JP2002329705A - スピン処理装置 - Google Patents

スピン処理装置

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JP2002329705A
JP2002329705A JP2001130179A JP2001130179A JP2002329705A JP 2002329705 A JP2002329705 A JP 2002329705A JP 2001130179 A JP2001130179 A JP 2001130179A JP 2001130179 A JP2001130179 A JP 2001130179A JP 2002329705 A JP2002329705 A JP 2002329705A
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JP
Japan
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cup
substrate
cup body
rotating
liquid
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Application number
JP2001130179A
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English (en)
Inventor
Masaaki Furuya
正明 古矢
Tadao Hirakawa
忠夫 平川
Kounosuke Hayashi
航之介 林
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Toshiba Corp
Shibaura Mechatronics Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Shibaura Mechatronics Corp
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Publication date
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  • Drying Of Solid Materials (AREA)
  • Weting (AREA)
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  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 この発明は基板を処理する複数種の処理液を
確実に分離回収できるようにしたスピン処理装置を提供
することにある。 【解決手段】 基板を保持して回転駆動される回転体2
7と、周方向に沿って回転可能に設けられるとともに内
部に上記回転体を収容したカップ体1と、上記回転体に
保持された基板に向けて異なる種類の処理液を選択的に
供給するノズル体29〜31と、上記カップ体の底部に
設けられ上記供給手段から上記基板に供給された処理液
を排出する短管3と、上記カップ体の回転方向に沿って
配置された複数の分配管21〜23を有し、上記カップ
体を回転させることで上記排液部が上記分配部のうちの
1つに対向可能な排液切換え部17と、使用する処理液
の種類に応じて上記カップ体を回転させ上記排液部を所
定の分配部に対向位置決めする駆動モータ16とを具備
する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は回転駆動される基
板を複数種の処理液で順次処理するスピン処理装置に関
する。
【0002】
【従来の技術】たとえば、液晶表示装置や半導体装置の
製造過程においては、スピン処理装置を用いて矩形状の
ガラス基板や半導体ウエハなどの基板に回路パターンを
形成するということが行われている。
【0003】上記スピン処理装置はカップ体を有し、こ
のカップ体内には回転駆動される回転体が設けられてい
る。この回転体は上記基板を着脱可能に保持できるよう
になっている。
【0004】上記基板に回路パターンを形成する場合、
基板にエッチング処理を行ない、ついでレジストの剥離
処理が行われる。つまり、レジストが塗布された基板を
回転体に保持したならば、この回転体を回転させながら
基板にエッチング液を供給してエッチング処理を行な
い、その後、純水を供給してエッチング液を洗浄除去す
る。
【0005】次に、基板に剥離液を供給して基板に付着
残留したレジストを除去した後、基板に純水を供給し、
基板上から剥離液を洗浄除去する。その後、基板を高速
