JP2003045772A - スピン処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 この発明は基板を処理する第１の処理液と第
２の処理液とを確実に分離して回収することができるス
ピン処理装置を提供することにある。 【解決手段】 装置本体２内に設けられ上面が開口した
カップ体４と、このカップ体内に設けられた回転体５
と、カップ体の上面開口よりもわずかに小径な円盤状で
あって、回転体に保持される基板１０の下面側に位置す
るように設けられた遮蔽部材２５と、遮蔽部材がカップ
体内部に位置する下降位置とカップ体の開口面よりも上
方に位置する上昇位置とに回転体を上下駆動する上下駆
動シリンダ１５と、カップ体の内部に連通し回転体が下
降位置の状態で基板に供給される第１の処理液をカップ
体内から排出する内部排液口３５と、カップ体の外部で
装置本体の内部に連通し回転体が上昇位置の状態で基板
に供給されてカップ体の外部を流れる第２の処理液を排
出する外部排液口３８とを具備する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は回転駆動される基
板を第１の処理液で処理してから第２の処理液で処理す
るスピン処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】たとえば、液晶表示装置の製造過程にお
いては、矩形状のガラス製の基板に回路パターンを形成
するということが行われている。回路パターンを形成す
る場合、上記基板に対して現像処理、エッチング処理あ
るいはレジストの剥離処理などが行われる。これらの処
理を行う場合、まず、基板に第１の処理液として現像
液、エッチング液あるいは剥離液などを供給して所定の
処理を行い、ついで第２の処理液として純水などの洗浄
液を供給して洗浄処理するということが行われる。

【０００３】現像液、エッチング液あるいは剥離液など
の第１の処理液は高価であるため、繰り返して使用する
ということが行われている。第１の処理液を繰り返して
使用する場合、第１の処理液と第２の処理液とを混合さ
せずに回収しなければならない。

【０００４】第１の処理液と第２の処理液との混合を避
けるためには、基板に供給された第１の処理液と第２の
処理液とをそれぞれ別々の経路で回収しなければならな
い。２種類の処理液を別々に回収することができる先行
技術としては特開平８−２６２７４１号公報が知られて
いる。

【０００５】上記公報に示された先行技術は、第１の容
器内に基板を保持する回転チャックが設けられ、この回
転チャックの下面側には上記第１の容器側に固定されて
カバーが設けられている。このカバーは上記回転チャッ
クよりも大きく形成されている。

【０００６】さらに、第１の容器内には第２の容器が上
下駆動されるように設けられている。この第２の容器が
上昇した状態で、回転駆動される基板に第１の処理液を
供給すると、この第１の処理液はカバーの上面に滴下す
るとともに第２の容器の内周面に衝突するから、第２の
容器の内部に回収される。

【０００７】上記第２の容器を、その上端が上記カバー
の上面に接合するまで下降させれば、基板に供給されて
滴下する第２の処理液の一部は、カバーの上面から第２
の容器の外周面を伝わって第１の容器内に流れ、また基
板から周囲に飛散した処理液は第１の容器の内周面に衝
突するから、この第１の容器内に回収される。

【０００８】つまり、第２の容器を上昇あるいは下降さ
せることで、第１の処理液と第２の処理液とを分離回収
することができるようになっている。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
構成によると、基板に供給された処理液はカバーの上面
に滴下する。そのため、処理液はカバーの上面に溜まり
易いため、第１の処理液あるいは第２の処理液を回収す
るときに、上記カバーの上面に溜まった処理液が回収さ
れる処理液に混合してしまうということが発生し易い。

【００１０】上記カバーの上面を径方向周辺部にゆくに
つれて低く傾斜させることで、このカバーの上面に処理
液を溜まりにくくすることができる。しかしながら、カ
バーの直径寸法や高さ寸法は第１、第２の容器の大きさ
によって制限を受ける。そのため、上記カバーの上面の
傾斜角度にも制限を受けることになるから、そのことに
よってもカバーの上面に処理液が溜まり易いということ
がある。

