＤＨＭを使用したＤＨＭ洗浄ユニット及びＨＰＭ
を使用した洗浄を行うＨＰＭ洗浄ユニットが配置されて
いる。なお、残りの位置には、これらのユニットあるい
は他のユニットを配置することが可能である。
１に示したように例えば４つの洗浄処理ユニットが配置
されている。装置の前面側には、単に濯ぎ液、例えば純
水（ＤＩＷ：deionized water ）により洗浄を行うＤＩ
Ｗ洗浄ユニット及び洗浄液、例えばＡＰＭを使用した洗
浄を行うＡＰＭ洗浄ユニットが配置され、装置の背面側
には、ＤＨＭを使用したＤＨＭ洗浄ユニット及びＨＰＭ
を使用した洗浄を行うＨＰＭ洗浄ユニットが配置されて
いる。なお、残りの位置には、これらのユニットあるい
は他のユニットを配置することが可能である。
【００３６】図４にこれら洗浄処理ユニットの構成を示
す。なお、ＡＰＭ洗浄ユニット、ＤＨＭ洗浄ユニット及
びＨＰＭ洗浄ユニットは基本的には同図に示すように同
一構成である。
す。なお、ＡＰＭ洗浄ユニット、ＤＨＭ洗浄ユニット及
びＨＰＭ洗浄ユニットは基本的には同図に示すように同
一構成である。
【００３７】同図に示すように、密閉型の処理室３０内
のほぼ中央の下方には、ウエハＷの周縁部を支持して回
転させるチャック機構３１が設けられている。このチャ
ック機構３１は後述する第１のカップ３８と共に駆動シ
リンダ３２により所定の範囲で上昇・下降が行われるよ
うになっている。また、このチャック機構３１により支
持されたウエハＷの下方及び上方には、ウエハＷに対し
て洗浄液やＤＩＷを噴出する噴出ノズル３３、３４が配
置されている。噴出ノズル３３、３４には、後述するよ
うに洗浄液やＤＩＷが供給されるようになっている。
のほぼ中央の下方には、ウエハＷの周縁部を支持して回
転させるチャック機構３１が設けられている。このチャ
ック機構３１は後述する第１のカップ３８と共に駆動シ
リンダ３２により所定の範囲で上昇・下降が行われるよ
うになっている。また、このチャック機構３１により支
持されたウエハＷの下方及び上方には、ウエハＷに対し
て洗浄液やＤＩＷを噴出する噴出ノズル３３、３４が配
置されている。噴出ノズル３３、３４には、後述するよ
うに洗浄液やＤＩＷが供給されるようになっている。
【００３８】上記ウエハＷの下方に設けられた噴出ノズ
ル３３は、駆動シリンダ３５により所定の範囲内で上昇
・下降が行われるようになっている。また、上記ウエハ
Ｗの上方に設けられた噴出ノズル３４は、図５に示すよ
うに、駆動シリンダ３６により所定の範囲内で上昇・下
降が行われるようになっており、さらに水平方向（θ′
方向）に回転可能にされており、これにより噴出ノズル
３４は、ウエハＷの外周より外れた位置まで回動される
ようになっている。ウエハＷの外周より外れた所定の位
置、すなわち後述する第１及び第２のカップ３８、４１
に隣接する位置には、噴出ノズル３４から噴出した溶液
を回収するための回収部としてのダミーディスペンサ３
７が設けられている。
ル３３は、駆動シリンダ３５により所定の範囲内で上昇
・下降が行われるようになっている。また、上記ウエハ
Ｗの上方に設けられた噴出ノズル３４は、図５に示すよ
うに、駆動シリンダ３６により所定の範囲内で上昇・下
降が行われるようになっており、さらに水平方向（θ′
方向）に回転可能にされており、これにより噴出ノズル
３４は、ウエハＷの外周より外れた位置まで回動される
ようになっている。ウエハＷの外周より外れた所定の位
置、すなわち後述する第１及び第２のカップ３８、４１
に隣接する位置には、噴出ノズル３４から噴出した溶液
を回収するための回収部としてのダミーディスペンサ３
７が設けられている。
【００３９】ダミーディスペンサ３７は、図６に示すよ
うに、噴出ノズル３４より噴出された洗浄液を回収する
内カップ３７ａと噴出ノズル３４より噴出されたＤＩＷ
を回収する外カップ３７ｂとを有する内外２重のカップ
構造とされている。
うに、噴出ノズル３４より噴出された洗浄液を回収する
内カップ３７ａと噴出ノズル３４より噴出されたＤＩＷ
を回収する外カップ３７ｂとを有する内外２重のカップ
構造とされている。
【００４０】また、図５に示すように、ダミーディスペ
ンサ３７及び駆動シリンダ３６の配置側とは反対側に
は、Ｎ2 パージやＩＰＡ等を噴出する噴出ノズル５１と
この噴出ノズル５１を水平方向（θ″方向）に回転及び
所定の範囲内で上昇・下降させる駆動シリンダ５２が配
置されている。この噴出ノズル５１から噴出される気体
によってウエハＷ上の洗浄液やＤＩＷが振り切り乾燥さ
れるようになっている。上記チャック機構３１や噴出ノ
ズル３３等は、小径の第１のカップ３８内に収納されて
いる。第１のカップ３８は、上方に向けてウエハＷの直
径よりやや大きめの直径の開口部を有し、この開口部を
介して上方よりウエハＷがカップ内に収容されるように
なっている。また、この第１のカップ３８の下面には、
このカップで回収された液をカップ外に排出するための
第１の排出口３９が設けられている。さらに、第１のカ
ップ３８の下面には、処理室３０内であって特に第１の
カップ３８内の排気を行うための排気口４０が設けられ
ている。排気口４０は、例えば図示を省略した排気ポン
プに接続されている。
ンサ３７及び駆動シリンダ３６の配置側とは反対側に
は、Ｎ2 パージやＩＰＡ等を噴出する噴出ノズル５１と
この噴出ノズル５１を水平方向（θ″方向）に回転及び
所定の範囲内で上昇・下降させる駆動シリンダ５２が配
置されている。この噴出ノズル５１から噴出される気体
によってウエハＷ上の洗浄液やＤＩＷが振り切り乾燥さ
れるようになっている。上記チャック機構３１や噴出ノ
ズル３３等は、小径の第１のカップ３８内に収納されて
いる。第１のカップ３８は、上方に向けてウエハＷの直
径よりやや大きめの直径の開口部を有し、この開口部を
介して上方よりウエハＷがカップ内に収容されるように
なっている。また、この第１のカップ３８の下面には、
このカップで回収された液をカップ外に排出するための
第１の排出口３９が設けられている。さらに、第１のカ
ップ３８の下面には、処理室３０内であって特に第１の
カップ３８内の排気を行うための排気口４０が設けられ
ている。排気口４０は、例えば図示を省略した排気ポン
プに接続されている。
【００４１】第１のカップ３８は、この第１のカップ３
８より大径の第２のカップ４１内に収容されている。第
２のカップ４１は、上方に向けて第１のカップ３８より
大きな径の開口部を有しており、この開口部を介して第
２のカップ内さらには第１のカップ内にウエハＷを収容
する。また、第２のカップ４１の開口部の高さは、第１
のカップ３８の高さより高い位置にあり、この高低差を
利用した間隙を介してウエハＷより飛散された液を第２
のカップ４１内に回収するようになっている。また、こ
の第２のカップ４１の下面には、このカップで回収され
た液をカップ外に排出するための第２の排出口４２が設
けられている。さらに、第２のカップ４１の下面には、
処理室３０内であって特に第２のカップ４１内の排気を
行うための排気口４４が設けられている。排気口４４
は、例えば図示を省略した排気ポンプに接続されてい
