JP4593713B2 - スピン処理装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
この発明は回転駆動される基板を第1の処理液で処理してから第2の処理液で処理するスピン処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
たとえば、液晶表示装置の製造過程においては、矩形状のガラス製の基板に回路パターンを形成するということが行われている。回路パターンを形成する場合、上記基板に対して現像処理、エッチング処理あるいはレジストの剥離処理などが行われる。これらの処理を行う場合、まず、基板に第1の処理液として現像液、エッチング液あるいは剥離液などを供給して所定の処理を行い、ついで第2の処理液として純水などの洗浄液を供給して洗浄処理するということが行われる。
【0003】
現像液、エッチング液あるいは剥離液などの第1の処理液は高価であるため、循環使用するということが行われている。第1の処理液を循環使用する場合、第1の処理液と第2の処理液とを混合させずに回収しなければならない。
【0004】
第1の処理液と第2の処理液との混合を避けるためには、基板に供給された第1の処理液と第2の処理液とをそれぞれ別々の経路で回収しなければならない。このような先行技術は特開平8−262741号公報に示されている。
【0005】
上記公報に示された構成は、第1の容器内に基板を保持する回転チャックが設けられ、この回転チャックの下面側には上記第1の容器側に固定されてカバーが設けられている。このカバーは上記回転チャックよりも大きく形成されている。
【0006】
さらに、第1の容器内には第2の容器が上下駆動されるように設けられている。この第2の容器が上昇した状態で、回転駆動される基板に第1の処理液を供給すると、この第1の処理液はカバーの上面に滴下するとともに第2の容器の内周面に衝突するから、第2の容器の内に回収される。
【0007】
上記第2の容器を、その上端が上記カバーの上面に接合するまで下降させれば、基板に供給されて滴下する第2の処理液の一部は、カバーの上面から第2の容器の外周面を伝わって第1の容器内に流れ、また基板から周囲に飛散した処理液は第1の容器の内周面に衝突するから、この第1の容器内に回収される。
【0008】
つまり、第2の容器を上昇あるいは下降させることで、第1の処理液と第2の処理液とを分離回収することができるようになっている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、このような構成によると、基板に供給された処理液はカバーの上面に滴下する。そのため、処理液はカバーの上面に溜まり易いため、第1の処理液あるいは第2の処理液を回収するときに、上記カバーの上面に溜まった処理液が回収される処理液に混合してしまうということがある。
【0010】
上記カバーの上面を径方向周辺部にゆくにつれた低く傾斜させることで、このカバーの上面に処理液を溜まりにくくすることができる。しかしながら、カバーの直径寸法や高さ寸法は第1、第2の容器の大きさによって制限を受ける。そのため、上記カバーの上面の傾斜角度にも制限を受けることになるから、カバーの上面に溜まる処理液を良好に流すことができない。
【0011】
たとえカバーの上面を傾斜させても、処理液はカバーの上面から確実に除去できるものでなく、付着残留することが避けられないから、その処理液が他の処理液に混合するということがある。
【0012】
さらに、第2の容器を下降させたときに、その上端部を上記カバーの上面に接合させて処理液が第2の容器内に入り込むのを防止している。しかしながら、第2の容器をカバーの上面に接合させるだけでは、カバーの上面を流れる処理液が第2の容器とカバーとの接合面間に浸入して第2の容器内に入り込むことがあるため、その処理液が第2の容器に回収される処理液と混合するということがある。
【0013】
この発明は、第1の処理液と第2の処理液とを確実に分離して回収できるようにしたスピン処理装置を提供することにある。
【0014】
【課題を解決するための手段】
請求項1の発明は、矩形状の基板を第1の処理液で処理してから第2の処理液で処理するスピン処理装置において、
カップ体と、
基部及びこの基部の外周部に基端部が周方向に所定の間隔で連結され先端部には上記基板の各角部を支持する支持部が設けられた4本のアームを有し、上記カップ体内に設けられて回転駆動される回転体と、