回転させることで、基板を乾燥処理するようにしてい
る。
【0006】エッチング液や剥離液などの処理液は高価
であるため、繰り返して使用するということが行われて
いる。複数の処理液のうち、少なくとも1つを繰り返し
て使用する場合、これらの処理液を混合させずに回収し
なければならない。
【0007】各処理液の混合を避けるためには、基板に
供給されたそれぞれの処理液を別々の経路で回収しなけ
ればならない。このような先行技術は特開平8−262
741号公報に示されている。
【0008】上記公報に示された構成は、第1の容器内
に基板を保持する回転チャックが設けられ、この回転チ
ャックの下面側には上記第1の容器側に固定されてカバ
ーが設けられている。このカバーは上記回転チャックよ
りも大きく形成されている。
【0009】さらに、第1の容器内には第2の容器が上
下駆動されるように設けられている。この第2の容器が
上昇した状態で、回転駆動される基板に第1の処理液を
供給すると、この第1の処理液はカバーの上面に滴下す
るとともに第2の容器の内周面に衝突するから、第2の
容器内に回収される。
【0010】上記第2の容器を、その上端が上記カバー
の上面に接合するまで下降させれば、基板に供給されて
滴下する第2の処理液の一部は、カバーの上面から第2
の容器の外周面を伝わって第1の容器内に流れ、また基
板から周囲に飛散した処理液は第1の容器の内周面に衝
突するから、この第1の容器内に回収される。
【0011】つまり、第2の容器を上昇あるいは下降さ
せることで、第1の処理液と第2の処理液とを分離回収
することができるようになっている。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成によると、第1の容器内に第2の容器を上下動
可能に設けなければならないため、装置が大型化、とく
に第1の容器の大径化を招いたり、全体の構成が複雑化
するということがある。
【0013】しかも、第1の容器と第2の容器とでは内
径寸法が異なる。そのため、回転駆動される基板から飛
散する処理液が各容器の内周面で反射する反射方向が異
なったり、基板の回転によって容器内で生じる気流の状
態が異なるから、どちらの容器を使用するかによって容
器内での気流が円滑に排出されなくなり、容器内で発生
するミストが基板に再付着することもある。
【0014】この発明は、装置の大型化や構成の複雑化
を招くことなく、異なる種類の処理液を分離回収するこ
とができ、しかも気流の乱れにより基板が汚染されるこ
とがないようにしたスピン処理装置を提供することにあ
る。
【0015】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、回転
駆動される基板を複数種類の処理液で順次処理するスピ
ン処理装置において、上記基板を保持して回転駆動され
る回転体と、周方向に沿って回転可能に設けられるとと
もに内部に上記回転体を収容したカップ体と、上記回転
体に保持された基板に向けて異なる種類の処理液を選択
的に供給する供給手段と、上記カップ体の底部に設けら
れ上記供給手段から上記基板に供給された処理液を排出
する排液部と、上記カップ体の回転方向に沿って配置さ
れた複数の分配部を有し、上記カップ体を回転させるこ
とで上記排液部が上記分配部のうちの1つに対向可能な
液分離手段と、使用する処理液の種類に応じて上記カッ
プ体を回転させ上記排液部を所定の分配部に対向位置決
めする駆動手段とを具備したことを特徴とするスピン処
理装置にある。
【0016】請求項2の発明は、上記カップ体は下カッ
プと、この下カップに対して独立して移動可能に設けら
れた上カップとに分離され、上記駆動手段は上記下カッ
プを回転駆動することを特徴とする請求項1記載のスピ
ン処理装置にある。
【0017】請求項3の発明は、上記カップ体の周壁に
は、このカップ体内の雰囲気を吸引排出する排気部が形
成されていることを特徴とする請求項1記載のスピン処
理装置にある。
【0018】請求項4の発明は、上記液分離手段は、上
面に上記排液部が対向する開口部が形成され内部が複数
の部屋に隔別されていて、上記カップ体を回転させるこ
とで上記排液部が所定の部屋に対向可能に設けられた気
液分離容器と、この気液分離容器の底部に上記各部屋に
それぞれ連通するよう設けられ上記排液部から各部屋に
滴下した処理液を排出する上記分配部と、上記気液分離
容器に設けられ上記排液部を通じて上記カップ体内の雰
囲気を吸引排出する排気部とを備えていることを特徴と
する請求項1記載のスピン処理装置にある。
【0019】この発明によれば、カップ体を回転させて
このカップ体に設けられた排液部を所定の分配管に対向
位置決めできるから、排液部から排出される処理液を、