る。このように各カップ３８、４１ごとに排出口及び排
気口を設けることで、洗浄液とＤＩＷの２液分離及び２
気体分離が実現される。
８より大径の第２のカップ４１内に収容されている。第
２のカップ４１は、上方に向けて第１のカップ３８より
大きな径の開口部を有しており、この開口部を介して第
２のカップ内さらには第１のカップ内にウエハＷを収容
する。また、第２のカップ４１の開口部の高さは、第１
のカップ３８の高さより高い位置にあり、この高低差を
利用した間隙を介してウエハＷより飛散された液を第２
のカップ４１内に回収するようになっている。また、こ
の第２のカップ４１の下面には、このカップで回収され
た液をカップ外に排出するための第２の排出口４２が設
けられている。さらに、第２のカップ４１の下面には、
処理室３０内であって特に第２のカップ４１内の排気を
行うための排気口４４が設けられている。排気口４４
は、例えば図示を省略した排気ポンプに接続されてい
る。このように各カップ３８、４１ごとに排出口及び排
気口を設けることで、洗浄液とＤＩＷの２液分離及び２
気体分離が実現される。
【００４２】処理室３０のウエハ搬送路側の正面には、
ウエハＷの受け渡しを行うための窓部４３が設けられて
いる。窓部４３は、図示省略した駆動シリンダによって
例えば上下に開閉可能とされている。そして、ウエハ搬
送路上に移動可能に配置されたウエハ搬送体２２が上記
窓部４３を介して処理室３０との間で洗浄を行うウエハ
Ｗの受け渡しを行っている。
ウエハＷの受け渡しを行うための窓部４３が設けられて
いる。窓部４３は、図示省略した駆動シリンダによって
例えば上下に開閉可能とされている。そして、ウエハ搬
送路上に移動可能に配置されたウエハ搬送体２２が上記
窓部４３を介して処理室３０との間で洗浄を行うウエハ
Ｗの受け渡しを行っている。
【００４３】そして、チャック機構３１が、第２のカッ
プ４１の開口部より上の第１の位置において窓部４３
を介してウエハ搬送体２２からウエハＷを受け取り、受
け取ったウエハＷを第１のカップ３８の開口部下の位置
に移送して例えば洗浄液による洗浄が行われ、次いで
第１のカップの３８と第２のカップ４１の開口部間の間
隙位置に移送して例えばＤＩＷによる洗浄が行われ
る。従って、第１のカップ３８では洗浄液の回収が行わ
れ、第２のカップ４１ではＤＩＷの回収が行われること
になる。
プ４１の開口部より上の第１の位置において窓部４３
を介してウエハ搬送体２２からウエハＷを受け取り、受
け取ったウエハＷを第１のカップ３８の開口部下の位置
に移送して例えば洗浄液による洗浄が行われ、次いで
第１のカップの３８と第２のカップ４１の開口部間の間
隙位置に移送して例えばＤＩＷによる洗浄が行われ
る。従って、第１のカップ３８では洗浄液の回収が行わ
れ、第２のカップ４１ではＤＩＷの回収が行われること
になる。
【００４４】図７に第１及び第２のカップ３８、４１並
びにダミーディスペンサ３７で回収された洗浄液及びＤ
ＩＷの循環系及び排出系の構成を示す。
びにダミーディスペンサ３７で回収された洗浄液及びＤ
ＩＷの循環系及び排出系の構成を示す。
【００４５】図７に示すように、第１のカップ３８で回
収された洗浄液及びダミーディスペンサ３７の内カップ
３７ａで回収された洗浄液は、洗浄液槽６１へ回収され
るようになっている。この洗浄液槽６１は、例えば３０
ｌ程度の洗浄液を貯蔵することが可能である。
収された洗浄液及びダミーディスペンサ３７の内カップ
３７ａで回収された洗浄液は、洗浄液槽６１へ回収され
るようになっている。この洗浄液槽６１は、例えば３０
ｌ程度の洗浄液を貯蔵することが可能である。
【００４６】洗浄液槽６１の下部には、貯蔵する洗浄液
を加熱するヒータ６２が配置されている。ヒータ６２
は、例えば洗浄液がＡＰＭの場合には洗浄液を例えば４
０℃程度に、例えば洗浄液がＨＰＭの場合には洗浄液を
例えば８０℃程度に加熱する。洗浄液がＤＨＦの場合に
は通常洗浄液の加熱は行わない。従って、このような場
合には、ヒータ６２を配置しないように構成してもよ
い。なお、洗浄液槽６１における洗浄液の導入口はヒー
ター６２よりも下部に、洗浄液の取り出し口はヒーター
６２よりも上部に設けた方がより好ましい。これによ
り、洗浄液槽６１内の洗浄液の温度の均一化を図ること
ができる。洗浄液槽６１の側部には、貯蔵する洗浄液の
水面を検出して洗浄液量を検出するリミットセンサ群６
３が配置されている。このリミットセンサ群６３は、例
えば最低レベルの水面の高さと最高レベルの水面の高さ
を検出するように構成し、洗浄液の補充制御に使われ
る。センサの数を増やしてより細かな検出を行うように
しても勿論よい。
を加熱するヒータ６２が配置されている。ヒータ６２
は、例えば洗浄液がＡＰＭの場合には洗浄液を例えば４
０℃程度に、例えば洗浄液がＨＰＭの場合には洗浄液を
例えば８０℃程度に加熱する。洗浄液がＤＨＦの場合に
は通常洗浄液の加熱は行わない。従って、このような場
合には、ヒータ６２を配置しないように構成してもよ
い。なお、洗浄液槽６１における洗浄液の導入口はヒー
ター６２よりも下部に、洗浄液の取り出し口はヒーター
６２よりも上部に設けた方がより好ましい。これによ
り、洗浄液槽６１内の洗浄液の温度の均一化を図ること
ができる。洗浄液槽６１の側部には、貯蔵する洗浄液の
水面を検出して洗浄液量を検出するリミットセンサ群６
３が配置されている。このリミットセンサ群６３は、例
えば最低レベルの水面の高さと最高レベルの水面の高さ
を検出するように構成し、洗浄液の補充制御に使われ
る。センサの数を増やしてより細かな検出を行うように
しても勿論よい。
【００４７】洗浄液槽６１の上部には、洗浄液槽６１に
対して洗浄液、例えばＡＰＭであればＮＨ4 及びＨ2 Ｏ
2 を補充するためのタンク６４、６５が接続され、さら
にＤＩＷ供給口６６が接続されている。このような補充
を洗浄液槽６１の上部から行うようにすることで、洗浄
液の撹拌を効果的に行うことができる。洗浄液の補充
は、例えば所定時間毎に行うようにしてもよく、また洗
浄したウエハＷの枚数が所定枚数になる毎に行うように
してもよく、さらにこれらの組み合わせによって行うよ
うにしてもよい。
対して洗浄液、例えばＡＰＭであればＮＨ4 及びＨ2 Ｏ
2 を補充するためのタンク６４、６５が接続され、さら
にＤＩＷ供給口６６が接続されている。このような補充
を洗浄液槽６１の上部から行うようにすることで、洗浄
液の撹拌を効果的に行うことができる。洗浄液の補充
は、例えば所定時間毎に行うようにしてもよく、また洗
浄したウエハＷの枚数が所定枚数になる毎に行うように
してもよく、さらにこれらの組み合わせによって行うよ
うにしてもよい。
【００４８】洗浄液槽６１に貯蔵された洗浄液は、洗浄
液循環用のポンプ６７及び洗浄液ろ過用のフィルタ６８
を介して噴出ノズル３３、３４に供給されるようになっ
ている。これにより、噴出ノズル３３、３４で使った洗
浄液を循環させて当該噴出ノズル３３、３４で再使用さ
せる循環系が構成されている。また、洗浄液槽６１に貯
蔵された洗浄液は、洗浄液循環用のポンプ６７及び洗浄