【００１１】たとえカバーの上面を傾斜させても、処理
液はカバーの上面から確実に除去できるものでなく、付
着残留することが避けられないから、その処理液が他の
処理液に混合するということがある。

【００１２】さらに、第２の容器を下降させたときに、
その上端部を上記カバーの上面に接合させて処理液が第
２の容器内に入り込むのを防止している。しかしなが
ら、第２の容器をカバーの上面に接合させるだけでは、
カバーの上面を流れる処理液が第２の容器とカバーとの
接合面間に浸入して第２の容器内に入り込んだり、カバ
ー上面に残留することがあるから、その処理液が第２の
容器に回収される処理液と混合するということがある。

【００１３】この発明は、第１の処理液と第２の処理液
とを確実に分離して回収できるようにしたスピン処理装
置を提供することにある。

【００１４】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、基板
を第１の処理液と第２の処理液とで処理するスピン処理
装置において、装置本体と、この装置本体内に設けられ
上面が開口したカップ体と、このカップ体内に設けられ
上記基板を保持して回転駆動される回転体と、上記カッ
プ体の上面開口よりもわずかに小径な円盤状であって、
上記回転体にこの回転体に保持される基板の下面側に位
置するように設けられた遮蔽部材と、この遮蔽部材が上
記カップ体内部に位置する下降位置と、上記カップ体の
開口面よりも上方に位置する上昇位置とに上記回転体を
上下駆動する上下駆動手段と、上記カップ体の内部に連
通して設けられ上記回転体が上記下降位置の状態で上記
基板に供給される上記第１の処理液を上記カップ体内か
ら排出する内側排液部と、上記カップ体の外部で上記装
置本体の内部に連通して設けられ上記回転体が上記上昇
位置の状態で上記基板に供給されて上記カップ体の外部
を流れる上記第２の処理液を排出する外側排液部とを具
備したことを特徴とするスピン処理装置にある。

【００１５】請求項２の発明は、上記装置本体には、一
端が上記カップ体内の内側空間部と、上記装置本体の内
部で上記カップ体の外側の外側空間部との両方に連通し
た排気路と、この排気路の上記内側空間部と外側空間部
との連通状態をいずれか一方に選択的に切換える切換え
手段とが設けられていることを特徴とする請求項１記載
のスピン処理装置にある。

【００１６】請求項３の発明は、上記カップ体の内部に
は、上記回転体が下降位置のときに一端を支点として他
端が上記回転体の回転中心方向に回動してこの回転体に
保持された基板に第１の処理液を供給する内部ノズル体
が設けられていることを特徴とする請求項１または請求
項３記載のスピン処理装置にある。

【００１７】請求項４の発明は、上記第１の処理液は薬
液で、上記第２の処理液は純水であることを特徴とする
請求項１又は請求項３記載のスピン処理装置にある。

【００１８】請求項５の発明は、基板を処理液によって
処理するスピン処理装置において、カップ体と、このカ
ップ体内に設けられ上記基板を保持して回転駆動される
回転体と、このカップ体内に一端を支点として他端が上
記回転体の回転中心方向に回動可能に設けられこの回転
体に保持された上記基板に上記処理液を供給する内部ノ
ズル体とを具備したことを特徴とするスピン処理装置に
ある。

【００１９】請求項６の発明は、上記内部ノズル体の一
端を支点とする回動方向は、上記回転体の回転方向と逆
方向であることを特徴とする請求項５記載のスピン処理
装置にある。

【００２０】この発明によれば、回転駆動及び上下駆動
される回転体に、基板の下面側に位置するように遮蔽部
材を設けたことで、基板に供給されて上記遮蔽部材上に
滴下した処理液を、上記遮蔽部材の高さ位置によってカ
ップ体の内部あるいは外部に振り分けることができる。
上記遮蔽部材は回転体とともに回転するから、遮蔽部材
の上面に滴下した処理液は遠心力によってその上面にほ
とんど残留することなく飛散する。