その種類に応じて異なる分配管に流すことで、分離回収
することができる。
【0020】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面を参照して説明する。
【0021】図1と図2はこの発明の第1の実施の形態
を示し、図1はスピン処理装置の概略的構成を示す断面
図で、このスピン処理装置はカップ体1を備えている。
このカップ体1は底部に第1の通孔1aを有するリング
状の下カップ2a及びこの下カップ2aを覆う同じくリ
ング状の上カップ2bとから構成されている。
【0022】上記下カップ2は断面形状がほぼV字状を
なしていて、底部には周方向に所定間隔で排液部を形成
する複数の短管3が接続されている。この実施の形態で
は、周方向に90度間隔で4本の短管3が設けられてい
る。上記上カップ2bは内周面が凹曲面2cに形成さ
れ、後述するごとく基板Wから飛散する処理液を下カッ
プ2aに向けて反射するようになっているとともに、図
示しないシリンダなどによって上下駆動されるようにな
っている。
【0023】上記下カップ2aはベース板4上に周方向
に沿って回転可能に設けられている。すなわち、ベース
板4上には円弧状ガイド5が設けられ、上記下カップ2
の内周部には上記円弧状ガイド5に転動可能に係合した
ローラ6が設けられている。
【0024】上記下カップ2の外周面には係合ピン7が
垂設されている。この係合ピン7はベース板4に穿設さ
れた貫通孔8からベース板4の下面側に突出し、その突
出端にはフック9が係合している。このフック9は矩形
板状をなしていて、長手方向に沿う係合溝11が一端に
開放して形成されている。そして、この係合溝11に上
記係合ピン7が係合している。
【0025】上記フック9はスライダ12aに取付けら
れている。つまり、上記ベース板4の下面には、上記下
カップ2の接線方向に沿ってリニアガイド12bが設け
られている。このリニアガイド12bには上記フック9
が取付けられた上記スライダ13がスライド可能に設け
られている。
【0026】上記フック9の他端にはラック14が上記
リニアガイド12bと平行に設けられている。このラッ
ク14にはピニオン15が噛合している。このピニオン
15は上記ベース板4の下面に保持された駆動モータ1
6の回転軸16aに嵌着されている。
【0027】したがって、上記駆動モータ16によって
ピニオン15が回転されることで、このピニオン15に
噛合したラック14及びスライダ13を介して上記フッ
ク9がリニアガイド12bに沿って移動するから、この
フック9の移動により係合ピン7を介して下カップ2が
周方向に回転駆動されることになる。つまり、図2にお
いて、スライダ13が矢印A方向に移動すると、下カッ
プ2は時計方向に回転し、矢印B方向に移動すると、反
時計方向に回転するようになっている。
【0028】上記ベース板4には、下カップ2に設けら
れた4つの短管3に対応する部位にそれぞれ排出切換え
部17が設けられている。この排出切換え部17は、下
カップ2の周方向に沿って上記ベース板4に開口形成さ
れた長孔18を有し、ベース板4の下面の上記長孔18
に対応する位置には円孔状の容器19が設けられてい
る。この容器19の底部には分配部としての第1乃至第
3の分配管21〜23の上端が接続されている。なお、
上記容器19内には隣り合う分配管21〜23の接続端
面を隔別する仕切り板24が設けられている。
【0029】各分配管21〜23はそれぞれ図示しない
回収タンクに接続され、各分配管21〜23を通じて後
述するごとく排出される処理液を回収若しくは排出でき
るようになっている。
【0030】上記ベース板4の上記下カップ2aの中心
部分に対応する個所には第2の通孔25が形成されてい
る。この第2の通孔25からはベース板4の下面に保持
された回転モータ26の回転軸26aが上面側に突出し
ている。
【0031】上記回転軸26aには回転体27が取り付
けられている。この回転体27の上面には半導体ウエハ
などの基板Wを着脱可能に保持する保持部材28が周方
向に所定間隔で設けられている。
【0032】上記回転体27の上方には異なる種類の処
理液を上記回転体27に保持された基板Wに向けて供給
する供給手段としての第1乃至第3のノズル体29〜3
1が配置されている。第1のノズル体29は第1の処理
液としてのエッチング液を供給し、第2のノズル体30
は第2の処理液としての基板Wに付着したレジストを剥
離する剥離液を供給する。さらに、第3のノズル体31
は基板Wに付着したエッチング液や剥離を洗浄除去する
純水を供給するようになっている。
【0033】なお、詳細は図示しないが、上記下カップ
2aの内周壁32は、上記回転体27の周壁の内周面に
離間対向しており、それによって回転体27に保持され