液ろ過用のフィルタ６８を介して再び洗浄液槽６１に循
環するようになっている。これにより、洗浄液槽６１内
の洗浄液の混合と温調が行われるようになっている。
液循環用のポンプ６７及び洗浄液ろ過用のフィルタ６８
を介して噴出ノズル３３、３４に供給されるようになっ
ている。これにより、噴出ノズル３３、３４で使った洗
浄液を循環させて当該噴出ノズル３３、３４で再使用さ
せる循環系が構成されている。また、洗浄液槽６１に貯
蔵された洗浄液は、洗浄液循環用のポンプ６７及び洗浄
液ろ過用のフィルタ６８を介して再び洗浄液槽６１に循
環するようになっている。これにより、洗浄液槽６１内
の洗浄液の混合と温調が行われるようになっている。
【００４９】また、洗浄液ろ過用のフィルタ６８と噴出
ノズル３４及びフィルタ６８と噴出ノズル３３との間に
は、それぞれ切換部６９、７０が介挿されている。切換
部６９は、洗浄液槽６１からの洗浄液、ＤＩＷ供給口７
１からのＤＩＷのうちいずれか一方を噴出ノズル３４に
供給する。切換部７０は、洗浄液槽６１からの洗浄液、
ＤＩＷ供給口７２からのＤＩＷのうちいずれか一方を噴
出ノズル３３に供給する。切換部６９、７０の切換制御
は、例えば図示を省略した制御部によって後述するタイ
ミングで行われる。
ノズル３４及びフィルタ６８と噴出ノズル３３との間に
は、それぞれ切換部６９、７０が介挿されている。切換
部６９は、洗浄液槽６１からの洗浄液、ＤＩＷ供給口７
１からのＤＩＷのうちいずれか一方を噴出ノズル３４に
供給する。切換部７０は、洗浄液槽６１からの洗浄液、
ＤＩＷ供給口７２からのＤＩＷのうちいずれか一方を噴
出ノズル３３に供給する。切換部６９、７０の切換制御
は、例えば図示を省略した制御部によって後述するタイ
ミングで行われる。
【００５０】噴出ノズル３３、３４からウエハＷに対し
て噴出されたＤＩＷは、第２のカップ４１により回収さ
れて、排出口４２から排出される。また。噴出ノズル３
４からダミーディスペンサ３７に対して噴出されたＤＩ
Ｗは、外カップ３７ｂにより回収されて排出される。
て噴出されたＤＩＷは、第２のカップ４１により回収さ
れて、排出口４２から排出される。また。噴出ノズル３
４からダミーディスペンサ３７に対して噴出されたＤＩ
Ｗは、外カップ３７ｂにより回収されて排出される。
【００５１】ところで、このように同一の噴出ノズルか
ら洗浄液とＤＩＷの２種類の液体をと交互に噴出するよ
うに構成すると、例えば噴出ノズルからウエハＷに対し
て洗浄液を噴出しようとする場合に、図８に示すように
噴出ノズル３４と切換部６９との間７３に残っていた濯
ぎ液が最初にウエハＷに対して噴出され、また噴出ノズ
ルからウエハＷに対して濯ぎ液を噴出しようとする場合
に、噴出ノズル３４と切換部６９との間７３に残ってい
た洗浄液が最初にウエハＷに対して噴出される。このた
め、ウエハＷに対して洗浄液による悪影響を与えたり、
ウォーターマーク等が付着したりする、といった不具合
が発生する。
ら洗浄液とＤＩＷの２種類の液体をと交互に噴出するよ
うに構成すると、例えば噴出ノズルからウエハＷに対し
て洗浄液を噴出しようとする場合に、図８に示すように
噴出ノズル３４と切換部６９との間７３に残っていた濯
ぎ液が最初にウエハＷに対して噴出され、また噴出ノズ
ルからウエハＷに対して濯ぎ液を噴出しようとする場合
に、噴出ノズル３４と切換部６９との間７３に残ってい
た洗浄液が最初にウエハＷに対して噴出される。このた
め、ウエハＷに対して洗浄液による悪影響を与えたり、
ウォーターマーク等が付着したりする、といった不具合
が発生する。
【００５２】そこで、本実施形態に係る洗浄装置１で
は、噴出部ノズル３４がウエハＷに対して洗浄液を噴出
する前に予め噴出ノズル３４をダミーディスペンサ３７
の内カップ３７ａ上（図６の位置）に移動させて所定
期間噴出ノズル３４より噴出ノズル３４と切換部６９と
の間７３に残っていたＤＩＷを排出させ、噴出部ノズル
３４がウエハＷに対してＤＩＷを噴出する前に予め噴出
ノズル３４をダミーディスペンサ３７の外カップ３７ｂ
上（図６の位置）に移動させて所定期間噴出ノズル３
４より噴出ノズル３４と切換部６９との間７３に残って
いた洗浄液を排出させている。
は、噴出部ノズル３４がウエハＷに対して洗浄液を噴出
する前に予め噴出ノズル３４をダミーディスペンサ３７
の内カップ３７ａ上（図６の位置）に移動させて所定
期間噴出ノズル３４より噴出ノズル３４と切換部６９と
の間７３に残っていたＤＩＷを排出させ、噴出部ノズル
３４がウエハＷに対してＤＩＷを噴出する前に予め噴出
ノズル３４をダミーディスペンサ３７の外カップ３７ｂ
上（図６の位置）に移動させて所定期間噴出ノズル３
４より噴出ノズル３４と切換部６９との間７３に残って
いた洗浄液を排出させている。
【００５３】これにより、ウエハＷに対して洗浄液を噴
出しようとする場合に噴出ノズル３４に残っていたＤＩ
ＷがウエハＷに対して噴出されることがなくなり、また
ウエハＷに対してＤＩＷを噴出しようとする場合に噴出
ノズル３４に残っていた洗浄液がウエハＷに対して噴出
されることがなくなり、洗浄処理をより良好に行うこと
ができるようになる。
出しようとする場合に噴出ノズル３４に残っていたＤＩ
ＷがウエハＷに対して噴出されることがなくなり、また
ウエハＷに対してＤＩＷを噴出しようとする場合に噴出
ノズル３４に残っていた洗浄液がウエハＷに対して噴出
されることがなくなり、洗浄処理をより良好に行うこと
ができるようになる。
【００５４】以上のように本実施形態のウエハ洗浄装置
１では、噴出ノズル３３、３４からウエハＷに噴出され
た洗浄液、さらには噴出ノズル３３からダミーディスペ
ンサ３７に噴出された洗浄液を回収して循環し再利用す
るように構成しているので、洗浄に使用する洗浄液の消
費量を減らことができる。この結果、ランニングコスト
の低減を図ることができる。また、洗浄液槽６１の小型
化が可能となり、スペースコストを低減を図ることがで
きるようになる。
１では、噴出ノズル３３、３４からウエハＷに噴出され
た洗浄液、さらには噴出ノズル３３からダミーディスペ
ンサ３７に噴出された洗浄液を回収して循環し再利用す
るように構成しているので、洗浄に使用する洗浄液の消
費量を減らことができる。この結果、ランニングコスト
の低減を図ることができる。また、洗浄液槽６１の小型
化が可能となり、スペースコストを低減を図ることがで
きるようになる。
【００５５】また、このウエハ洗浄装置１では、洗浄部
を第１及び第２のカップ３８、４１からなる内外２重の
カップ構造とし、さらにダミーディスペンサ３７につい
ても、内外２重のカップ３７ａ、３７ｂの構造としたの
で、洗浄液のみの回収及び再利用を簡単な構成で行うこ
とができる。 さらに、このウエハ洗浄装置１では、２
つの噴出ノズル３３、３４を使いウエハＷの表裏両面よ
り洗浄を行うように構成したので、洗浄処理のスループ
ットを向上させることができる。また、噴出ノズル３
３、３４は、１つの噴出ノズルで２種類の液、つまり洗
浄液とＤＩＷを噴出するように構成したので、装置を小
型化を図ることができる。
