JP2001212493A - スピン処理装置 - Google Patents
スピン処理装置Info
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- JP2001212493A JP2001212493A JP2000027978A JP2000027978A JP2001212493A JP 2001212493 A JP2001212493 A JP 2001212493A JP 2000027978 A JP2000027978 A JP 2000027978A JP 2000027978 A JP2000027978 A JP 2000027978A JP 2001212493 A JP2001212493 A JP 2001212493A
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- liquid
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 この発明は基板を処理する二種類の処理液を
確実に分離回収できるようにしたスピン処理装置を提供
することにある。 【解決手段】 カップ体１内に設けられ基板３０を保持
するとともに回転駆動される回転体２２と、回転体の下
面側または上面側に回転体と一体に回転するよう設けら
れ基板に供給された処理液を受けて遠心力で飛散させる
平面形状が円形状の遮蔽部材５１と、カップ体内を内側
空間部と外側空間部とに隔別する環状壁体１３と、内側
空間部と外側空間部とにそれぞれ連通して設けられた内
側排液管４１及び外側排液管４２と、カップ体内に上下
動可能に設けられ上昇時には環状壁体とで基板に供給さ
れた第１の処理液あるいは第２の処理液のいずれか一方
が外側空間部に流入するのを阻止し下降時には他方の処
理液が内側空間部に流入するのを阻止する切り分け壁体
１５とを具備したことを特徴とする。
確実に分離回収できるようにしたスピン処理装置を提供
することにある。 【解決手段】 カップ体１内に設けられ基板３０を保持
するとともに回転駆動される回転体２２と、回転体の下
面側または上面側に回転体と一体に回転するよう設けら
れ基板に供給された処理液を受けて遠心力で飛散させる
平面形状が円形状の遮蔽部材５１と、カップ体内を内側
空間部と外側空間部とに隔別する環状壁体１３と、内側
空間部と外側空間部とにそれぞれ連通して設けられた内
側排液管４１及び外側排液管４２と、カップ体内に上下
動可能に設けられ上昇時には環状壁体とで基板に供給さ
れた第１の処理液あるいは第２の処理液のいずれか一方
が外側空間部に流入するのを阻止し下降時には他方の処
理液が内側空間部に流入するのを阻止する切り分け壁体
１５とを具備したことを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は回転駆動される基
板を第１の処理液で処理してから第２の処理液で処理す
るスピン処理装置に関する。
板を第１の処理液で処理してから第２の処理液で処理す
るスピン処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】たとえば、液晶表示装置の製造過程にお
いては、矩形状のガラス製の基板に回路パターンを形成
するということが行われている。回路パターンを形成す
る場合、上記基板に対して現像処理、エッチング処理あ
るいはレジストの剥離処理などが行われる。これらの処
理を行う場合、まず、基板に第１の処理液として現像
液、エッチング液あるいは剥離液などを供給して所定の
処理を行い、ついで第２の処理液として純水などの洗浄
液を供給して洗浄処理するということが行われる。
いては、矩形状のガラス製の基板に回路パターンを形成
するということが行われている。回路パターンを形成す
る場合、上記基板に対して現像処理、エッチング処理あ
るいはレジストの剥離処理などが行われる。これらの処
理を行う場合、まず、基板に第１の処理液として現像
液、エッチング液あるいは剥離液などを供給して所定の
処理を行い、ついで第２の処理液として純水などの洗浄
液を供給して洗浄処理するということが行われる。
【０００３】現像液、エッチング液あるいは剥離液など
の第１の処理液は高価であるため、循環使用するという
ことが行われている。第１の処理液を循環使用する場