この回転体の下面側または上面側に回転体と一体に回転するよう設けられ上記基板に供給された第1あるいは第2の処理液を受けて遠心力で飛散させる平面形状が円形状の遮蔽部材と、
上記カップ体内に設けられこのカップ体内を内側空間部と外側空間部とに隔別する環状壁体と、
上記カップ体の上記内側空間部と外側空間部とにそれぞれ連通して設けられた内側排液管及び外側排液管と、
上記カップ体内に上下動可能に設けられ上昇時には上記環状壁体とで上記基板に供給された第1の処理液あるいは第2の処理液のいずれか一方が上記外側空間部に流入するのを阻止し下降時には他方の処理液が内側空間部に流入するのを阻止する切り分け壁体と
を具備したことを特徴とするスピン処理装置にある。
【0015】
請求項2の発明は、上記切り分け壁体は、下降時に上端が上記遮蔽部材の上面よりも下方に位置することを特徴とする請求項1記載のスピン処理装置にある。
【0016】
請求項3の発明は、上記遮蔽部材の上面と外周面とは90度以下の角度でエッジを形成していることを特徴とする請求項1または請求項2記載のスピン処理装置にある。
【0021】
請求項1の発明によれば、回転体の下面側または上面側に、この回転体と一体に回転する遮蔽部材を設けたことで、この遮蔽部材の上面に滴下した処理液は、回転する遮蔽部材の遠心力によって確実に飛散除去することができるから、残留して他の処理液に混合するのを防止できる。
また、回転体の重量の減少を図るために、この回転体を基部及び4本のアームから形成することで、基板に供給された処理液が下方へ滴下する量が増大するものの、処理液は遮蔽部材の上面に滴下するため、遠心力によって確実に飛散させて除去することができる。
【0022】
請求項2の発明によれば、切り分け壁体を下降させたときに、その上端が遮蔽部材の上面よりも下方に位置するため、遮蔽部材の上面から遠心力によって飛散する処理液が切り分け壁体に衝突するのを防止できる。
【0023】
請求項3の発明によれば、遮蔽部材の上面と外周面とが90度以下のエッジを形成しているため、遮蔽部材の上面を径方向外方に向かって流れる処理液が外周面を伝わって下面側へ流れ込むのを防止できる。
【0026】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の実施の形態を図面を参照して説明する。
【0027】
図1乃至図5はこの発明の第1の実施の形態を示し、図1はスピン処理装置の概略的構成を示す断面図で、このスピン処理装置はカップ体1を備えている。このカップ体1は底部に第1の通孔2aが形成された下カップ2及びこの下カップ2を覆う上カップ3とから構成されている。
【0028】
上記下カップ2はベース板4上に設けられている。このベース板4には上記通孔2aに対応する位置に第2の通孔4aが形成されている。上記第1の通孔2aの周囲は第1の仕切り壁5によって覆われ、上記第2の通孔4aの周囲は上記第1の仕切り壁5の内側に位置する第2の仕切り壁6によって覆われている。
【0029】
上記上カップ2は上記下カップ2の外周面を覆う周壁部7と、この周壁部7の上部に取り付けられるとともに上記下カップ2の上方を覆う環状の上壁部8とからなる。
【0030】
上記下カップ2内には、この下カップ2内を内側空間部11と外側空間部12とに隔別する環状壁体13及び環状壁体13に対して上下動可能な切り分け壁体15とからなる。
【0031】
この環状壁体13は下端が上記下カップ2の内底面に液密に固着されており、上記切り分け壁体15は周囲が二重壁15aで、上部が傾斜壁15bとなっていて、その二重壁15aの間の部分に上記環状壁体13を挿入し、上下方向にスライド可能となっている。
【0032】
上記切り分け壁体15の二重壁15aの外側の下端には下部連結片16を介して連動軸17の下端が連結されている。この連動軸17は上記上カップ2の周壁部7の上部に形成された通孔7aから外部に突出している。そして、この連動軸17の上端には上記ベース板4上に軸線を垂直にして設けられたシリンダ18のロッド18aに上部連結片19によって連結されている。
【0033】
したがって、シリンダ18によって上記切り分け壁体15を、図1に示すように上昇した状態と、図2に示すように下降した状態とに上下駆動することができるようになっている。
【0034】
上記下カップ2の通孔2aには円筒状の回転軸21が挿通されている。この回転軸21の上部は上記カップ体1内に突出し、その上端には回転体22が取り付けられている。