を第１及び第２のカップ３８、４１からなる内外２重の
カップ構造とし、さらにダミーディスペンサ３７につい
ても、内外２重のカップ３７ａ、３７ｂの構造としたの
で、洗浄液のみの回収及び再利用を簡単な構成で行うこ
とができる。 さらに、このウエハ洗浄装置１では、２
つの噴出ノズル３３、３４を使いウエハＷの表裏両面よ
り洗浄を行うように構成したので、洗浄処理のスループ
ットを向上させることができる。また、噴出ノズル３
３、３４は、１つの噴出ノズルで２種類の液、つまり洗
浄液とＤＩＷを噴出するように構成したので、装置を小
型化を図ることができる。
【００５６】また、ウエハＷを第１のカップ３８で洗浄
液による洗浄を行い、第２のカップ４１でＤＩＷによる
洗浄を行うように、つまり下部で洗浄液による洗浄を行
い、上部でＤＩＷによる洗浄を行うように構成している
ので、洗浄液に伴う雰囲気がＤＩＷによって洗浄された
ウエハＷに及ぶようなことはなくなり、ウエハＷに対し
て洗浄液による悪影響を与えることがなくなる。なお、
逆の構成、すなわちウエハＷを第１のカップ３８でＤＩ
Ｗによる洗浄を行い、第２のカップ４１で洗浄液による
洗浄を行うように、つまり下部でＤＩＷによる洗浄を行
い、上部で洗浄液による洗浄を行うように構成すること
も可能であり、これにより洗浄液をより効率よく回収す
ることができるようになる。
液による洗浄を行い、第２のカップ４１でＤＩＷによる
洗浄を行うように、つまり下部で洗浄液による洗浄を行
い、上部でＤＩＷによる洗浄を行うように構成している
ので、洗浄液に伴う雰囲気がＤＩＷによって洗浄された
ウエハＷに及ぶようなことはなくなり、ウエハＷに対し
て洗浄液による悪影響を与えることがなくなる。なお、
逆の構成、すなわちウエハＷを第１のカップ３８でＤＩ
Ｗによる洗浄を行い、第２のカップ４１で洗浄液による
洗浄を行うように、つまり下部でＤＩＷによる洗浄を行
い、上部で洗浄液による洗浄を行うように構成すること
も可能であり、これにより洗浄液をより効率よく回収す
ることができるようになる。
【００５７】なお、本発明は、上述した実施形態に限定
されることはなく、その技術思想の範囲内で種々の変形
が可能である。
されることはなく、その技術思想の範囲内で種々の変形
が可能である。
【００５８】例えば、上述した実施形態では、本発明を
ＡＰＭ洗浄ユニットやＤＨＭ洗浄ユニット、ＨＰＭ洗浄
ユニットに適用した例を説明したが、他の洗浄ユニット
についても本発明を適用できる。
ＡＰＭ洗浄ユニットやＤＨＭ洗浄ユニット、ＨＰＭ洗浄
ユニットに適用した例を説明したが、他の洗浄ユニット
についても本発明を適用できる。
【００５９】また、ユニットの構成も上下方向（Ｚ方
向）に多段となるように構成してもよい。
向）に多段となるように構成してもよい。
【００６０】さらに、被処理基板も半導体ウエハに限る
ものでなく、ＬＣＤ基板、ガラス基板、ＣＤ基板、フォ
トマスク、プリント基板、セラミック基板等でも可能で
ある。
ものでなく、ＬＣＤ基板、ガラス基板、ＣＤ基板、フォ
トマスク、プリント基板、セラミック基板等でも可能で
ある。
【００６１】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
被処理基板を洗浄液及び濯ぎ液を使って洗浄する洗浄手
段と、前記洗浄手段で使った洗浄液を循環させて当該洗
浄手段で再使用させる循環系と、前記洗浄手段で使った
濯ぎ液を排出する排出系とを具備したので、洗浄に使用
する洗浄液の消費量を減らし、ランニングコスト及びス
ペースコストを低減することができる。
被処理基板を洗浄液及び濯ぎ液を使って洗浄する洗浄手
段と、前記洗浄手段で使った洗浄液を循環させて当該洗
浄手段で再使用させる循環系と、前記洗浄手段で使った
濯ぎ液を排出する排出系とを具備したので、洗浄に使用
する洗浄液の消費量を減らし、ランニングコスト及びス
ペースコストを低減することができる。
【００６２】本発明によれば、被処理基板の出し入れが
可能な開口部を有し、内カップの開口部の高さが外カッ
プの開口部の高さよりも低い内外２重のカップ構造の収
容部と、前記収容部内で被処理基板を保持して回転し、
かつ前記内外カップ間を移送する回転移送部と、前記内
外カップ内でそれぞれ前記回転移送部により回転される
被処理基板に対し、それぞれ洗浄液及び濯ぎ液のうち一
方を噴出する噴出部と、前記内外カップのうち一方で回
収された洗浄液を循環させて前記噴出部で再使用させる
循環系と、前記内外カップのうち他方で回収された濯ぎ
液を排出する排出系とを具備したので、特に洗浄液の回
収及び再利用を簡単な構成で行うことができる。
可能な開口部を有し、内カップの開口部の高さが外カッ
プの開口部の高さよりも低い内外２重のカップ構造の収
容部と、前記収容部内で被処理基板を保持して回転し、
かつ前記内外カップ間を移送する回転移送部と、前記内
外カップ内でそれぞれ前記回転移送部により回転される
被処理基板に対し、それぞれ洗浄液及び濯ぎ液のうち一
方を噴出する噴出部と、前記内外カップのうち一方で回
収された洗浄液を循環させて前記噴出部で再使用させる
循環系と、前記内外カップのうち他方で回収された濯ぎ
液を排出する排出系とを具備したので、特に洗浄液の回
収及び再利用を簡単な構成で行うことができる。
【００６３】本発明では、被処理基板の出し入れが可能
な開口部を有し、内カップの開口部の高さが外カップの
開口部の高さよりも低い内外２重のカップ構造の収容部
と、前記収容部内で被処理基板を保持して回転し、かつ
前記内外カップ間を移送する回転移送部と、前記内外カ
ップ内でそれぞれ前記回転移送部により回転される被処
理基板の表裏両面に対し、それぞれ洗浄液及び濯ぎ液の
うち一方を噴出する噴出部と、前記内外カップのうち一
方で回収された洗浄液を循環させて前記噴出部で再使用
させる循環系と、前記内外カップのうち他方で回収され
た濯ぎ液を排出する排出系とを具備したので、特に洗浄
時間を短縮してスループットを向上することができる。
な開口部を有し、内カップの開口部の高さが外カップの
開口部の高さよりも低い内外２重のカップ構造の収容部
と、前記収容部内で被処理基板を保持して回転し、かつ
前記内外カップ間を移送する回転移送部と、前記内外カ
ップ内でそれぞれ前記回転移送部により回転される被処
理基板の表裏両面に対し、それぞれ洗浄液及び濯ぎ液の
うち一方を噴出する噴出部と、前記内外カップのうち一
方で回収された洗浄液を循環させて前記噴出部で再使用
させる循環系と、前記内外カップのうち他方で回収され
た濯ぎ液を排出する排出系とを具備したので、特に洗浄
時間を短縮してスループットを向上することができる。
【００６４】本発明では、被処理基板の出し入れが可能
な開口部を有し、内カップの開口部の高さが外カップの
開口部の高さよりも低い内外２重のカップ構造の収容部
と、前記収容部内で被処理基板を保持して回転し、かつ
前記内外カップ間を移送する回転移送部と、前記内カッ
プ内で前記回転移送部により回転される被処理基板の表
裏両面に対して洗浄液を噴出し、前記外カップ内で前記
回転移送部により回転される被処理基板の表裏両面に対