【００２１】

【発明の実施の形態】以下、この発明の一実施の形態を
図面を参照して説明する。

【００２２】図１はこの発明のスピン処理装置の横断面
図で、図２は基板を第１の処理液である薬液、たとえば
剥離液などで処理している状態の側断面図で、図３は基
板を第２の処理液である純水によって処理している状態
の側断面図である。

【００２３】スピン処理装置はクリーンルームに設置さ
れ、このスピン処理装置は図２と図３に示すように架台
１を有する。この架台１上には矩形箱型状で、上面が開
口した装置本体２が設置されている。この装置本体２内
には上面に上部開口部３ａが形成され、底面に下部開口
部３ｂが形成されたカップ体４が配設されている。

【００２４】このカップ体４内には回転体５が設けられ
ている。回転体５は図１に示すように円盤状の基部６
と、この基部６の外周面から外方に突設された４本のア
ーム７とからなる。各アーム７の先端部には、このアー
ム７の長手方向に沿って所定間隔で突設された一対の係
合ピン８と、この一対の係合ピン８よりもアーム７の基
端部寄り突設された支持ピン９とが設けられている。上
記係合ピン８は支持ピン９よりも背が高く設定されてい
る。

【００２５】そして、上記回転体５には、たとえば液晶
表示装置に用いられるガラス製の矩形状の基板１０が角
部の下面を上記支持ピン８によって支持され、角部の側
面を上記一対の係合ピン９に係合させて保持される。そ
れによって、上記回転体５が後述するごとく回転駆動さ
れると、この回転体５に保持された基板１０は、回転体
５と一体的に回転するようになっている。

【００２６】上記架台１の上記カップ体４の下方に位置
する部分には駆動機構１３が配置されている。この駆動
機構１３は可動板１４を有し、この可動板１４は図２と
図３に鎖線で示す上下駆動シリンダ１５によって上下駆
動されるようになっている。

【００２７】上記可動板１４の下面には回転モータ１６
が取付けられている。この回転モータ１６の回転軸１７
は上記可動板１４の上面側に突出し、その上端は上記回
転体５の基部６の下面に連結されている。

【００２８】したがって、上記回転体５は、上記回転モ
ータ１６によって回転駆動されるとともに、上記上下駆
動シリンダ１５によって図２に示す下降位置と、図３に
示す上昇位置とに上下駆動されるようになっている。

【００２９】上記可動板１４の上面には支持部材２１が
設けられ、この支持部材２１には主カバー２２が設けら
れている。この主カバー２２は頂部に上記回転軸１７が
挿通される通孔２３を有する円錐状に形成されていて、
図２に示すように回転体５が下降位置にあるときにはカ
ップ体４の下部開口部３ｂを閉塞するようになってい
る。

【００３０】上記回転軸１７には、上記カバー２２の通
孔２３を覆う補助カバー２４と、この補助カバー２４よ
りも上方に上記カップ体上部開口部３ａよりもわずかに
小径な円盤状の遮蔽部材２５とが設けられている。この
遮蔽部材２５は、図３に示すように回転体５が上昇位置
にあるときにカップ体４の上部開口部３ａよりもわずか
に上方に位置するようになっている。

【００３１】図１に示すように、上記カップ体４内の上
記遮蔽部材２５よりも径方向外方には、周方向に１８０
度ずれて一対の支柱軸２６が突設されている。各支柱軸
２６の下端部はカップ体４の外底部に突出し、この支柱
軸２６を所定の角度で回転駆動するたとえばロータリシ
リンダなどの回転機構２７に取付けられている。

【００３２】各支柱軸２６の上端にはそれぞれ内部ノズ
ル体２８の基端部が取付けられている。この内部ノズル
体２８は上記遮蔽部材２５の半径とほぼ同じ曲率半径で
湾曲したパイプ材によって形成されたシャワーノズルか
らなり、上記回転機構２７によって図１に破線で示す退
避位置から鎖線で示す供給位置まで矢印Ａで示す反時計
方向に回転駆動されるようになっている。それによっ
て、内部ノズル体２８は先端部が上記回転体５に保持さ
れた基板１０のほぼ中心部分の上方に対向位置するよう
になっている。