【0035】
図4に示すように、上記回転体22は基部23と、この基部23の外周部に周方向に所定の間隔で基端部が連結された4本のアーム24とからなる。各アーム24の先端部には支持ピン25と、この支持ピン25よりも背の高い一対の係止ピンと26が突設されている。そして、回転体22には液晶表示装置用の矩形状の基板30がその四隅部の下面を上記支持ピン25に支持されるとともに外側面を上記係止ピン26に係合させて支持される。
【0036】
上記回転軸21は、中途部が軸受27によって回転自在に支持されているとともに、下端部は駆動モータ28の回転子29aに連結されている。この回転子29aは筒状をなしていて、同じく筒状の固定子29b内に回転自在に挿入されている。この固定子29bは固定板31に取り付け固定されている。
【0037】
したがって、上記駆動モータ28が作動すると、上記回転体22が回転駆動されるから、この回転体22と一体的に基板30が回転駆動されるようになっている。
【0038】
上記軸受27は上記固定板31に設けられた支持体32に設けられていて、この支持体32には上記下カップ2の通孔2aを覆う円形状のカバー33が固定されている。このカバー33には外周縁に周壁33aが垂設され、径方向中途部の下面には上記第2の仕切り壁6の内側に位置する第3の仕切り壁34が垂設されている。
【0039】
つまり、下カップ2の第1の通孔2aが形成された部分は所定間隔を介して同心状に配置された第1乃至第3の仕切り壁5,6,34によって覆われ、さらに第1の仕切り壁5の外側はカバー33の周壁33aによって覆われたラビリンス構造をなしているから、上記回転体22に保持された基板30に向けて後述するごとく供給される処理液が上記下カップ2の通孔2aから外部に流出するのが阻止されるようになっている。
【0040】
上記下カップ2の底部は径方向外方に向かって低く傾斜していて、上記内側空間部11の最も低い位置には複数の内側排液管41が接続され、外側空間部12の最も低い位置には複数の外側排液管42が接続されている。さらに、ベース板4には、下カップ2に接続された内側排液管41よりも径方向内側の部分に複数の内側排気管43が接続され、上記内側排液管41よりも外側の部分には複数の外側排気管44が接続されている。
【0041】
上記各排液管41,42はそれぞれ別々の貯液タンク(図示せず)に連通し、上記各排気管43,44はそれぞれ別々の排気ポンプ(図示せず)に接続されている。なお、下カップ2の下面側の空間部は、複数の環状のシール部材45によって内側排気管43がカップ体1内の内側空間部11に連通し、外側排気管44が外側空間部12に連通するよう仕切られている。
【0042】
図1に示すように、切り分け壁体15が上昇した状態で上記排気ポンプが作動すると、カップ体1内には矢印で示すようにカップ体1の内側空間部11を通って内側排気管43から排気される気流が発生する。
【0043】
図2に示すように、上記上部壁体15を下降させた状態で排気ポンプを作動させると、カップ体1内には矢印で示すように外側空間部12を通って外側排気管44から排気される空気流が生じる。
【0044】
上記回転体22の下面側には、この回転体22の外形寸法よりも大きな直径で、上記カバー33の直径とほぼ同径の円形状に形成された遮蔽部材51が設けられている。この遮蔽部材51は、図3に示すように中心部に上記回転軸21よりも大径で,上記回転体22の基部23よりも小径な通孔52が形成され、この通孔52の外側の部分が上記基部23の下面に図示しないねじなどで接合固定されている。
【0045】
上記遮蔽部材51の外周縁には液切部としての周壁53が形成されている。図5に示すように、この周壁53と上記遮蔽部材51の上面とは、90度以下の角度、この実施の形態では90度で交差した液切部としてのエッジ54を形成している。つまり、遮蔽部材51の上面と周壁53とは、アールのない状態である、エッジ54を介して交差している。上記周壁53とエッジ54との、少なくともどちらか一方によって遮蔽部材51の上面から下面側に処理液が回り込むのを防止する液切部を構成している。
【0046】
図2に示すように、上記切り分け壁体15を下降させたとき、この切り分け壁体15の傾斜壁15bの上端は、上記遮蔽部材51の周壁53に対してわずかな間隔で離間対向するとともに、上記遮蔽部材51の上面よりも下方に位置するよう、設定されている。上記傾斜壁15bの上端と、遮蔽部材51の上面との高さ寸法の差は1mm以上、好ましくは3mm以上、さらに好ましくは5mm以上がよい。
【0047】
図1と図2に示すように、上記カップ体1の上方には、上記回転体22に保持された基板30に向けて第1の処理液L1 を供給する第1の上部ノズル体55と、第2の処理液L2 を供給する第2の上部ノズル体56とが配置されている。各上部ノズル体55、56は、それぞれ図示しない第1、第2の処理液L1 、L2 の供給源に連通している。
【0048】
図3に示すように、中空状の上記回転体22の基部23の上面側にはノズルヘッド61が設けられている。このノズルヘッド61は、上記回転子29aと回転軸21とにわたって挿通された支持部材62の上端に固定されている。つまり、ノズルヘッド61は固定的に設けられている。
【0049】
図4に示すように、上記ノズルヘッド61には基板30の下面に第1の処理液L1 を供給する一対の第1の下部ノズル体63、第2の処理液L2 を供給する一対の第2の下部ノズル体64及び乾燥用のガスを供給するガスノズル体65などが設けられている。
【0050】
次に、上記構成のスピン処理装置によって基板30を第1、第2の処理液L1 、L2 によって順次処理する手順について説明する。
【0051】
まず、回転体22に基板30を保持したならば、切り分け壁体15を図1に示すように上昇させる。その状態で回転体22を回転駆動するとともに、内側排気管43に接続された排気ポンプを作動させたならば、第1の上部ノズル体55及び第1の下部ノズル体63から第1の処理液L1 を上記基板30に向けて供給する。
【0052】
第1の上部ノズル体55から基板30に供給された第1の処理液L1 の一部は、回転する基板30の遠心力によって周囲に飛散し、上昇した切り分け壁体15の内周面に衝突して落下する。つまり、切り分け壁体15が上昇していることで、基板30の遠心力で飛散した第1の処理液L1 はカップ体1内の内側空間部11に滴下し、第1の排液管41を通って回収されることになる。また、内側空間部11から内側排気管43へ流れる気流によっても第1の処理液L1 は内側空間部11に円滑に回収されることになる。
【0053】
基板30が矩形状であるため、回転する基板30に供給された第1の処理液L1 の残りの一部は基板30の上面に載らずにそのまま下方の遮蔽部材51上に滴下する。さらに、第1の下部ノズル体63から基板30の下面に供給された第1の処理液L1 はこの下面で反射して回転体22のアーム24の間から遮蔽部材51の上面に滴下する。
【0054】
上記遮蔽部材51は回転体22と一体に回転している。そのため、遮蔽部材51の上面に滴下した第1の処理液L1 は、遠心力によって遮蔽部材51の上面から周囲に飛散し、上部壁体15の内周面に衝突するから、内側空間部11に連通した内側排液管41から排出されることになる。つまり、第1の処理液L1 が遮蔽部材51の上面に付着残留するのを防止できる。
【0055】
遮蔽部材51の上面に滴下した第1の処理液L1 の一部は、この遮蔽部材51の外周面から下面側に回り込んでカバー33上に滴下し、排出されずに残留する虞がある。
【0056】
しかしながら、上記遮蔽部材51の周縁部には周壁53が形成され、しかも遮蔽部材51の上面と上記周壁53とは90度の角度で交差するエッジ54をなしている。
【0057】
そのため、遮蔽部材51の上面を径方向外方に向かって流れてきた第1の処理液L1 は、上記エッジ54によって上面から周壁53に伝わるのが阻止されるとともに、たとえ周壁53に流れても、その周壁53から下方へ滴下するため、下面側に回り込んでカバー33上に滴下残留するということが防止される。
【0058】
つまり、切り分け壁体15を上昇させて基板30を第1の処理液L1 で処理する場合、基板30の上面から遠心力によって周囲に飛ばされる第1の処理液L1 は勿論のこと、基板30の上面に載らない第1の処理液L1 は回転体22と一体に回転する遮蔽部材51の上面に滴下するため、この遮蔽部材51の遠心力によって周囲に飛散する。
【0059】
そのため、基板30を第1の処理液Ll で処理したときに、第1の処理液L1 が回転体22や遮蔽部材51に付着残留するのを防止することができる。
【0060】
基板30を第1の処理液L1 で処理したならば、次に第2の処理液L2 で処理する。その場合、まず切り分け壁体15を図1に示す上昇した状態から図2に示すように下降させ、さらに外側排気管44に連通した排気ポンプを作動させる。切り分け壁体15を下降させると、その傾斜壁15bの上端が遮蔽部材51の周壁53に対してわずかな間隔で離間対向し、しかも遮蔽部材51の上面よりも所定寸法下方に位置する。
【0061】
その状態で第2の上部ノズル体56と第2の下部ノズル体64とから基板30の上面と下面とに第2の処理液L2 を供給すると、第2の処理液L2 は回転する基板30及び遮蔽部材51の遠心力によって周囲に飛散して上カップ3の上部壁8の内周面に衝突してカップ体1内の外側空間部12に滴下するから、その底部に接続された外側排液管42を通して排液されることになる。
【0062】
つまり、基板30を第2の処理液L2 で処理する場合も、第1の処理液L1 で処理する場合と同様、遮蔽部材51が回転体22と一体的に回転駆動されることで、この遮蔽部材51の上面に第2の処理液L2 が付着残留したり、遮蔽部材51の下面側に回り込んでカバー33上に滴下残留するということもない。
【0063】
しかも、切り分け壁体15を下降させたとき、この傾斜壁15bの上端は遮蔽部材15の上面よりも所定寸法下方に位置している。そのため、回転する遮蔽部材15の上面から遠心力によって飛ばされる第2の処理液L2 が上記切り分け壁体15に衝突してカップ体1の内側空間部11に滴下し、この内側空間部11を通じて回収された第1の処理液L1 に混合するということも防止される。
【0064】
なお、上記切り分け壁体15を下降させたときに、その上端が遮蔽部材51の上面と同じ高さであると、遮蔽部材51から飛散する第2の処理液L2 の一部が切り分け壁体15と遮蔽部材51との隙間から内側空間部11に入り込む虞があるが、切り分け壁体15の上端を遮蔽部材51の上面よりも所定寸法低くしたことで、第2の処理液L2 が内側空間部11に侵入するのを確実に防止することができる。
【0065】
遮蔽部材51の上面と切り分け壁体15の上端との寸法差は1mm以上あればよいが、3mm以上とすることが好ましく、さらに5mm以上とすれば、より一層好ましい。
【0066】
図6はこの発明の第2の実施の形態を示す。この第2の実施の形態は、遮蔽部材51が回転体22の上面側で、この回転体22に保持される基板30の下面側になるように設けられている。
【0067】
上記遮蔽部材51には、ノズルヘッド61を露出させる通孔52aが形成されている。この通孔52aとノズルヘッド61の上面との間に隙間ができないよう、上記遮蔽部材51の高さ位置に応じて通孔52aの大きさが設定される。さらに、各アーム24の先端部に設けられた支持ピン25と係止ピン26とは上記遮蔽部材51の上面側に突出している。
【0068】
このように、遮蔽部材51を回転体22の上面側に設けるようにしても、基板30に供給された第1の処理液L1 や第2の処理液L2 は回転する遮蔽部材51の遠心力によってその上面から周囲に飛散するため、第1の処理液L1 と第2の処理液L2 との切り換えを、使用中の処理液をカップ体1内に残留させることなく、確実に行うことができる。
【0069】
図7と図8はこの発明の第3の実施の形態を示す。この実施の形態は回転体の変形例で、この回転体71は基板30の外形寸法よりも大径な円盤状をなしている。この回転体71の上面には矩形状の基板30の四隅部下面を支持する支持ピン25及び外面に係合する係止ピン26が突設されている。
【0070】
上記回転体71の上面と外周面とは90度に交差する液切部であるエッジ72となっており、さらに回転体71の下面の外周面から所定寸法内方には同じく液切部としての周壁73が垂設されている。上記回転体71の中心部には、ノズルヘッド61を露出させるために通孔74が形成されている。
【0071】
このような構成の回転体71によると、基板30の上面及び下面に供給された第1あるいは第2の処理液は、回転体71の上面に滴下するから、この回転体71の遠心力によって周囲に飛散される。
【0072】
つまり、回転体71が第1の実施の形態のように4本のアーム24で形成されているものでないから、基板30に供給された各処理液は回転体71の上面に滴下し、この回転体71の遠心力によって飛散除去されることになる。
【0073】
したがって、この実施の形態によれば、第1の実施の形態に示された遮蔽部材51を用いることなく、第1の処理液L1 と第2の処理液L2とを分離回収することができる。
【0074】
なお、この第3の実施の形態は、第1の実施の形態に比べて回転体71の形状が異なる点と、遮蔽部材51がない点とを除き、他の部分の構成は同じである。
【0075】
【発明の効果】
請求項1の発明によれば、回転体の下面側または上面側に、この回転体と一体に回転する遮蔽部材を設けるようにした。
【0076】
そのため、遮蔽部材の上面に滴下した処理液は、回転する遮蔽部材の遠心力によって確実に飛散除去することができるから、この遮蔽部材の上面に処理液が残留して他の処理液に混合するのを防止できる。
【0077】
請求項2の発明によれば、切り分け壁体を下降させたときに、その上端が遮蔽部材の上面よりも下方に位置するようにした。
【0078】
そのため、遮蔽部材の上面から遠心力によって飛散する処理液が切り分け壁体に衝突するのを防止できるから、カップ体の外側空間部に回収される処理液が内側空間部に入り込むのを防止できる。
【0079】
請求項3の発明によれば、遮蔽部材の上面と外周面とで90度以下のエッジを形成した。
【0080】
そのため、遮蔽部材の上面を径方向外方に向かって流れる処理液が外周面を伝わって下面側へ流れ込むのを防止できる。
【0081】
請求項4の発明によれば、回転体の重量の減少を図るために、この回転体を基部及び4本のアームから形成することで、基板に供給された処理液が回転体の下方に滴下する量が増大しても、処理液は遮蔽部材の上面に滴下する。
【0082】
そのため、回転体の下方に滴下する処理液の量が増大しても、遮蔽部材の上面に滴下することで、この遮蔽部材の遠心力によって確実に飛散させて除去することができる。
【0083】
請求項5乃至請求項7の発明によれば、回転体を基板よりも大きな円形状としたので、基板に供給された処理液は回転体の上面に滴下し、この回転体の遠心力で上面から飛散除去されるから、他の処理液に混合することがない。
【0084】
しかも、回転体の周辺部に設けられた液切部によって、処理液が回転体の上面から下面側に伝わるのを確実に防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の第1の実施の形態を示すスピン処理装置の切り分け壁体が上昇した状態の概略的構成図。
【図2】同じく切り分け壁体が下降した状態の概略的構成図。
【図3】同じく回転体の部分の拡大図。
【図4】同じく回転体の平面図。
【図5】同じく遮蔽部材のエッジを示す拡大断面図。
【図6】この発明の第2の実施の形態を示す回転体の部分の拡大図。
【図7】この発明の第3の実施の形態を示す回転体の平面図。
【図8】同じく回転体の周辺部の拡大断面図。
【符号の説明】
1…カップ体
13…環状壁
15…切り分け壁体
22…回転体
23…基部
24…アーム
25…支持ピン(支持部)
26…係止ピン(支持部)
30…基板
41…内側排液管
42…外側排液管
51…遮蔽部材
54…エッジ
Claims (3)
- 矩形状の基板を第1の処理液で処理してから第2の処理液で処理するスピン処理装置において、
カップ体と、
基部及びこの基部の外周部に基端部が周方向に所定の間隔で連結され先端部には上記基板の各角部を支持する支持部が設けられた4本のアームを有し、上記カップ体内に設けられて回転駆動される回転体と、
この回転体の下面側または上面側に回転体と一体に回転するよう設けられ上記基板に供給された第1あるいは第2の処理液を受けて遠心力で飛散させる平面形状が円形状の遮蔽部材と、
上記カップ体内に設けられこのカップ体内を内側空間部と外側空間部とに隔別する環状壁体と、
上記カップ体の上記内側空間部と外側空間部とにそれぞれ連通して設けられた内側排液管及び外側排液管と、
上記カップ体内に上下動可能に設けられ上昇時には上記環状壁体とで上記基板に供給された第1の処理液あるいは第2の処理液のいずれか一方が上記外側空間部に流入するのを阻止し下降時には他方の処理液が内側空間部に流入するのを阻止する切り分け壁体と
を具備したことを特徴とするスピン処理装置。 - 上記切り分け壁体は、下降時に上端が上記遮蔽部材の上面よりも下方に位置することを特徴とする請求項1記載のスピン処理装置。
- 上記遮蔽部材の上面と外周面とは90度以下の角度でエッジを形成していることを特徴とする請求項1または請求項2記載のスピン処理装置。
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