た基板Wに供給された処理液が回転体27の下面側に回
り込むのを防止するようになっている。
【0034】上記下カップ2aの外周壁33には周方向
に所定間隔、たとえば90度間隔で4つの排気口34
(2つのみ図示)が形成されている。各排気口34には
排気ダクト35が接続されている。これら排気ダクト3
5は図示しない排気ポンプに連通している。したがっ
て、排気ポンプが作動することで、上記カップ体1内の
雰囲気が排出されるようになっている。
【0035】つぎに、上記構成のスピン処理装置によっ
て基板Wをエッチング処理する場合について説明する。
【0036】まず、駆動モータ16を作動させて上記下
カップ2aを回転させ、この下カップ2aに設けられた
短管3を排液切換え部17の第1の分配管21に対向す
るよう、位置決めする。
【0037】つぎに、上カップ2bを下降させ、レジス
トが部分的に塗布された基板Wを回転体27に供給し、
この基板Wを保持部材28によって保持したならば、上
カップ2bを所定の位置に上昇させる。ついで、排気ダ
クト35に接続された排気ポンプを作動させ、カップ体
1内の雰囲気を排気するとともに、回転体27を回転モ
ータ26によって数十〜数百r.p.mの低速度で回転
させ、第1のノズル体29から基板Wに向けてエッチン
グ液を供給する。それによって、基板Wはレジストが塗
布されていない部分がエッチングされることになる。
【0038】基板Wをエッチングしたエッチング液は、
この基板Wの周縁部から飛散し、上カップ2bの凹曲面
2cで下方に向かって反射し、短管3を通じて第1の分
配管21から排出される。したがって、エッチング液は
第1の分配管21に接続された図示しない回収タンクに
回収される。
【0039】基板Wのエッチングが終了したならば、駆
動モータ16を作動させて下カップ2aを回転させ、そ
の短管3を第2の分配管22に対向位置決めする。つい
で、第2のノズル体30から基板Wに向けて純水を供給
する。
【0040】それによって、基板Wに付着したエッチン
グ液は純水によって洗浄除去され、そのエッチング液が
混入した純水は第2の分配管22を通じて排出される。
【0041】基板Wを洗浄したならば、駆動モータ16
によって下カップ2aを回転させ、短管3を第3の分配
管23に対向位置決めする。ついで、基板Wには第3の
ノズル体31から剥離液を供給することで、基板Wに付
着したレジストを除去する。
【0042】基板Wからレジストを除去した剥離液は上
記短管3から第3の分配管23を通じてエッチング液と
は異なる回収タンクに回収される。
【0043】剥離液によるレジストの除去が終了したな
らば、駆動モータ16を作動して下カップ2aを回転さ
せ、その短管3を第2の分配管22に対向位置決めす
る。そして、基板Wに第2のノズル体30から純水を供
給すれば、基板Wに付着した剥離液を洗浄除去すること
ができ、基板Wを洗浄した剥離液を含む純水は短管3か
ら第2の分配管22を通じて排出される。
【0044】剥離液が除去された基板Wを洗浄したなら
ば、回転体27を回転モータ26によって1000r.
p.m以上の高速度で回転させる。それによって、基板
Wに付着した処理液が遠心力によって飛散し、基板Wが
乾燥処理されることになる。
【0045】基板Wの処理時にこの基板Wから飛散する
エッチング液、剥離液及び純水は常に上カップ2bの凹
曲面2cで下方に向かって反射する。上カップ2bは基
板Wを処理する間は常に同じ高さにあり、処理液の種類
によって高さが変化するようなことがない。
【0046】そのため、上カップ2bの凹曲面2cで反
射するエッチング液、剥離液及び純水の反射方向はほぼ
同じ方向になるから、これらの処理液を上方へ反射させ
ることなく、下カップ2aに接続された短管3から確実
に排出することができる。
【0047】各処理液が上カップ2bの凹曲面2cで反
射することで、ミストの発生を招くことが避けられな
い。しかしながら、カップ体1内の雰囲気は、下カップ
2aの排気口34に接続された排気ダクト35を通じて
排出されるため、カップ体1内で発生したミストも一緒
に排出されるから、カップ体1内で発生したミストがそ
のカップ体1内を浮遊して基板Wに再付着し、基板Wの
汚染の原因になるのを防止することができる。
【0048】すなわち、上記構成のスピン処理装置によ
れば、カップ体1の下カップ2aを基板Wに供給する処
理液の種類に応じて所定方向に所定角度回転させ、下カ
ップ2aに接続された短管3から排出される処理液を第
1乃至第3の分配管21〜23のいずれかに選択的に流
すようにした。そのため、複数の処理液を分離して回収
することができるから、それら処理液を再使用すること
ができる。
【0049】しかも、下カップ2aを回転させること