して濯ぎ液を噴出する噴出部と、前記内カップで回収さ
れた洗浄液を循環させて前記噴出部で再使用させる循環
系と、前記外カップで回収された濯ぎ液を排出する排出
系とを具備したので、洗浄液に伴う雰囲気が濯ぎ液によ
って洗浄された被処理基板に及ぶようなことはなくな
り、被処理基板に対して洗浄液による悪影響を与えるこ
とがなくなる。
な開口部を有し、内カップの開口部の高さが外カップの
開口部の高さよりも低い内外２重のカップ構造の収容部
と、前記収容部内で被処理基板を保持して回転し、かつ
前記内外カップ間を移送する回転移送部と、前記内カッ
プ内で前記回転移送部により回転される被処理基板の表
裏両面に対して洗浄液を噴出し、前記外カップ内で前記
回転移送部により回転される被処理基板の表裏両面に対
して濯ぎ液を噴出する噴出部と、前記内カップで回収さ
れた洗浄液を循環させて前記噴出部で再使用させる循環
系と、前記外カップで回収された濯ぎ液を排出する排出
系とを具備したので、洗浄液に伴う雰囲気が濯ぎ液によ
って洗浄された被処理基板に及ぶようなことはなくな
り、被処理基板に対して洗浄液による悪影響を与えるこ
とがなくなる。
【００６５】本発明によれば、被処理基板の出し入れが
可能な開口部を有し、内カップの開口部の高さが外カッ
プの開口部の高さよりも低い内外２重のカップ構造の収
容部と、前記収容部内で被処理基板を保持して回転し、
かつ前記内外カップ間を移送する回転移送部と、前記外
カップ内で前記回転移送部により回転される被処理基板
の表裏両面に対して洗浄液を噴出し、前記内カップ内で
前記回転移送部により回転される被処理基板の表裏両面
に対して濯ぎ液を噴出する噴出部と、前記外カップで回
収された洗浄液を循環させて前記噴出部で再使用させる
循環系と、前記内カップで回収された濯ぎ液を排出する
排出系とを具備したので、特に洗浄液をより効率よく回
収することができる。
可能な開口部を有し、内カップの開口部の高さが外カッ
プの開口部の高さよりも低い内外２重のカップ構造の収
容部と、前記収容部内で被処理基板を保持して回転し、
かつ前記内外カップ間を移送する回転移送部と、前記外
カップ内で前記回転移送部により回転される被処理基板
の表裏両面に対して洗浄液を噴出し、前記内カップ内で
前記回転移送部により回転される被処理基板の表裏両面
に対して濯ぎ液を噴出する噴出部と、前記外カップで回
収された洗浄液を循環させて前記噴出部で再使用させる
循環系と、前記内カップで回収された濯ぎ液を排出する
排出系とを具備したので、特に洗浄液をより効率よく回
収することができる。
【００６６】また、本発明によれば、被処理基板に対し
て同一の噴出ノズルを使って洗浄液及び濯ぎ液を交互に
噴出する噴出部と、前記噴出部が被処理基板に対して洗
浄液及び濯ぎ液を噴出する前に予め所定期間前記噴出ノ
ズルより洗浄液及び濯ぎ液を排出させる手段とを具備し
たので、被処理基板に対して洗浄液による悪影響を与え
たり、ウォーターマーク等が付着することがなくなり、
洗浄処理をより良好に行うことができるようになる。
て同一の噴出ノズルを使って洗浄液及び濯ぎ液を交互に
噴出する噴出部と、前記噴出部が被処理基板に対して洗
浄液及び濯ぎ液を噴出する前に予め所定期間前記噴出ノ
ズルより洗浄液及び濯ぎ液を排出させる手段とを具備し
たので、被処理基板に対して洗浄液による悪影響を与え
たり、ウォーターマーク等が付着することがなくなり、
洗浄処理をより良好に行うことができるようになる。
【００６７】本発明では、被処理基板に対して同一の噴
出ノズルを使って洗浄液及び濯ぎ液を交互に噴出する噴
出部と、前記噴出部が被処理基板に対して洗浄液及び濯
ぎ液を噴出する前に予め所定期間前記噴出ノズルより洗
浄液及び濯ぎ液を排出させる手段と、前記噴出ノズルよ
り排出された洗浄液及び濯ぎ液のうち洗浄液については
回収して循環させて前記噴出部で再使用させる循環系と
を具備したので、特に洗浄液の消費量をさらに減らすこ
とができる。
出ノズルを使って洗浄液及び濯ぎ液を交互に噴出する噴
出部と、前記噴出部が被処理基板に対して洗浄液及び濯
ぎ液を噴出する前に予め所定期間前記噴出ノズルより洗
浄液及び濯ぎ液を排出させる手段と、前記噴出ノズルよ
り排出された洗浄液及び濯ぎ液のうち洗浄液については
回収して循環させて前記噴出部で再使用させる循環系と
を具備したので、特に洗浄液の消費量をさらに減らすこ
とができる。
【００６８】本発明では、被処理基板に対して同一の噴
出ノズルを使って洗浄液及び濯ぎ液を交互に噴出する噴
出部と、前記噴出ノズルより噴出された洗浄液を回収す
る洗浄液回収部と、前記噴出ノズルより噴出された濯ぎ
液を回収する濯ぎ液回収部と、前記噴出部が被処理基板
に対して洗浄液を噴出する前に予め所定期間前記噴出ノ
ズルより前記洗浄液回収部に洗浄液を排出させ、前記噴
出部が被処理基板に対して濯ぎ液を噴出する前に予め所
定期間前記噴出ノズルより前記洗浄液回収部に洗浄液を
排出させる手段と、前記洗浄液回収部により回収された
洗浄液を循環させて前記噴出部で再使用させる循環系と
を具備したので、特に洗浄液の回収を容易に行うことが
できる。
出ノズルを使って洗浄液及び濯ぎ液を交互に噴出する噴
出部と、前記噴出ノズルより噴出された洗浄液を回収す
る洗浄液回収部と、前記噴出ノズルより噴出された濯ぎ
液を回収する濯ぎ液回収部と、前記噴出部が被処理基板
に対して洗浄液を噴出する前に予め所定期間前記噴出ノ
ズルより前記洗浄液回収部に洗浄液を排出させ、前記噴
出部が被処理基板に対して濯ぎ液を噴出する前に予め所
定期間前記噴出ノズルより前記洗浄液回収部に洗浄液を
排出させる手段と、前記洗浄液回収部により回収された
洗浄液を循環させて前記噴出部で再使用させる循環系と
を具備したので、特に洗浄液の回収を容易に行うことが
できる。
【００６９】本発明では、被処理基板に対して同一の噴
出ノズルを使って洗浄液及び濯ぎ液を交互に噴出する噴
出部と、前記噴出部に隣接して設けられ、前記噴出ノズ
ルより噴出された洗浄液を回収する洗浄液回収部と、前
記噴出部に隣接して設けられ、前記噴出ノズルより噴出
された濯ぎ液を回収する濯ぎ液回収部と、前記噴出ノズ
ルを前記噴出部と前記洗浄液回収部と前記濯ぎ液回収部
との間を移動させるノズル移動手段と、前記噴出部が被
処理基板に対して洗浄液を噴出する前に前記ノズル移動
手段により前記噴出ノズルを前記洗浄液回収部へ移動さ
せて予め所定期間噴出ノズルより洗浄液回収部に洗浄液
を排出させ、前記噴出部が被処理基板に対して濯ぎ液を
噴出する前に前記ノズル移動手段により前記噴出ノズル
を前記濯ぎ液回収部へ移動させて予め所定期間噴出ノズ
ルより洗浄液回収部に洗浄液を排出させる手段と、前記
洗浄液回収部により回収された洗浄液を循環させて前記
噴出部で再使用させる循環系とを具備したので、特に洗
浄液消費量の減少をより簡単な構造でさらには装置の大
型化を招来させることなく実現できる。
出ノズルを使って洗浄液及び濯ぎ液を交互に噴出する噴
出部と、前記噴出部に隣接して設けられ、前記噴出ノズ
ルより噴出された洗浄液を回収する洗浄液回収部と、前
記噴出部に隣接して設けられ、前記噴出ノズルより噴出