【００３３】上記内部ノズル体２８には第１の処理液と
して剥離液やエッチング液などの薬液が供給され、その
薬液が回転体５に保持された基板１０に向けてシャワー
状に噴射される。

【００３４】上記回転体５に保持された上記基板１０
は、図１に矢印Ａで示す上記内部ノズル体２８の回転方
向と逆方向に回転駆動される。つまり、基板１０の一対
の内部ノズル体２８に対向する部分は、矢印Ａで示す内
部ノズル体２８の回転方向に向かう矢印Ｂ方向に回転す
る。

【００３５】それによって、内部ノズル体２８から基板
１０に噴射される第１の処理液は、基板１０の上面に先
に噴射塗布された第１の処理液を攪拌する作用が大きく
なるから、第１の処理液を活性化し、その反応を促進さ
せることになる。

【００３６】上記装置本体２の内周面の高さ方向中途部
には、周方向全長にわたってリング状部材３１が設けら
れている。このリング状部材３１の一辺には回転機構３
２が設けられている。この回転機構３２にはアーム３３
の基端部が取付けられ、このアーム３３の先端部には外
部ノズル体３４が設けられている。

【００３７】上記アーム３３を上記回転機構３２によっ
て回転させることで、図３に示すように上昇位置にある
回転体５に保持された基板１０の中心部分に上記外部ノ
ズル体３４を対向させることができるようになってい
る。

【００３８】上記外部ノズル体３４にはたとえば純水な
どの第２の処理液が供給される。外部ノズル体３４に供
給された第２の処理液は、このノズル体３４内に設けら
れた図示しない超音波振動子によって超音波振動を与え
られてから基板１０に向けて噴射される。したがって、
基板１０を第２の処理液によって洗浄処理することがで
きるようになっている。

【００３９】上記カップ体４の底部の周辺部の４箇所に
は内側排液部としての内部排液口３５が形成されてい
る。各内部排液口３５には第１の排液管３６が接続さ
れ、これら第１の排液管３６は貯液タンク３７に連通し
ている。

【００４０】したがって、回転体５が図２に示す下降位
置で、上記内部ノズル体２８から基板１０に向けて第１
の処理液が供給されると、その第２の処理液はカップ体
４に滴下して上記内部排液口３５から第１の排液管３６
を通じて上記貯液タンク３７に回収されるようになって
いる。貯液タンク３７に回収された第１の処理液は上記
内部ノズル体２８に供給されるようになっている。つま
り、第２の処理液は繰り返して使用される。

【００４１】上記カップ体４の外部で、上記装置本体２
の底部の４箇所には外側排液部としての外部排液口３８
が形成されている。各外部排液口３８には第２の排液管
３９が接続されている。

【００４２】したがって、図３に示すように回転体５が
上昇した状態で回転する基板１０に上記外部ノズル体３
４から第２の処理液が供給されると、その第２の処理液
は回転体５の下側に設けられた遮蔽部材２５によってカ
ップ体４内に滴下するのが阻止されてカップ体４の外側
に滴下するから、そこから上記外部排液口３８に流入
し、第２の排液管３９を通って適所に排出されるように
なっている。

【００４３】上記装置本体２の側壁内面には、その内面
と所定間隔で離間して設けられた仕切り板４１によって
上下方向に沿う排気路４２が区画形成されている。この
排気路４２の下端部は通気管４３を介して上記カップ体
４の内側空間部に連通し、上記仕切り体４１の下端部に
形成された通気口４４を介して上記カップ体４の外側空
間部に連通している。