で、複数の処理液を分離回収できるため、従来のように
複数の容器を同心的に設けて処理液を分離回収する場合
に比べて装置全体の径方向の寸法を小さくすることがで
きるばかりか、構成も簡略化することができる。
【0050】図3と図4はこの発明の第2の実施の形態
を示す。なお、第1の実施の形態と同一部分には同一記
号を付して説明を省略する。
【0051】この第2の実施の形態は、ベース板4の下
面の、このベース板4に形成された長孔18と対応する
箇所に上記第1の実施の形態の容器19に代わり、気液
分離容器41が設けられている。この気液分離容器41
の内部は仕切り板42によって3つの部屋43a〜43
cに区画されている。なお、3つの部屋43a〜43c
は、気液分離容器41の一側面に対応する部分で互いに
連通するよう、仕切り板42の一部が切除されている。
【0052】上記気液分離容器41の下面には、各部屋
43a〜43cにそれぞれ連通する第1乃至第3の分配
管21〜23が接続されている。さらに、気液分離容器
41の一側面には排気口44が形成されている。この排
気口44には排気ダクト35が接続され、この排気ダク
ト35は図示しない排気ポンプに接続されている。した
がって、気液分離容器41の各部屋43a〜43cから
下カップ2aに接続された短管3を通じてカップ体1内
の雰囲気を吸引できるようになっている。
【0053】なお、詳細は図示しないが、下カップ2a
には周方向に90度間隔で4本の短管3が接続され、ベ
ース板4には短管3の数に対応して4つの気液分離容器
41が設けられている。
【0054】このような構成によれば、下カップ2aを
回転させて短管3を気液分離容器41の3つの部屋43
a〜43cのいずれかに対向位置決めすれば、基板Wに
供給された処理液を、その部屋に接続された第1乃至第
3の分配管21〜23のいずれかに排出することができ
る。つまり、基板Wに供給される種類の異なる複数種の
処理液を、上記第1の実施の形態と同様、分離回収する
ことができる。
【0055】しかも、気液分離容器41を用いて処理液
を分離回収するようにした。つまり、通常のスピン処理
装置は気液分離容器41を備えているから、その気液分
離容器41を利用することによって、構成の簡略化や部
品点数の低減を図ることが可能となる。
【0056】図5はこの発明の第3の実施の形態を示
す。この第3の実施の形態はカップ体1Aが下カップと
上カップとに分割されておらず、単一構成となってい
る。このカップ体1Aの下面には中空軸51が突設され
ていて、この中空軸51によって上記カップ体1Aは図
示しない軸受により周方向に回転可能に支持されてい
る。上記中空軸51には従動プーリ52が嵌着されてい
る。
【0057】カップ体1Aの側方には駆動モータ53が
配置され、この駆動モータ53の回転軸54には駆動プ
ーリ55が嵌着されている。この駆動プーリ55と上記
従動プーリ52とにはベルト56が張設されている。し
たがって、上記駆動モータ53によって上記カップ体1
Aを回転させることができる。
【0058】上記中空軸51には上下軸61が挿通され
ている。この上下軸61の上端は上記カップ体1A内に
突出し、その上端には基板Wを着脱可能に保持できる回
転体62が設けられている。
【0059】上記上下軸61の下端は例えばシリンダな
どの上下駆動源63に連結されている。それによって上
記回転体62をカップ体1A内に位置する下降状態と、
カップ体1Aから突出する上昇状態に位置決めできるよ
うになっている。つまり、回転体62に基板Wを着脱す
るときには回転体62は上昇状態に位置決めされ、基板
を処理液で処理する場合には下降状態に位置決めされ
る。
【0060】上記カップ体1Aの底部は所定方向に向か
って傾斜していて、その最下端部には排液部を形成する
短管64が接続されている。この短管64は、カップ体
1Aを回転させることで、第2の実施の形態と同様、気
液分離容器41内に仕切り板42によって隔別形成され
た3つの部屋43a〜43cのいずれかに選択的に対向
位置決めできる。
【0061】したがって、基板Wに供給される処理液の
種類に応じてカップ体1Aを回転させて上記短管64ガ
対向する部屋43a〜43cを選択すれば、処理液を各
部屋に接続された第1乃至第3の分配管21〜23を通
じて分離回収することができる。
【0062】この第3の実施の形態において、図示しな
いが、カップ体1Aの下方に設けられる気液分離容器4
1をリング形状とし、この内部を周方向に沿って複数の
部屋に分割し、各部屋の底部に分配管を接続する構成と
してもよい。
【0063】上記各実施の形態では3種類の処理液を使
用する場合について説明したが、処理液の種類は4種類
以上であってものよく、その場合は排出管の数を処理液