された濯ぎ液を回収する濯ぎ液回収部と、前記噴出ノズ
ルを前記噴出部と前記洗浄液回収部と前記濯ぎ液回収部
との間を移動させるノズル移動手段と、前記噴出部が被
処理基板に対して洗浄液を噴出する前に前記ノズル移動
手段により前記噴出ノズルを前記洗浄液回収部へ移動さ
せて予め所定期間噴出ノズルより洗浄液回収部に洗浄液
を排出させ、前記噴出部が被処理基板に対して濯ぎ液を
噴出する前に前記ノズル移動手段により前記噴出ノズル
を前記濯ぎ液回収部へ移動させて予め所定期間噴出ノズ
ルより洗浄液回収部に洗浄液を排出させる手段と、前記
洗浄液回収部により回収された洗浄液を循環させて前記
噴出部で再使用させる循環系とを具備したので、特に洗
浄液消費量の減少をより簡単な構造でさらには装置の大
型化を招来させることなく実現できる。
【００７０】本発明では、被処理基板に対して同一の噴
出ノズルを使って洗浄液及び濯ぎ液を交互に噴出する噴
出部と、前記噴出部に隣接して設けられ、前記噴出ノズ
ルより噴出された洗浄液及び濯ぎ液のうち一方を回収す
る内カップと他方を回収する外カップとを有する内外２
重のカップ構造の回収部と、前記噴出ノズルを前記噴出
部と前記回収部との間を移動させるノズル移動手段と、
前記噴出部が被処理基板に対して洗浄液を噴出する前に
前記ノズル移動手段により前記噴出ノズルを前記一方の
カップへ移動させて予め所定期間噴出ノズルより洗浄液
を排出させ、前記噴出部が被処理基板に対して濯ぎ液を
噴出する前に前記ノズル移動手段により前記噴出ノズル
を前記他方のカップへ移動させて予め所定期間噴出ノズ
ルより洗浄液を排出させる手段と、前記回収部により回
収された洗浄液のうち洗浄液については循環させて前記
噴出部で再使用させる循環系とを具備したので、特に装
置のさらなる小型化を図ることができる。
出ノズルを使って洗浄液及び濯ぎ液を交互に噴出する噴
出部と、前記噴出部に隣接して設けられ、前記噴出ノズ
ルより噴出された洗浄液及び濯ぎ液のうち一方を回収す
る内カップと他方を回収する外カップとを有する内外２
重のカップ構造の回収部と、前記噴出ノズルを前記噴出
部と前記回収部との間を移動させるノズル移動手段と、
前記噴出部が被処理基板に対して洗浄液を噴出する前に
前記ノズル移動手段により前記噴出ノズルを前記一方の
カップへ移動させて予め所定期間噴出ノズルより洗浄液
を排出させ、前記噴出部が被処理基板に対して濯ぎ液を
噴出する前に前記ノズル移動手段により前記噴出ノズル
を前記他方のカップへ移動させて予め所定期間噴出ノズ
ルより洗浄液を排出させる手段と、前記回収部により回
収された洗浄液のうち洗浄液については循環させて前記
噴出部で再使用させる循環系とを具備したので、特に装
置のさらなる小型化を図ることができる。
【図１】本発明の実施形態が採用された半導体ウエハの
洗浄装置の全体構成の平面図である。
洗浄装置の全体構成の平面図である。
【図２】図１に示した洗浄装置の正面図である。
【図３】図１に示した洗浄装置の背面図である。
【図４】図１に示した洗浄処理ユニットの縦断面図であ
る。
る。
【図５】図１に示した洗浄処理ユニットの平面図であ
る。
る。
【図６】図４に示した洗浄処理ユニットのダミーディス
ペンサの断面図である。
ペンサの断面図である。
【図７】図１に示した洗浄装置の洗浄液及びＤＩＷの循
環系及び排出系の構成を示す図である。
環系及び排出系の構成を示す図である。
【図８】図７に示した噴出ノズルと切換部との間の拡大
図である。
図である。
１ 洗浄装置 ２２ ウエハ搬送体 ３０ 処理室 ３１ チャック機構 ３３、３４ ノズル ３７ ダミーディスペンサ ３７ａ 内カップ ３７ｂ 外カップ ３８ 第１のカップ ４０、４４ 排気口 ４１ 第２のカップ ４３ 窓部 Ｗ ウエハ
Claims (10)
- 【請求項１】 被処理基板を洗浄液及び濯ぎ液を使って
洗浄する洗浄手段と、 前記洗浄手段で使った洗浄液を循環させて当該洗浄手段
で再使用させる循環系と、 前記洗浄手段で使った濯ぎ液を排出する排出系とを具備
することを特徴とする洗浄装置。 - 【請求項２】 被処理基板の出し入れが可能な開口部を
有し、内カップの開口部の高さが外カップの開口部の高
さよりも低い内外２重のカップ構造の収容部と、 前記
収容部内で被処理基板を保持して回転し、かつ前記内外
カップ間を移送する回転移送部と、 前記内外カップ内でそれぞれ前記回転移送部により回転
される被処理基板に対し、それぞれ洗浄液及び濯ぎ液の
うち一方を噴出する噴出部と、 前記内外カップのうち一方で回収された洗浄液を循環さ
せて前記噴出部で再使用させる循環系と、 前記内外カップのうち他方で回収された濯ぎ液を排出す
る排出系とを具備することを特徴とする洗浄装置。 - 【請求項３】 被処理基板の出し入れが可能な開口部を
有し、内カップの開口部の高さが外カップの開口部の高
さよりも低い内外２重のカップ構造の収容部と、 前記
収容部内で被処理基板を保持して回転し、かつ前記内外
カップ間を移送する回転移送部と、 前記内外カップ内でそれぞれ前記回転移送部により回転
される被処理基板の表裏両面に対し、それぞれ洗浄液及
び濯ぎ液のうち一方を噴出する噴出部と、 前記内外カップのうち一方で回収された洗浄液を循環さ
せて前記噴出部で再使用させる循環系と、 前記内外カップのうち他方で回収された濯ぎ液を排出す
る排出系とを具備することを特徴とする洗浄装置。 - 【請求項４】 被処理基板の出し入れが可能な開口部を
有し、内カップの開口部の高さが外カップの開口部の高
さよりも低い内外２重のカップ構造の収容部と、 前記
収容部内で被処理基板を保持して回転し、かつ前記内外
カップ間を移送する回転移送部と、 前記内カップ内で前記回転移送部により回転される被処
理基板の表裏両面に対して洗浄液を噴出し、前記外カッ
プ内で前記回転移送部により回転される被処理基板の表
裏両面に対して濯ぎ液を噴出する噴出部と、 前記内カップで回収された洗浄液を循環させて前記噴出
部で再使用させる循環系と、 前記外カップで回収された濯ぎ液を排出する排出系とを
具備することを特徴とする洗浄装置。 - 【請求項５】 被処理基板の出し入れが可能な開口部を
有し、内カップの開口部の高さが外カップの開口部の高
さよりも低い内外２重のカップ構造の収容部と、 前記
収容部内で被処理基板を保持して回転し、かつ前記内外
カップ間を移送する回転移送部と、 前記外カップ内で前記回転移送部により回転される被処
理基板の表裏両面に対して洗浄液を噴出し、前記内カッ
プ内で前記回転移送部により回転される被処理基板の表
裏両面に対して濯ぎ液を噴出する噴出部と、 前記外カップで回収された洗浄液を循環させて前記噴出
部で再使用させる循環系と、 前記内カップで回収された濯ぎ液を排出する排出系とを
具備することを特徴とする洗浄装置。 - 【請求項６】 被処理基板に対して同一の噴出ノズルを
使って洗浄液及び濯ぎ液を交互に噴出する噴出部と、 前記噴出部が被処理基板に対して洗浄液及び濯ぎ液を噴
出する前に予め所定期間前記噴出ノズルより洗浄液及び
濯ぎ液を排出させる手段とを具備することを特徴とする