【００４４】上記排気路４２の上端部は絞られて図示し
ない排気管に接続されている。この排気管には同じく図
示しない排気ファンが接続されている。したがって、こ
の排気ファンの吸引力によって上記カップ体４の内側空
間部や外側空間部を排気できるようになっており、排気
された雰囲気はクリーンルームの外部に排出されるよう
になっている。

【００４５】なお、排気路４２は装置本体２の一側壁内
面だけであってもよいが、カップ体４に設けられる通気
管４３の数に応じて二側壁以上の内面に形成するように
してもよく、最大四側壁内面に形成してもよい。

【００４６】上記通気管４３と通気口４４とは切換え機
構４６によっていずれか一方が選択的に開閉される。こ
の切換え機構４６は切換えシリンダ４７を有し、このシ
リンダ４７のロッド４８にはシャッタ４９が取付けられ
ている。

【００４７】上記ロッド４８が突出方向に駆動されてい
るときには上記シャッタ４９は通気口４４を閉塞して通
気管４３を開放し、後退方向に駆動されているときには
通気口４４を開放して通気管４３を閉塞する。

【００４８】したがって、上記排気ファンの吸引力を上
記排気路４２を通じてカップ体４の内側空間部と外側空
間部とのいずれか一方に選択的に作用させることができ
るから、どちらか一方の空間部を効率よく排気すること
ができる。

【００４９】上記装置本体２の一側壁には、図３に示す
ように回転体５が上昇した状態において、この回転体５
に図示しないロボットによって未処理の基板１０を供給
したり、処理された基板１０を取り出すための出し入れ
口５１が上記一側壁に幅方向に沿って形成されている。

【００５０】上記出し入れ口５１はシャッタ５２によっ
て開閉される。このシャッタ５２は上記リング状部材３
１の一辺とともにシリンダ５３によって上下駆動され
る。それによって、上記出し入れ口５１が開閉されるよ
うになっている。

【００５１】上記カップ体４の上方には基板１０の帯電
を防止するためのコロナ放電を発生するイオナイザ５３
が配置され、さらにこのイオナイザ５３の上方には装置
本体２の上面開口から内部に流入するダウンフローを清
浄化するためのＨＥＰＡなどのフィルタ５４が配置され
ている。

【００５２】つぎに、上記構成のスピン処理装置によっ
てレジストが付着した基板１０を洗浄処理する工程につ
いて説明する。

【００５３】図３に示すように、回転体５が上昇した状
態で、この回転体５に出し入れ口５１からレジストが付
着した未処理の基板５が供給されると、図２に示すよう
に上記回転体５が下降するとともに、出し入れ口５１が
シャッタ５２によって閉塞される。また、シャッタ４９
が通気口４４を閉塞し、排気路４２がカップ体４の内側
空間部に連通することで、このカップ体４内が排気され
る。

【００５４】ついで、回転体５が回転駆動され、基板１
０が回転体５と一体的に図１に矢印Ｂで示す反時計方向
に回転するとともに、カップ体４内に設けられた一対の
内部ノズル体２８から第１の処理液を噴射させながら、
この内部ノズル体２８を矢印Ｂで示すように基板１０の
回転方向Ａと逆方向に回動する。それによって、基板１
０に付着したレジストが剥離されることになる。

【００５５】基板１０に供給された第１の処理液は、基
板１０の上面からカップ体４内へ直接滴下したり、基板
１０の下面側に位置して回転体５と一体に回転する遮蔽
部材２５の上面に滴下し、この上面から遮蔽部材２５の
回転によって生じる遠心力でカップ体４内に滴下する。

【００５６】つまり、遮蔽部材２５が回転体５と一体的
に回転しているため、第１の処理液が遮蔽部材２５上に
滴下しても、その第１の処理液は回転によって生じる遠
心力で遮蔽部材２５の上面から確実にカップ体４内に滴
下するから、第１の処理液が遮蔽部材２５に付着残留す
るのが防止できる。