合、第１の処理液と第２の処理液とを混合させずに回収
しなければならない。
の第１の処理液は高価であるため、循環使用するという
ことが行われている。第１の処理液を循環使用する場
合、第１の処理液と第２の処理液とを混合させずに回収
しなければならない。
【０００４】第１の処理液と第２の処理液との混合を避
けるためには、基板に供給された第１の処理液と第２の
処理液とをそれぞれ別々の経路で回収しなければならな
い。このような先行技術は特開平８−２６２７４１号公
報に示されている。
けるためには、基板に供給された第１の処理液と第２の
処理液とをそれぞれ別々の経路で回収しなければならな
い。このような先行技術は特開平８−２６２７４１号公
報に示されている。
【０００５】上記公報に示された構成は、第１の容器内
に基板を保持する回転チャックが設けられ、この回転チ
ャックの下面側には上記第１の容器側に固定されてカバ
ーが設けられている。このカバーは上記回転チャックよ
りも大きく形成されている。
に基板を保持する回転チャックが設けられ、この回転チ
ャックの下面側には上記第１の容器側に固定されてカバ
ーが設けられている。このカバーは上記回転チャックよ
りも大きく形成されている。
【０００６】さらに、第１の容器内には第２の容器が上
下駆動されるように設けられている。この第２の容器が
上昇した状態で、回転駆動される基板に第１の処理液を
供給すると、この第１の処理液はカバーの上面に滴下す
るとともに第２の容器の内周面に衝突するから、第２の
容器の内に回収される。
下駆動されるように設けられている。この第２の容器が
上昇した状態で、回転駆動される基板に第１の処理液を
供給すると、この第１の処理液はカバーの上面に滴下す
るとともに第２の容器の内周面に衝突するから、第２の
容器の内に回収される。
【０００７】上記第２の容器を、その上端が上記カバー
の上面に接合するまで下降させれば、基板に供給されて
滴下する第２の処理液の一部は、カバーの上面から第２
の容器の外周面を伝わって第１の容器内に流れ、また基
板から周囲に飛散した処理液は第１の容器の内周面に衝
突するから、この第１の容器内に回収される。
の上面に接合するまで下降させれば、基板に供給されて
滴下する第２の処理液の一部は、カバーの上面から第２
の容器の外周面を伝わって第１の容器内に流れ、また基
板から周囲に飛散した処理液は第１の容器の内周面に衝
突するから、この第１の容器内に回収される。
【０００８】つまり、第２の容器を上昇あるいは下降さ
せることで、第１の処理液と第２の処理液とを分離回収
することができるようになっている。
せることで、第１の処理液と第２の処理液とを分離回収
することができるようになっている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
構成によると、基板に供給された処理液はカバーの上面
に滴下する。そのため、処理液はカバーの上面に溜まり
易いため、第１の処理液あるいは第２の処理液を回収す
るときに、上記カバーの上面に溜まった処理液が回収さ
れる処理液に混合してしまうということがある。
構成によると、基板に供給された処理液はカバーの上面
に滴下する。そのため、処理液はカバーの上面に溜まり
易いため、第１の処理液あるいは第２の処理液を回収す
るときに、上記カバーの上面に溜まった処理液が回収さ
れる処理液に混合してしまうということがある。
【００１０】上記カバーの上面を径方向周辺部にゆくに
つれた低く傾斜させることで、このカバーの上面に処理
液を溜まりにくくすることができる。しかしながら、カ
バーの直径寸法や高さ寸法は第１、第２の容器の大きさ
によって制限を受ける。そのため、上記カバーの上面の
傾斜角度にも制限を受けることになるから、カバーの上
面に溜まる処理液を良好に流すことができない。
つれた低く傾斜させることで、このカバーの上面に処理
液を溜まりにくくすることができる。しかしながら、カ
バーの直径寸法や高さ寸法は第１、第２の容器の大きさ
によって制限を受ける。そのため、上記カバーの上面の
傾斜角度にも制限を受けることになるから、カバーの上
面に溜まる処理液を良好に流すことができない。
【００１１】たとえカバーの上面を傾斜させても、処理
液はカバーの上面から確実に除去できるものでなく、付
着残留することが避けられないから、その処理液が他の
処理液に混合するということがある。
液はカバーの上面から確実に除去できるものでなく、付
着残留することが避けられないから、その処理液が他の
処理液に混合するということがある。
【００１２】さらに、第２の容器を下降させたときに、
その上端部を上記カバーの上面に接合させて処理液が第
２の容器内に入り込むのを防止している。しかしなが
ら、第２の容器をカバーの上面に接合させるだけでは、
カバーの上面を流れる処理液が第２の容器とカバーとの
接合面間に浸入して第２の容器内に入り込むことがある
ため、その処理液が第２の容器に回収される処理液と混
合するということがある。
その上端部を上記カバーの上面に接合させて処理液が第
２の容器内に入り込むのを防止している。しかしなが
ら、第２の容器をカバーの上面に接合させるだけでは、
カバーの上面を流れる処理液が第２の容器とカバーとの
接合面間に浸入して第２の容器内に入り込むことがある
ため、その処理液が第２の容器に回収される処理液と混
合するということがある。
【００１３】この発明は、第１の処理液と第２の処理液
とを確実に分離して回収できるようにしたスピン処理装
置を提供することにある。
とを確実に分離して回収できるようにしたスピン処理装
置を提供することにある。
【００１４】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、基板
を第１の処理液で処理してから第２の処理液で処理する
スピン処理装置において、カップ体と、このカップ体内
に設けられ上記基板を保持するとともに回転駆動される
回転体と、この回転体の下面側または上面側に回転体と
一体に回転するよう設けられ上記基板に供給された第１
あるいは第２の処理液を受けて遠心力で飛散させる平面
形状が円形状の遮蔽部材と、上記カップ体内に設けられ
このカップ体内を内側空間部と外側空間部とに隔別する
環状壁体と、上記カップ体の上記内側空間部と外側空間
部とにそれぞれ連通して設けられた内側排液管及び外側
排液管と、上記カップ体内に上下動可能に設けられ上昇
時には上記環状壁体とで上記基板に供給された第１の処
理液あるいは第２の処理液のいずれか一方が上記外側空
間部に流入するのを阻止し下降時には他方の処理液が内
側空間部に流入するのを阻止する切り分け壁体とを具備
したことを特徴とするスピン処理装置にある。
を第１の処理液で処理してから第２の処理液で処理する
スピン処理装置において、カップ体と、このカップ体内
に設けられ上記基板を保持するとともに回転駆動される
回転体と、この回転体の下面側または上面側に回転体と
一体に回転するよう設けられ上記基板に供給された第１
あるいは第２の処理液を受けて遠心力で飛散させる平面
形状が円形状の遮蔽部材と、上記カップ体内に設けられ
このカップ体内を内側空間部と外側空間部とに隔別する
環状壁体と、上記カップ体の上記内側空間部と外側空間
部とにそれぞれ連通して設けられた内側排液管及び外側
排液管と、上記カップ体内に上下動可能に設けられ上昇
時には上記環状壁体とで上記基板に供給された第１の処
理液あるいは第２の処理液のいずれか一方が上記外側空
間部に流入するのを阻止し下降時には他方の処理液が内
側空間部に流入するのを阻止する切り分け壁体とを具備
したことを特徴とするスピン処理装置にある。
【００１５】請求項２の発明は、上記切り分け壁体は、
下降時に上端が上記遮蔽部材の上面よりも下方に位置す
ることを特徴とする請求項１記載のスピン処理装置にあ
る。
下降時に上端が上記遮蔽部材の上面よりも下方に位置す
ることを特徴とする請求項１記載のスピン処理装置にあ
る。
【００１６】請求項３の発明は、上記遮蔽部材の上面と
外周面とは９０度以下の角度でエッジを形成しているこ
とを特徴とする請求項１または請求項２記載のスピン処
理装置にある。
外周面とは９０度以下の角度でエッジを形成しているこ
とを特徴とする請求項１または請求項２記載のスピン処
理装置にある。
【００１７】請求項４の発明は、上記基板は矩形状をな
していて、上記回転体は、基部と、この基部に基端が連
結された４本のアームと、各アームの先端部に設けられ
上記基板の各角部を支持する支持部とを備えていること
を特徴とする請求項１記載のスピン処理装置にある。
していて、上記回転体は、基部と、この基部に基端が連
結された４本のアームと、各アームの先端部に設けられ
上記基板の各角部を支持する支持部とを備えていること
を特徴とする請求項１記載のスピン処理装置にある。
【００１８】請求項５の発明は、基板を第１の処理液で
処理してから第２の処理液で処理するスピン処理装置に
おいて、カップ体と、上記基板よりも大きな円形状に形
成され上記カップ体内に設けられて回転駆動されるとと
もに、上面側に上記基板を支持する支持部が設けられ周
辺部には上面側に供給された処理液が下面側に伝わるの
を規制する液切部が設けられた円形状の回転体と、上記
カップ体内に設けられこのカップ体内を内側空間部と外
側空間部とに隔別する環状壁体と、上記カップ体の上記
内側空間部と外側空間部とにそれぞれ連通して設けられ
た内側排液管及び外側排液管と、上記カップ体内に上下
動可能に設けられ上昇時には上記環状壁体とで上記基板
に供給された第１の処理液あるいは第２の処理液のいず
れか一方が上記外側空間部に流入するのを阻止し下降時
には他方の処理液が内側空間部に流入するのを阻止する
切り分け壁体とを具備したことを特徴とするスピン処理
装置にある。
処理してから第２の処理液で処理するスピン処理装置に
おいて、カップ体と、上記基板よりも大きな円形状に形
成され上記カップ体内に設けられて回転駆動されるとと
もに、上面側に上記基板を支持する支持部が設けられ周
辺部には上面側に供給された処理液が下面側に伝わるの
を規制する液切部が設けられた円形状の回転体と、上記
カップ体内に設けられこのカップ体内を内側空間部と外
側空間部とに隔別する環状壁体と、上記カップ体の上記
内側空間部と外側空間部とにそれぞれ連通して設けられ
た内側排液管及び外側排液管と、上記カップ体内に上下
動可能に設けられ上昇時には上記環状壁体とで上記基板
に供給された第１の処理液あるいは第２の処理液のいず
れか一方が上記外側空間部に流入するのを阻止し下降時
には他方の処理液が内側空間部に流入するのを阻止する
切り分け壁体とを具備したことを特徴とするスピン処理
装置にある。
【００１９】請求項６の発明は、上記回転体に形成され
た液切部は、この回転体の下面周辺部に環状に垂設され
た周壁であることを特徴とする請求項５記載のスピン処
理装置にある。
た液切部は、この回転体の下面周辺部に環状に垂設され
た周壁であることを特徴とする請求項５記載のスピン処
理装置にある。
【００２０】請求項７の発明は、上記回転体に形成され
た液切部は、この回転体の上面と外周面とが９０度以下
の角度でエッジを形成してなることを特徴とする請求項
５記載のスピン処理装置にある。
た液切部は、この回転体の上面と外周面とが９０度以下
の角度でエッジを形成してなることを特徴とする請求項
５記載のスピン処理装置にある。
【００２１】請求項１の発明によれば、回転体の下面側
または上面側に、この回転体と一体に回転する遮蔽部材
を設けたことで、この遮蔽部材の上面に滴下した処理液
は、回転する遮蔽部材の遠心力によって確実に飛散除去
することができるから、残留して他の処理液に混合する
のを防止できる。
または上面側に、この回転体と一体に回転する遮蔽部材
を設けたことで、この遮蔽部材の上面に滴下した処理液
は、回転する遮蔽部材の遠心力によって確実に飛散除去
することができるから、残留して他の処理液に混合する
のを防止できる。
【００２２】請求項２の発明によれば、切り分け壁体を
下降させたときに、その上端が遮蔽部材の上面よりも下
方に位置するため、遮蔽部材の上面から遠心力によって
飛散する処理液が切り分け壁体に衝突するのを防止でき
る。
下降させたときに、その上端が遮蔽部材の上面よりも下
方に位置するため、遮蔽部材の上面から遠心力によって
飛散する処理液が切り分け壁体に衝突するのを防止でき
る。
【００２３】請求項３の発明によれば、遮蔽部材の上面
と外周面とが９０度以下のエッジを形成しているため、
遮蔽部材の上面を径方向外方に向かって流れる処理液が
外周面を伝わって下面側へ流れ込むのを防止できる。
と外周面とが９０度以下のエッジを形成しているため、
遮蔽部材の上面を径方向外方に向かって流れる処理液が
外周面を伝わって下面側へ流れ込むのを防止できる。
【００２４】請求項４の発明によれば、回転体の重量の
減少を図るために、この回転体を基部及び４本のアーム
から形成することで、基板に供給された処理液が下方へ
滴下する量が増大するものの、処理液は遮蔽部材の上面
に滴下するため、遠心力によって確実に飛散させて除去