洗浄装置。 - 【請求項７】 被処理基板に対して同一の噴出ノズルを
使って洗浄液及び濯ぎ液を交互に噴出する噴出部と、 前記噴出部が被処理基板に対して洗浄液及び濯ぎ液を噴
出する前に予め所定期間前記噴出ノズルより洗浄液及び
濯ぎ液を排出させる手段と、 前記噴出ノズルより排出された洗浄液及び濯ぎ液のうち
洗浄液については回収して循環させて前記噴出部で再使
用させる循環系とを具備することを特徴とする洗浄装
置。 - 【請求項８】 被処理基板に対して同一の噴出ノズルを
使って洗浄液及び濯ぎ液を交互に噴出する噴出部と、 前記噴出ノズルより噴出された洗浄液を回収する洗浄液
回収部と、 前記噴出ノズルより噴出された濯ぎ液を回収する濯ぎ液
回収部と、 前記噴出部が被処理基板に対して洗浄液を噴出する前に
予め所定期間前記噴出ノズルより前記洗浄液回収部に洗
浄液を排出させ、前記噴出部が被処理基板に対して濯ぎ
液を噴出する前に予め所定期間前記噴出ノズルより前記
濯ぎ液回収部に濯ぎ液を排出させる手段と、 前記洗浄液回収部により回収された洗浄液を循環させて
前記噴出部で再使用させる循環系とを具備することを特
徴とする洗浄装置。 - 【請求項９】 被処理基板に対して同一の噴出ノズルを
使って洗浄液及び濯ぎ液を交互に噴出する噴出部と、 前記噴出部に隣接して設けられ、前記噴出ノズルより噴
出された洗浄液を回収する洗浄液回収部と、 前記噴出部に隣接して設けられ、前記噴出ノズルより噴
出された濯ぎ液を回収する濯ぎ液回収部と、 前記噴出ノズルを前記噴出部と前記洗浄液回収部と前記
濯ぎ液回収部との間を移動させるノズル移動手段と、 前記噴出部が被処理基板に対して洗浄液を噴出する前に
前記ノズル移動手段により前記噴出ノズルを前記洗浄液
回収部へ移動させて予め所定期間噴出ノズルより洗浄液
回収部に洗浄液を排出させ、前記噴出部が被処理基板に
対して濯ぎ液を噴出する前に前記ノズル移動手段により
前記噴出ノズルを前記濯ぎ液回収部へ移動させて予め所
定期間噴出ノズルより濯ぎ液回収部に濯ぎ液を排出させ
る手段と、 前記洗浄液回収部により回収された洗浄液
を循環させて前記噴出部で再使用させる循環系とを具備
することを特徴とする洗浄装置。 - 【請求項１０】 被処理基板に対して同一の噴出ノズル
を使って洗浄液及び濯ぎ液を交互に噴出する噴出部と、 前記噴出部に隣接して設けられ、前記噴出ノズルより噴
出された洗浄液及び濯ぎ液のうち一方を回収する内カッ
プと他方を回収する外カップとを有する内外２重のカッ
プ構造の回収部と、 前記噴出ノズルを前記噴出部と前記回収部との間を移動
させるノズル移動手段と、 前記噴出部が被処理基板に対して洗浄液を噴出する前に
前記ノズル移動手段により前記噴出ノズルを前記一方の
カップへ移動させて予め所定期間噴出ノズルより洗浄液
を排出させ、前記噴出部が被処理基板に対して濯ぎ液を
噴出する前に前記ノズル移動手段により前記噴出ノズル
を前記他方のカップへ移動させて予め所定期間噴出ノズ
ルより濯ぎ液を排出させる手段と、 前記洗浄液回収部により回収された洗浄液及び濯ぎ液の
うち洗浄液については循環させて前記噴出部で再使用さ
せる循環系とを具備することを特徴とする洗浄装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23190096A JP3317855B2 (ja) | 1996-09-02 | 1996-09-02 | 洗浄装置 |
| US08/917,619 US5975097A (en) | 1996-09-02 | 1997-08-26 | Processing apparatus for target processing substrate |
| TW086112311A TW358982B (en) | 1996-09-02 | 1997-08-27 | Processing apparatus for target process in substrate |
| KR1019970045377A KR100414775B1 (ko) | 1996-09-02 | 1997-09-01 | 피처리기판용처리장치및세정장치 |
| KR1020020050830A KR100421349B1 (ko) | 1996-09-02 | 2002-08-27 | 피처리 기판용 처리 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23190096A JP3317855B2 (ja) | 1996-09-02 | 1996-09-02 | 洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1074725A true JPH1074725A (ja) | 1998-03-17 |
| JP3317855B2 JP3317855B2 (ja) | 2002-08-26 |
Family
ID=16930811
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23190096A Expired - Fee Related JP3317855B2 (ja) | 1996-09-02 | 1996-09-02 | 洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3317855B2 (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003045772A (ja) * | 2001-07-27 | 2003-02-14 | Shibaura Mechatronics Corp | スピン処理装置 |
| JP2007189232A (ja) * | 2006-01-13 | 2007-07-26 | Semes Co Ltd | 基板処理装置 |
| JP2007529120A (ja) * | 2004-03-12 | 2007-10-18 | セミトゥール インコーポレイテッド | ワークピース処理用シングルチャンバ |
| JP2008211253A (ja) * | 2008-05-19 | 2008-09-11 | Shibaura Mechatronics Corp | 基板の処理装置、ブラシ洗浄装置 |
| JP2008252006A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
| JP2009218617A (ja) * | 2009-06-22 | 2009-09-24 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
| TWI394205B (zh) * | 2010-12-22 | 2013-04-21 | Micro Engineering Inc | 基板處理裝置及基板處理方法 |
| KR101408788B1 (ko) * | 2010-09-01 | 2014-06-17 | 세메스 주식회사 | 기판처리장치 |