の種類に応じて増やすようにすればよい。
【0064】さらに、気液分離器41の内部仕切り板4
2の一部を削除せずに、仕切り板により隔別形成された
部屋毎に排気ダクトを設け、使用する薬液の種類に応じ
て排気を分けてもよい。
【0065】
【発明の効果】以上のようにこの発明によれば、カップ
体を回転させてこのカップ体に設けられた排液部を、複
数の分配管のうちの、所定の分配管に対向位置決めでき
るようにした。
【0066】そのため、排液部から排出される処理液
を、その種類に応じて異なる排出管に流すことで、種類
の異なる複数種の処理液を分離回収することができる。
【0067】また、複数の処理液を分離回収するため、
カップ体を回転させるようにしたから、複数のカップ体
(容器)を同心的に設け、使用する処理液の種類に応じ
て上下動させる従来構造に比べて構成の簡略化や小型化
を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の第1の実施の形態のスピン処理装置
の概略的構成を示す断面図。
【図2】排液切換え部と排液部との概略的配置状態を示
す説明図。
【図3】この発明の第2の実施の形態のスピン処理装置
の概略的構成を示す断面図。
【図4】気液分離容器の横断面図。
【図5】この発明の第3の実施の形態のスピン処理装置
の概略的構成を示す断面図。
【符号の説明】
1…カップ体 2a…下カップ 2b…上カップ 3…短管(排液部) 16…駆動モータ(駆動手段) 21〜23…分配管(液分離手段) 27…回転体 29〜31…ノズル体(供給手段) W…基板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 21/304 643 H01L 21/306 J 651 21/30 572B (72)発明者 平川 忠夫 神奈川県横浜市栄区笠間二丁目5番1号 芝浦メカトロニクス株式会社横浜事業所内 (72)発明者 林 航之介 神奈川県横浜市栄区笠間二丁目5番1号 芝浦メカトロニクス株式会社横浜事業所内 Fターム(参考) 2H096 AA25 GA29 HA17 LA02 LA30 3B201 AA02 AA03 AB33 AB47 BB21 BB92 BB93 CC13 CD11 CD22 CD33 3L113 AA04 AB08 AC45 AC46 AC53 AC63 BA34 CB34 DA13 DA14 DA24 5F043 AA01 BB27 DD13 EE07 EE08 EE33 EE40 GG10 5F046 MA10

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 回転駆動される基板を複数種類の処理液
    で順次処理するスピン処理装置において、 上記基板を保持して回転駆動される回転体と、 周方向に沿って回転可能に設けられるとともに内部に上
    記回転体を収容したカップ体と、 上記回転体に保持された基板に向けて異なる種類の処理
    液を選択的に供給する供給手段と、 上記カップ体の底部に設けられ上記供給手段から上記基
    板に供給された処理液を排出する排液部と、 上記カップ体の回転方向に沿って配置された複数の分配
    部を有し、上記カップ体を回転させることで上記排液部
    が上記分配部のうちの1つに対向可能な液分離手段と、 使用する処理液の種類に応じて上記カップ体を回転させ
    上記排液部を所定の分配部に対向位置決めする駆動手段
    とを具備したことを特徴とするスピン処理装置。
  2. 【請求項2】 上記カップ体は下カップと、この下カッ
    プに対して独立して移動可能に設けられた上カップとに
    分離され、上記駆動手段は上記下カップを回転駆動する
    ことを特徴とする請求項1記載のスピン処理装置。
  3. 【請求項3】 上記カップ体の周壁には、このカップ体
    内の雰囲気を吸引排出する排気部が形成されていること
    を特徴とする請求項1記載のスピン処理装置。
  4. 【請求項4】 上記液分離手段は、上面に上記排液部が
    対向する開口部が形成され内部が複数の部屋に隔別され
    ていて、上記カップ体を回転させることで上記排液部が
    所定の部屋に対向可能に設けられた気液分離容器と、こ
    の気液分離容器の底部に上記各部屋にそれぞれ連通する
    よう設けられ上記排液部から各部屋に滴下した処理液を
    排出する上記分配部と、上記気液分離容器に設けられ上
    記排液部を通じて上記カップ体内の雰囲気を吸引排出す
    る排気部とを備えていることを特徴とする請求項1記載
    のスピン処理装置。
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