【００５７】カップ体４内に滴下した第１の処理液は、
このカップ体４の底部の４箇所に形成された内部排液口
３５から第１の排液管３６を通って貯液タンク３７に回
収され、この貯液タンク３７から上記内部ノズル体２８
に供給されることで、繰り返して使用することができ
る。

【００５８】カップ体４内に内部ノズル体２８を回動可
能に設け、この内部ノズル体２８によって基板１０に付
着したレジストを剥離する第１の処理液を供給するよう
にしたことで、第１の処理液がカップ体４の外部に滴下
するようなことがない。

【００５９】つまり、従来はカップ体４の外部に回動可
能に設けられたノズル体によって基板１０に第１の処理
液を供給するようにしていたから、たとえば第１の処理
液の供給停止後に、ノズル体がカップ体４の上方から退
避する位置まで回動する間に、このノズル体から第１の
処理液がカップ体４の外部や上面に滴下し、装置本体２
内の汚染を招くということがあった。

【００６０】しかしながら、この実施の形態では、基板
１０に第１の処理液を供給する内部ノズル体２８をカッ
プ体４の内部に設けたから、第１の処理液がカップ体４
の外部や上面などに滴下して汚れの原因になるのを防止
することができる。

【００６１】したがって、基板１０を後述するごとく洗
浄してから乾燥処理する際に、第１の処理液による汚れ
が基板１０に付着するのを防止できる。

【００６２】基板１０に第１の処理液を供給する際、排
気路４２はカップ体４の内部に連通している。そのた
め、装置本体２内にフィルタ５４を通して流入するダウ
ンフローを効率よく確実にカップ体４内に導入して排気
路４２から排気することができるから、基板１０が処理
されるカップ体４内の気流に乱れが生じるのを防止でき
る。つまり、内部ノズル体２８から基板１０に第１の処
理液を供給することで、たとえばミストが発生しても、
そのミストは排気路４２を通じて確実に排出できるか
ら、カップ体４や装置本体２内で浮遊して基板１０に再
付着するのを防止できる。

【００６３】基板１０に第１の処理液を供給する際、第
１の処理液を噴射している内部ノズル体２８を基板１０
と逆方向に回転させて先端部を基板１０の径方向内方に
向かって移動させている。

【００６４】そのため、内部ノズル体２８から基板１０
に噴射される第１の処理液は、基板１０の上面に先に噴
射塗布された第１の処理液を攪拌する作用が大きくなる
から、第１の処理液を活性化し、その反応を促進させる
ことになる。つまり第１の処理液によるレジストの剥離
作用が促進されることになる。

【００６５】このようにして、基板１０への第１の処理
液の供給を所定時間行ったならば、内部ノズル体２８を
基板１０の上方から退避する方向へ回動させるととも
に、回転体５の回転を停止した後、この回転体５を図２
に示す下降位置から図３に示す上昇位置へ駆動する。回
転体５を上昇位置に位置決めすると、この回転体５の下
方に設けられた遮蔽部材２５がカップ体４の上部開口部
３ａの端面よりもわずかに上方に位置決めされる。

【００６６】また、切換え機構４６のシリンダ４７を作
動させて通気口４４を閉塞していたシャッタ４９を下降
させ、上記通気口４４を開放して通気管４３を閉塞す
る。それによって、排気路４２は上記通気口４４を介し
てカップ体４の外側空間部に連通し、その外側空間部を
排気することになる。

【００６７】つぎに、回転体５を回転させ、外部ノズル
体３４から第２の処理液としての純水を噴射させるとと
もに、アーム３３の先端に設けられた外部ノズル体３４
を回転体５に保持された基板１０の径方向に沿って往復
駆動する。それによって、基板１０の上面は、外部ノズ
ル体３４から噴射される第２の処理液によって洗浄処理
されることになる。

【００６８】基板１０を洗浄処理した第２の処理液は、
基板１０がカップ体４の上部開口部３ａよりも上方に位
置しているから、回転する基板１０の遠心力によってカ
ップ体４の外側に飛散滴下し、装置本体２の底部に形成
された外部排液口３８から第２の排液管３９を通じて排
出される。

【００６９】また、基板１０に供給された第２の処理液
の一部は、基板１０が矩形状であるため、遮蔽部材２５
の上面に滴下するものの、遮蔽部材２５の上面に滴下し
た第２の処理液は、この遮蔽部材２５が回転体５と一体
に回転するため、その遠心力によって上面から周辺部に
飛散する。

【００７０】上記遮蔽部材２５はカップ体４の上部開口
部３ａよりもわずかに小径であるが、カップ体４の上面
よりも上方に位置している。そのため、遮蔽部材２５の
周辺部から遠心力によって周辺部に飛散する第２の処理
液がカップ体４内に入り込むことがない。つまり、遮蔽
部材２５から飛散した第２の処理液は装置本体２の底部
に形成された外部排液口３８から第２の排液管３９を通
じて排出される。

【００７１】したがって、基板１０を洗浄処理し、カッ
プ体４の外側空間部を通じて排出される第２の処理液
が、基板１０に塗布されたレジストを剥離し、カップ体
４の内側空間部を通じて回収される第１の処理液に混合
するのを防止することができる。

【００７２】また、排気路４２を通じて行われる排気
は、この排気路４２が通気口４４を介してカップ体４の
外側空間部に連通している。そのため、基板１０を第２
の処理液で洗浄することで、外側空間部にミストが発生
しても、そのミストとともに外側空間部を確実に排気す
ることができる。

【００７３】第２の処理液による洗浄を所定時間行った
ならば、外部ノズル体３４を基板１０上から退避させ
る。ついで、回転体５を数千回転の高速度で回転させ
る。それによって、基板１０の上面に付着した第２の処
理液が遠心力で飛散するから、基板１０を乾燥処理する
ことができる。

【００７４】基板１０を乾燥処理するために高速回転さ
せると、基板１０から飛散した第２の処理液が装置本体
２の内周面に勢いよく衝突するから、装置本体２内にお
けるミストの発生が増大する。

【００７５】しかしながら、第２の装置本体２の内側空
間部は排気路４２に連通しているから、装置本体２内で
発生するミストを上記排気路４２を通じて排出すること
ができる。

【００７６】しかも、排気路４２を、切換え機構４６の
シャッタ４９によってカップ体４の外側空間部だけに連
通させ、内側空間部との連通状態を遮断しているため、
乾燥処理時に第２の処理液が飛散する外側空間部を効率
よく排気することができる。したがって、乾燥処理され
た基板１０にミストが再付着して汚染の原因になるのを
確実に防止することができる。

【００７７】この発明は上記一実施の形態に限定される
ものでなく、たとえば基板としては液晶表示装置用のガ
ラス基板に限られず、半導体ウエハであってもよく、要
は複数種の処理液によって順次処理することが要求され
る基板であれば、この発明を適用することができる。

【００７８】

【発明の効果】この発明によれば、基板を保持して回転
駆動及び上下駆動される回転体に、上記基板の下面側に
位置するように遮蔽部材を設けたから、基板に供給され
て上記遮蔽部材上に滴下した処理液を、上記遮蔽部材の
高さ位置によってカップ体の内部あるいは外部に振り分
けることができる。

【００７９】そのため、基板を第１の処理液と第２の処
理液とで順次処理する際、遮蔽部材の高さ位置を処理液
の種類に応じて変えることで、上記第１の処理液と第２
の処理液とを分離して回収することができる。

【００８０】しかも、上記遮蔽部材は回転体とともに回
転するから、遮蔽部材の上面に滴下した処理液は遠心力
によってその上面にほとんど残留することなく飛散する
から、遮蔽部材の上面に処理液が残留し、その処理液が
他の処理液に混ざるということもない。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の一実施の形態を示すスピン処理装置
の横断面図。

【図２】回転体を下降位置にして基板を第１の処理液で
処理する状態を示すスピン処理装置の縦断面図。

【図３】回転体を上昇位置にして基板を第２の処理液で
処理する状態を示すスピン処理装置の縦断面図。

【符号の説明】

２…装置本体 ４…カップ体 ５…回転体 １０…基板 ２５…遮蔽部材 ２８…内部ノズル体 ３４…外部ノズル体 ３５…内部排液口（内側排液部） ３８…外部排液口（外側排液部） ４２…排気路 ４３…通気管 ４４…通気口

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｌ 21/304 ６４８ Ｈ０１Ｌ 21/306 Ｊ (72)発明者 豊島 範夫 神奈川県横浜市栄区笠間二丁目５番１号 芝浦メカトロニクス株式会社横浜事業所内 (72)発明者 西部 幸伸 神奈川県横浜市栄区笠間二丁目５番１号 芝浦メカトロニクス株式会社横浜事業所内 (72)発明者 長山 由紀夫 神奈川県横浜市栄区笠間二丁目５番１号 芝浦メカトロニクス株式会社横浜事業所内 Ｆターム(参考） 2H096 AA25 GA29 3B201 AA02 AA03 AB01 AB34 AB42 BB43 BB83 BB92 BB93 CC13 CD11 5F043 AA01 BB27 DD13 EE07 EE08 EE09 EE33 EE37 GG10 5F046 LA04 LA06 LA07

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を第１の処理液と第２の処理液とで
   処理するスピン処理装置において、 装置本体と、 この装置本体内に設けられ上面が開口したカップ体と、 このカップ体内に設けられ上記基板を保持して回転駆動
   される回転体と、 上記カップ体の上面開口よりもわずかに小径な円盤状で
   あって、上記回転体にこの回転体に保持される基板の下
   面側に位置するように設けられた遮蔽部材と、 この遮蔽部材が上記カップ体内部に位置する下降位置
   と、上記カップ体の開口面よりも上方に位置する上昇位
   置とに上記回転体を上下駆動する上下駆動手段と、 上記カップ体の内部に連通して設けられ上記回転体が上
   記下降位置の状態で上記基板に供給される上記第１の処
   理液を上記カップ体内から排出する内側排液部と、 上記カップ体の外部で上記装置本体の内部に連通して設
   けられ上記回転体が上記上昇位置の状態で上記基板に供
   給されて上記カップ体の外部を流れる上記第２の処理液
   を排出する外側排液部とを具備したことを特徴とするス
   ピン処理装置。
2. 【請求項２】 上記装置本体には、 一端が上記カップ体内の内側空間部と、上記装置本体の
   内部で上記カップ体の外側の外側空間部との両方に連通
   した排気路と、 この排気路の上記内側空間部と外側空間部との連通状態
   をいずれか一方に選択的に切換える切換え手段とが設け
   られていることを特徴とする請求項１記載のスピン処理
   装置。
3. 【請求項３】 上記カップ体の内部には、上記回転体が
   下降位置のときに一端を支点として他端が上記回転体の
   回転中心方向に回動してこの回転体に保持された基板に
   第１の処理液を供給する内部ノズル体が設けられている
   ことを特徴とする請求項１または請求項３記載のスピン
   処理装置。
4. 【請求項４】 上記第１の処理液は薬液で、上記第２の
   処理液は純水であることを特徴とする請求項１又は請求
   項３記載のスピン処理装置。
5. 【請求項５】 基板を処理液によって処理するスピン処
   理装置において、 カップ体と、 このカップ体内に設けられ上記基板を保持して回転駆動
   される回転体と、 このカップ体内に一端を支点として他端が上記回転体の
   回転中心方向に回動可能に設けられこの回転体に保持さ
   れた上記基板に上記処理液を供給する内部ノズル体とを
   具備したことを特徴とするスピン処理装置。
6. 【請求項６】 上記内部ノズル体の一端を支点とする回
   動方向は、上記回転体の回転方向と逆方向であることを
   特徴とする請求項５記載のスピン処理装置。