| KR20200026089A (ko) | 2018-08-30 | 2020-03-10 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 기억 매체 |
| JPWO2021111927A1 (ja) * | 2019-12-06 | 2021-06-10 |
-
1996
- 1996-09-02 JP JP23190096A patent/JP3317855B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4727080B2 (ja) * | 2001-07-27 | 2011-07-20 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | スピン処理装置 |
| JP2003045772A (ja) * | 2001-07-27 | 2003-02-14 | Shibaura Mechatronics Corp | スピン処理装置 |
| JP2007529120A (ja) * | 2004-03-12 | 2007-10-18 | セミトゥール インコーポレイテッド | ワークピース処理用シングルチャンバ |
| US8721834B2 (en) | 2006-01-13 | 2014-05-13 | Semes Co., Ltd. | Apparatus for treating substrate |
| JP4532508B2 (ja) * | 2006-01-13 | 2010-08-25 | セメス株式会社 | 基板処理装置 |
| JP2007189232A (ja) * | 2006-01-13 | 2007-07-26 | Semes Co Ltd | 基板処理装置 |
| JP2008252006A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
| JP2008211253A (ja) * | 2008-05-19 | 2008-09-11 | Shibaura Mechatronics Corp | 基板の処理装置、ブラシ洗浄装置 |
| JP2009218617A (ja) * | 2009-06-22 | 2009-09-24 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
| KR101408788B1 (ko) * | 2010-09-01 | 2014-06-17 | 세메스 주식회사 | 기판처리장치 |
| TWI394205B (zh) * | 2010-12-22 | 2013-04-21 | Micro Engineering Inc | 基板處理裝置及基板處理方法 |
| KR20200026089A (ko) | 2018-08-30 | 2020-03-10 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 기억 매체 |
| JPWO2021111927A1 (ja) * | 2019-12-06 | 2021-06-10 | ||
| WO2021111927A1 (ja) * | 2019-12-06 | 2021-06-10 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板液処理装置 |
| KR20220107234A (ko) | 2019-12-06 | 2022-08-02 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 액 처리 장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3317855B2 (ja) | 2002-08-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3116297B2 (ja) | 処理方法及び処理装置 | |
| US7472713B2 (en) | Substrate processing apparatus | |
| JP3563605B2 (ja) | 処理装置 | |
| JP3171807B2 (ja) | 洗浄装置及び洗浄方法 | |
| KR100850698B1 (ko) | 기판 세정 장치, 기판 세정 방법, 기판 처리 시스템, 및기록 매체 | |
| JP2000114233A (ja) | 半導体湿式エッチング装置 | |
| JP7055467B2 (ja) | 半導体ウェハの洗浄方法及び洗浄装置 | |
| KR101670095B1 (ko) | 액 처리 장치 | |
| KR100414775B1 (ko) | 피처리기판용처리장치및세정장치 | |
| JP3317855B2 (ja) | 洗浄装置 | |
| TW202013491A (zh) | 基板處理裝置及基板處理方法 | |
| JP3171822B2 (ja) | 洗浄装置及び洗浄方法 | |
| JP3377414B2 (ja) | 処理装置 | |
| JP3193327B2 (ja) | 洗浄装置 | |
| JP3573445B2 (ja) | 現像装置及び洗浄装置 | |
| JPH10223593A (ja) | 枚葉式ウェハ洗浄装置 | |
| JP4043039B2 (ja) | 現像方法及び現像装置 | |
| JP2003051476A (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
| JP2018129476A (ja) | 基板処理装置 | |
| JP2000288490A (ja) | ウェット処理装置 | |
| JP3540550B2 (ja) | 処理装置及び処理方法 | |
| JP2000208466A (ja) | 基板処理方法および基板処理装置 | |
| JP3999540B2 (ja) | スクラブ洗浄装置におけるブラシクリーニング方法及び処理システム | |
| JP3576899B2 (ja) | 現像処理装置 | |
| JP3934745B2 (ja) | 基板授受ユニット及びこれを用いたウエット処理装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20020108 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20020528 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110614 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110614 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140614 Year of fee payment: 12 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |