JP2000031004A

JP2000031004A - 基板処理装置

Info

Publication number: JP2000031004A
Application number: JP19298198A
Authority: JP
Inventors: Manabu Yabe; 学矢部
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1998-07-08
Filing date: 1998-07-08
Publication date: 2000-01-28

Abstract

(57)【要約】【課題】基板に供給される処理液が基板を保持する保
持部材に付着し、ミスト化して基板を汚染することが防
止された基板処理装置を提供する。【解決手段】基板保持部１のスピンベース１１は、基
板Ｗを支持する複数の支持ピン１４および基板Ｗの水平
位置を規制する回転式保持ピン１５を備える。スピンベ
ース１１の上面には環状支持部１３が形成されている。
環状支持部１３の上面外周部には、外側下方に傾斜した
傾斜面１３ａが形成されている。回転式保持ピン１５の
ピン固定部１７の上面には傾斜面１７ａが形成されてい
る。基板Ｗ上から流下した現像液は環状支持部１３の傾
斜面１３ａおよび回転式保持ピン１５のピン固定部１７
の傾斜面１７ａに沿って基板保持部１の外方に流し去ら
れる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、処理液を基板に供
給して基板に所定の処理を行う基板処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基
板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用ガラス基
板などの基板に種々の処理を行うために基板処理装置が
用いられている。たとえば、基板の表面に形成された感
光性膜の現像処理には、回転式の現像装置が用いられて
いる。

【０００３】図７は、従来の現像装置の概略断面図であ
る。図７において、基板保持部３１は、円形板状のスピ
ンベース３２を備える。スピンベース３２はモータ３の
回転軸２の先端部に水平に固定され、鉛直方向の軸の周
りで回転駆動される。

【０００４】スピンベース３２の上面には環状支持部３
３が固定され、この環状支持部３３に基板Ｗの裏面を支
持する複数の基板支持ピン３４が設けられている。ま
た、スピンベース３２には、基板Ｗの水平位置を規制す
る複数の基板保持ピン３７が軸受３８により鉛直方向の
軸の周りで回動可能に取り付けられている。各基板保持
ピン３７の下部には棒状の永久磁石３９が取り付けられ
ている。

【０００５】スピンベース３２の下方には環状磁石４１
が配設されている。この環状磁石４１は、駆動装置（図
示せず）により上下動自在に設けられた磁石支持部材４
２に固定されている。

【０００６】基板保持部３１の上方には、現像液を吐出
する現像ノズル４３が上下方向および水平方向に移動可
能に設けられている。この現像ノズル４３は、現像処理
前および現像処理後に基板Ｗの上方から外れた位置に待
機し、現像処理時に基板Ｗの中心部の上方に移動する。

【０００７】上記の現像装置における現像処理時の動作
を以下に説明する。この現像装置を用いた基板の現像処
理は、現像液供給、現像液保持、純水洗浄および乾燥の
各工程からなる。

【０００８】まず、現像液供給工程では、環状磁石４１
が上昇して複数の基板保持ピン３７により基板Ｗが水平
方向に保持される。その後、モータ３により基板保持部
３１が回転駆動され、基板Ｗが鉛直方向の軸の周りで低
速回転する。この状態で、現像ノズル４３から基板Ｗ上
に現像液が吐出される。基板Ｗの回転により現像液は基
板Ｗの表面の全体に均一に塗り広げられる。

【０００９】現像液保持工程では、基板保持部３１の回
転が停止される。基板Ｗの回転が停止すると、環状磁石
４１が下降して基板保持ピン３７が開放状態となる。こ
れにより、基板Ｗ上に現像液が液盛りされ、一定時間静
止される。この間に、基板Ｗの感光性膜の現像が進行す
る。

【００１０】純水洗浄工程では、基板保持部３１が再び
回転駆動され、基板Ｗの表面に純水供給ノズル（図示せ
ず）から純水が供給され、基板Ｗの表面の純水洗浄が行
われる。

【００１１】乾燥工程では、純水の供給が停止された
後、基板保持部３１が高速で回転駆動され、回転に伴う
遠心力により基板Ｗの表面から純水が振り切られる。こ
れにより、基板Ｗが乾燥する。その後、基板保持部３１
の回転が停止し、基板Ｗの現像処理が終了する。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】上記の現像液供給工程
では、基板保持部３１に保持された基板Ｗが低速で回転
駆動された状態で現像液ノズル４３から現像液４５が基
板Ｗの表面に吐出される。現像液４５が基板Ｗの全面に
均一に行き渡るように多量に吐出されると、現像液４５
は基板Ｗの外周部から基板保持ピン３７の上面やスピン
ベース３２の上面外周部に流れ落ちる。その後、基板Ｗ
の回転が停止されると、現像液４５は基板保持ピン３７
の上面やスピンベース３２の上面外周部から流れ落ちず
に残り、表面の微細な凹凸部分や構成部品間に徐々に浸
透する。

【００１３】このようにして基板保持ピン３７やスピン
ベース３２の表面の凹凸部分や構成部品間に浸透した現
像液は、次の純水洗浄工程でも完全に洗い流すことがで
きず、基板保持ピン３７やスピンベース３２に付着した
まま残る。基板保持ピン３７やスピンベース３２に付着
した現像液は、乾燥工程において基板保持部３１が高速
回転されると、カップ４０の内部にミスト（液体粒子）
となって浮遊し、基板Ｗの表面に再付着して基板Ｗを汚
染する。

【００１４】本発明の目的は、基板に供給される処理液
が基板を保持する保持部材に付着し、ミスト化して基板
を汚染することが防止された基板処理装置を提供するこ
とである。

【００１５】

【課題を解決するための手段および発明の効果】第１の
発明に係る基板処理装置は、基板上に処理液を供給して
基板に所定の処理を行う基板処理装置であって、基板の
外径よりも大きな径を有し、上面外周部が外側下方に向
かって傾斜した回転部材と、回転部材を回転駆動する駆
動手段と、基板の外周部に沿うように回転部材上に設け
られ、基板の外周端部に当接して基板を保持する複数の
保持部材と、複数の保持部材により保持された基板上に
処理液を供給する処理液供給手段とを備えたものであ
る。

【００１６】第１の発明に係る基板処理装置において
は、複数の保持部材により基板が回転部材上に保持され
つつ回転部材が駆動手段により回転駆動され、処理液供
給手段から基板上に処理液が供給される。基板上に供給
された処理液の一部は基板の外周部から回転部材の上面
外周部に流れ落ちる。回転部材の上面外周部は外側下方
に向かって傾斜しているため、基板から流れ落ちた処理
液は回転部材の上面外周部の傾斜に沿って流動し、回転
部材の外周部から下方に流れ落ちる。

【００１７】これにより、回転部材の上面外周部に処理
液が残らない。したがって、回転部材の上面外周部に付
着した処理液がミスト化して雰囲気中を浮遊し、基板に
再付着して基板を汚染することが防止される。

【００１８】第２の発明に係る基板処理装置は、第１の
発明に係る基板処理装置の構成において、回転部材の上
面外周部が、複数の保持部材により保持された基板の外
周端部より内側から外側下方に向かって傾斜したもので
ある。

【００１９】この場合、回転部材の上面外周部の傾斜部
分が基板の外周端部より内側下方から始まるので、基板
の外周部から流れ落ちる処理液は全て回転部材の傾斜し
た上面外周部に流れ落ちることになり、基板の外周部か
ら流れ落ちる処理液を確実に回転部材の外方へ流し去る
ことができる。

【００２０】第３の発明に係る基板処理装置は、第１ま
たは第２の発明に係る基板処理装置の構成において、複
数の保持部材の各々が、回転部材に回動自在に設けられ
た支持部と、支持部の回動に伴って基板の外周端部に当
接するように回動中心に対して偏心して支持部上に設け
られた保持部とを備え、保持部が基板の外周端部から離
間した状態で支持部の上面が外側下方に向かって傾斜し
たものである。

【００２１】この場合、複数の保持部材の支持部の回動
に伴って保持部が基板の外周端部に当接することによ
り、基板が回転部材上に保持される。この状態で回転部
材が回転駆動されるとともに基板上に処理液が供給され
る。

【００２２】基板上に供給された処理液の一部は基板を
保持する保持部材の支持部の上面にも流れ落ちる。保持
部材の支持部の上面は外側下方に向かって傾斜している
ため、基板の外周部から支持部の上面に流れ落ちた処理
液は支持部の上面の傾斜に沿って流動し、支持部から流
れ落ちる。これにより、支持部の上面に処理液が残らな
い。したがって、支持部の上面に付着した処理液がミス
ト化して雰囲気中に浮遊し、基板に再付着して基板を汚
染することが防止される。

【００２３】第４の発明に係る基板処理装置は、第１ま
たは第２の発明に係る基板処理装置の構成において、複
数の保持部材の各々が、回転部材に回動自在に設けられ
た支持部と、支持部の回動に伴って基板の外周端部に当
接するように回動中心に対して偏心して支持部上に設け
られた保持部とを備え、支持部の上面が支持部上に設け
られた保持部を中心として円錐状に傾斜したものであ
る。

【００２４】この場合、複数の保持部材の支持部の回動
に伴って保持部が基板の外周端部に当接することによ
り、基板が回転部材上に保持される。この状態で回転部
材が回転駆動されるとともに基板上に処理液が供給され
る。

【００２５】基板上に供給された処理液の一部は基板を
保持する保持部材の支持部の上面にも流れ落ちる。保持
部材の支持部の上面は円錐状に傾斜しているため、基板
の外周部から支持部の上面に流れ落ちた処理液は円錐状
の傾斜に沿って流動し、支持部から流れ落ちる。これに
より、支持部の上面に処理液が残らない。したがって、
支持部の上面に付着した処理液がミスト化して雰囲気中
に浮遊し、基板に再付着して基板を汚染することが防止
される。

【００２６】また、回転部材の回転時に支持部の空気抵
抗が低減され、気流の乱れの発生が抑制される。それに
より、気流の乱れにより基板上の処理液に悪影響を及ぼ
すことが防止される。

【００２７】第５の発明に係る基板処理装置は、第１〜
第４のいずれかの発明に係る基板処理装置の構成におい
て、回転部材の上面外周部が撥水性を有するものであ
る。これにより、回転部材の上面外周部に流れ落ちた処
理液が上面外周部に付着せずに回転部材の外方へ容易に
流し去られる。

【００２８】第６の発明に係る基板処理装置は、第３ま
たは第４の発明に係る基板処理装置の構成において、支
持部の上面が撥水性を有するものである。これにより、
処理液が支持部の上面に付着せずに保持部材の外方へ容
易に流し去られる。

【００２９】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る基板処理装置
の一例として回転式の現像装置について説明する。

【００３０】図１は本発明の第１の実施例による回転式
の現像装置の断面図であり、図２は図１の現像装置の平
面図である。

【００３１】図１および図２において、基板保持部１は
円形板状のスピンベース１１を備える。スピンベース１
１は、アルミニウムを母材に使用し、上面にニッケル−
ポリテトラフルオロエチレンめっきが施されている。ニ
ッケル−ポリテトラフルオロエチレンめっきの水に対す
る接触角は約１００°と大きく、現像液を弾くことがで
きる。また、スピンベース１１の他の例としては、アル
マイトに撥水性の樹脂を含浸処理したもの、あるいはチ
タン合金などの金属材料の表面にフッ素系樹脂をコーテ
ィング（被膜処理）したものを用いてもよい。

【００３２】スピンベース１１はモータ３の回転軸２の
先端に取り付け部材１２を介して水平に固定され、鉛直
方向の軸の周りで回転駆動される。

【００３３】スピンベース１１の上面には、撥水性を有
する樹脂からなる環状支持部１３が設けられており、こ
の環状支持部１３の上面には、基板Ｗの下面を支持する
複数の支持ピン１４が設けられている。

【００３４】図２に示すように、環状支持部１３の外周
部には複数の切欠部１３ｂが設けられている。環状支持
部１３の各切欠部１３ｂには基板Ｗの水平位置を規制す
る回転式保持ピン１５が配設されている。回転式保持ピ
ン１５はスピンベース１１に鉛直方向の軸の周りで回動
可能に取り付けられている。この回転式保持ピン１５の
構造については後述する。

【００３５】図１に示すように、スピンベース１１の下
方には環状磁石６が配設されている。この環状磁石６
は、駆動装置（図示せず）により上下動自在に設けられ
た磁石支持部材７に固定されている。

【００３６】モータ３の回転軸２は中空軸により構成さ
れ、その内部に基板Ｗの裏面洗浄用のバックリンスノズ
ル９（図２参照）が挿入されている。このバックリンス
ノズル９は、取り付け部材１２を貫通して基板Ｗの裏面
側に突出している。バックリンスノズル９の先端には、
円錐台状のキャップ８が取り付けられている。キャップ
８はバックリンスノズル９から吐出される純水等のリン
ス液が回転軸２の内部に侵入することを防止するために
設けられている。

【００３７】基板保持部１の上方には、現像液を吐出す
る現像ノズル１０が上下方向および水平方向に移動可能
に設けられている。この現像ノズル１０は、現像処理前
および現像処理後に基板Ｗの上方から外れた位置に待機
し、現像処理時に基板Ｗの中心部の上方に移動する。

【００３８】さらに、基板保持部１の周囲を取り囲むよ
うに中空のカップ４が配設されている。カップ４は上下
方向に移動可能な上カップ４ａと、上カップ４ａの下方
に固定された下カップ４ｂとを備える。下カップ４ｂの
下部には現像装置の上方からカップ４内に下降される清
浄な空気の下降流（ダウンフロー）を排気するための排
気口４ｃが設けられている。

【００３９】図３は図２中のＸ−Ｘ線断面図である。図
３において、スピンベース１１上に設けられた樹脂製の
環状支持部１３の上面外周部には傾斜面１３ａが形成さ
れている。傾斜面１３ａは外周端側に向かって水平線に
対して約２０°の角度で下方に傾斜している。傾斜面１
３ａの内周端部は基板Ｗの外周端部よりも内側に位置
し、傾斜面１３ａの外周端部は基板Ｗの外周端部よりも
外側に位置するように形成されている。これにより、基
板Ｗ上に供給された現像液４５が環状支持部１３に流れ
落ちた際に、現像液４５は環状支持部１３上に留まら
ず、傾斜面１３ａに沿って流れ落ちる。

【００４０】また、図４は図２中のＹ−Ｙ線断面図であ
り、（ａ）は回転式保持ピンが基板から離れた状態を示
し、（ｂ）は回転式保持ピンが基板に当接した状態を示
す。また、図５（ａ）は回転式保持ピンの斜視図であ
り、図５（ｂ）は取り付け部材の斜視図である。

【００４１】図４および図５（ａ）において、回転式保
持ピン１５はほぼ円柱状のピン固定部１７、棒状のピン
部材１６、連結軸１８および磁石収納部１９を備える。
ピン部材１６は、ピン固定部１７の上面に、ピン固定部
１７の中心に対して偏心して設けられている。磁石収納
部１９はピン固定部１７の下部に連結軸１８を介して固
定されている。磁石収納部１９内には棒状の永久磁石２
０が収納されている（図５（ａ）参照）。

【００４２】回転式保持ピン１５は、取り付け部材２２
によりスピンベース１１（図１参照）に取り付けられ
る。図５（ｂ）において、取り付け部材２２は一対の取
り付け孔２２ａを有し、スピンベース１１の下面外周部
にねじ止め固定される。この取り付け部材２２はベアリ
ング収納部２１を有し、ベアリング収納部２１内に収納
されたベアリング２３の軸孔内に回転式保持ピン１５の
連結軸１８が挿通される。これにより、図４に示すよう
に、回転式保持ピン１５のピン部材１６およびピン固定
部１７がスピンベース１１の上面側に突出し、回転式保
持ピン１５の磁石収納部１９がスピンベース１１の下面
側に突出する。

【００４３】この回転式保持ピン１５において、ピン固
定部１７の上面には傾斜面１７ａが形成されている。図
４（ａ）に示すように、ピン固定部１７の傾斜面１７ａ
は、ピン部材１６が基板Ｗの外周端部から離間した際
に、基板Ｗの外側下方に傾くように形成されている。こ
れにより、基板Ｗ上に供給された現像液がピン固定部１
７の上面に流れ落ちた際に、現像液をスピンベース１１
の外方に流下させることができる。

【００４４】また、この回転式保持ピン１５が配設され
た環状支持部１３の切欠部１３ｂでは、切欠部１３ｂ内
で露出したスピンベース１１の上面に傾斜面１１ａが形
成されている。傾斜面１１ａはスピンベース１１の中心
側から外周側に向かって下方に傾斜するように形成され
ている。これにより、基板Ｗ上から環状支持部１３の切
欠部１３ｂ内に流下した現像液をスピンベース１１の外
方に流し去ることができる。

【００４５】本実施例においては、スピンベース１１お
よび環状支持部１３が本発明の回転部材に相当し、回転
式保持ピン１５が保持部材に相当し、現像ノズル１０が
処理液供給手段に相当する。さらに、回転式保持ピン１
５のピン固定部１７が本発明の保持部材の支持部に相当
し、ピン部材１６が保持部に相当する。

【００４６】次に、上記構造を有する現像装置における
現像処理時の動作について説明する。この現像装置にお
いては、上方から清浄なダウンフローがカップ４の内外
に供給されつつ現像処理が行われる。現像処理では、現
像液供給、現像液保持、純水洗浄および乾燥の各工程が
順に行われる。

【００４７】まず、基板Ｗが基板保持部１の支持ピン１
４上に載置される。次に、環状磁石６が上昇して複数の
回転式保持ピン１５が基板Ｗを水平方向に保持する。

【００４８】現像液供給工程では、モータ３により基板
保持部１が低速で回転駆動された状態で、現像ノズル１
０から基板Ｗ上に現像液が吐出される。吐出された現像
液は基板Ｗの全面に均一に塗り広げられる。

【００４９】現像ノズル１０からは比較的多量の現像液
が吐出される。このため、現像液の一部は回転式保持ピ
ン１５を伝わり、あるいは直接環状支持部１３の上面外
周部または環状支持部１３の切欠部１３ｂ内に流れ落ち
る。環状支持部１３の上面外周部には傾斜面１３ａが形
成されているため、現像液は環状支持部１３の上面外周
部に留まらず外方へ流れ落ちる。また、回転式保持ピン
１５のピン固定部１７の上面に流れ落ちた現像液は、傾
斜面１７ａに沿って流動し、切欠部１３ｂ内のスピンベ
ース１１の傾斜面１１ａに流れ落ち、さらにスピンベー
スの傾斜面１１ａに沿って外方へ流れ落ちる。

【００５０】これにより、現像液が環状支持部１３の上
面外周部や回転式保持ピン１５の上面に付着することが
防止される。加えて、環状支持部１３、スピンベース１
１および回転式保持ピン１５のピン固定部１７の表面は
撥水性を有しているため、さらに現像液の付着が防止さ
れる。

【００５１】現像液保持工程では、基板保持部１の回転
が停止されるとともに、環状磁石６が下降して回転式保
持ピン１５が開放状態となる。この状態で、現像液が基
板Ｗ上に一定時間静止保持される。これにより、基板Ｗ
上の感光性膜の現像が進行する。この場合に、基板Ｗの
外周部から現像液が流れ落ちても、その現像液は環状支
持部１３の上面外周部や回転式保持ピン１５の上面に付
着せずに外方に流し去られる。

【００５２】洗浄工程では、環状磁石６が再び上昇して
回転式保持ピン１５が基板Ｗを水平方向に保持する。そ
して、モータ３により基板保持部１が回転駆動され、基
板Ｗが所定の速度で回転する。この洗浄工程では、純水
供給ノズル（図示せず）から基板Ｗ上に純水が吐出され
て基板Ｗの表面が洗浄されるとともにバックリンスノズ
ル９（図２参照）からリンス液（純水）が吐出されて基
板Ｗの裏面が洗浄される。

【００５３】基板Ｗの表面および裏面の洗浄処理が終了
すると、乾燥工程に移行する。乾燥工程では、モータ３
の回転数が高められ、基板Ｗが高速で回転する。これに
より、基板Ｗの表面に供給された純水が外方に振り切ら
れ、基板Ｗの表面が乾燥する。

【００５４】このように、環状支持部１３の上面外周部
の傾斜面１３ａ、回転式保持ピン１５のピン固定部１７
の傾斜面１７ａおよびスピンベース１１の傾斜面１１ａ
を形成することにより、基板Ｗ上から流れ落ちる現像液
を各傾斜面１３ａ，１７ａ，１１ａに沿って基板保持部
１の外方へ流し去ることができる。

【００５５】これにより、環状支持部１３の上面外周
部、ピン固定部１７の上面および切欠部１３ｂ内のスピ
ンベース１１の上面に流れ落ちた現像液が徐々に表面の
凹凸や構成部品間に浸透することが防止される。したが
って、基板保持部１に付着した現像液がミスト化して基
板Ｗの表面に再付着して基板を汚染することが防止され
る。また、基板保持部１を清浄な状態に維持することが
容易となり、基板保持部１の洗浄などの保守作業の周期
を長くすることができる。さらに、回転式保持ピン１５
のベアリング２３に現像液が浸入して固化し、回転式保
持ピン１５の動きを阻害することも防止される。

【００５６】図６は第２の実施例による現像装置の回転
式保持ピンおよびその近傍の断面図であり、（ａ）は回
転式保持ピンが基板から離れた状態を示し、（ｂ）は固
定式保持ピンが基板に当接した状態を示している。

【００５７】図６の回転式保持ピン１５においては、ピ
ン固定部２７の上面に、ピン部材１６を中心に傾斜する
ほぼ円錐状の傾斜面２７ａが形成されている。このよう
な傾斜面２７ａを形成することにより、基板Ｗ上から流
れ落ちた現像液を基板保持部１の外方に向けて流下させ
ることができるとともに、基板保持部１の回転時の空気
抵抗を低減することができる。

【００５８】なお、本実施例においては、ピン固定部２
７が本発明の保持部材の支持部に相当し、ピン部材１６
が保持部材の保持部に相当する。

【００５９】本実施例の現像装置においても、基板保持
部１に付着した現像液がミスト化して基板Ｗの表面に再
付着して基板を汚染することが防止される。また、基板
保持部１を清浄な状態に維持することが容易となり、基
板保持部１の洗浄などの保守作業の周期を長くすること
ができる。

【００６０】なお、本発明は、上記実施例のように現像
液を供給する現像装置のみならず、他の処理液を基板に
供給する他の基板処理装置に適用することもできる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施例による現像装置の断面図
である。

【図２】図１の現像装置の平面図である。

【図３】図２中のＸ−Ｘ線断面図である。

【図４】図２中のＹ−Ｙ線断面図である。

【図５】回転式保持ピンのピン固定部および取り付け部
材の斜視図である。

【図６】本発明の第２の実施例による現像装置の回転式
保持ピンおよびその近傍の断面図である。

【図７】従来の現像装置の断面図である。

【符号の説明】

１基板保持部１１スピンベース１２取り付け部材１３環状支持部１５回転式保持ピン１６ピン部材１７，２７ピン固定部１８連結軸１９磁石収納部１１ａ，１３ａ，１７ａ，２７ａ傾斜面

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に処理液を供給して基板に所定の
処理を行う基板処理装置であって、基板の外径よりも大きな径を有し、上面外周部が外側下
方に向かって傾斜した回転部材と、前記回転部材を回転駆動する駆動手段と、基板の外周部に沿うように前記回転部材上に設けられ、
基板の外周端部に当接して基板を保持する複数の保持部
材と、前記複数の保持部材により保持された基板上に処理液を
供給する処理液供給手段とを備えたことを特徴とする基
板処理装置。
【請求項２】前記回転部材の前記上面外周部は、前記
複数の保持部材により保持された基板の外周端部より内
側から外側下方に向かって傾斜したことを特徴とする請
求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】前記複数の保持部材の各々は、前記回転部材に回動自在に設けられた支持部と、前記支持部の回動に伴って基板の外周端部に当接するよ
うに回動中心に対して偏心して前記支持部上に設けられ
た保持部とを備え、前記保持部が基板の外周端部から離間した状態で前記支
持部の上面が外側下方に向かって傾斜したことを特徴と
する請求項１または２記載の基板処理装置。
【請求項４】前記複数の保持部材の各々は、前記回転部材に回転自在に設けられた支持部と、前記支持部の回動に伴って基板の外周端部に当接するよ
うに回動中心に対して偏心して前記支持部上に設けられ
た保持部とを備え、前記支持部の上面が前記支持部上に設けられた前記保持
部を中心として円錐状に傾斜したことを特徴とする請求
項１または２記載の基板処理装置。
【請求項５】前記回転部材の前記上面外周部が撥水性
を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記
載の基板処理装置。
【請求項６】前記支持部の上面が撥水性を有すること
を特徴とする請求項３または４記載の基板処理装置。