することができる。
減少を図るために、この回転体を基部及び４本のアーム
から形成することで、基板に供給された処理液が下方へ
滴下する量が増大するものの、処理液は遮蔽部材の上面
に滴下するため、遠心力によって確実に飛散させて除去
することができる。
【００２５】請求項５乃至請求項７の発明によれば、回
転体を基板よりも大きな円形状としたので、基板に供給
された処理液は回転体の上面に滴下し、この回転体の遠
心力で上面から飛散除去されるから、他の処理液に混合
することがない。しかも、回転体の周辺部に設けられた
液切部によって、処理液が回転体の上面から下面側に伝
わるのを阻止することができる。
転体を基板よりも大きな円形状としたので、基板に供給
された処理液は回転体の上面に滴下し、この回転体の遠
心力で上面から飛散除去されるから、他の処理液に混合
することがない。しかも、回転体の周辺部に設けられた
液切部によって、処理液が回転体の上面から下面側に伝
わるのを阻止することができる。
【００２６】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面を参照して説明する。
面を参照して説明する。
【００２７】図１乃至図５はこの発明の第１の実施の形
態を示し、図１はスピン処理装置の概略的構成を示す断
面図で、このスピン処理装置はカップ体１を備えてい
る。このカップ体１は底部に第１の通孔２ａが形成され
た下カップ２及びこの下カップ２を覆う上カップ３とか
ら構成されている。
態を示し、図１はスピン処理装置の概略的構成を示す断
面図で、このスピン処理装置はカップ体１を備えてい
る。このカップ体１は底部に第１の通孔２ａが形成され
た下カップ２及びこの下カップ２を覆う上カップ３とか
ら構成されている。
【００２８】上記下カップ２はベース板４上に設けられ
ている。このベース板４には上記通孔２ａに対応する位
置に第２の通孔４ａが形成されている。上記第１の通孔
２ａの周囲は第１の仕切り壁５によって覆われ、上記第
２の通孔４ａの周囲は上記第１の仕切り壁５の内側に位
置する第２の仕切り壁６によって覆われている。
ている。このベース板４には上記通孔２ａに対応する位
置に第２の通孔４ａが形成されている。上記第１の通孔
２ａの周囲は第１の仕切り壁５によって覆われ、上記第
２の通孔４ａの周囲は上記第１の仕切り壁５の内側に位
置する第２の仕切り壁６によって覆われている。
【００２９】上記上カップ２は上記下カップ２の外周面
を覆う周壁部７と、この周壁部７の上部に取り付けられ
るとともに上記下カップ２の上方を覆う環状の上壁部８
とからなる。
を覆う周壁部７と、この周壁部７の上部に取り付けられ
るとともに上記下カップ２の上方を覆う環状の上壁部８
とからなる。
【００３０】上記下カップ２内には、この下カップ２内
を内側空間部１１と外側空間部１２とに隔別する環状壁
体１３及び環状壁体１３に対して上下動可能な切り分け
壁体１５とからなる。
を内側空間部１１と外側空間部１２とに隔別する環状壁
体１３及び環状壁体１３に対して上下動可能な切り分け
壁体１５とからなる。
【００３１】この環状壁体１３は下端が上記下カップ２
の内底面に液密に固着されており、上記切り分け壁体１
５は周囲が二重壁１５ａで、上部が傾斜壁１５ｂとなっ
ていて、その二重壁１５ａの間の部分に上記環状壁体１
３を挿入し、上下方向にスライド可能となっている。
の内底面に液密に固着されており、上記切り分け壁体１
５は周囲が二重壁１５ａで、上部が傾斜壁１５ｂとなっ
ていて、その二重壁１５ａの間の部分に上記環状壁体１
３を挿入し、上下方向にスライド可能となっている。
【００３２】上記切り分け壁体１５の二重壁１５ａの外
側の下端には下部連結片１６を介して連動軸１７の下端
が連結されている。この連動軸１７は上記上カップ２の
周壁部７の上部に形成された通孔７ａから外部に突出し
ている。そして、この連動軸１７の上端には上記ベース
板４上に軸線を垂直にして設けられたシリンダ１８のロ
ッド１８ａに上部連結片１９によって連結されている。
側の下端には下部連結片１６を介して連動軸１７の下端
が連結されている。この連動軸１７は上記上カップ２の
周壁部７の上部に形成された通孔７ａから外部に突出し
ている。そして、この連動軸１７の上端には上記ベース
板４上に軸線を垂直にして設けられたシリンダ１８のロ
ッド１８ａに上部連結片１９によって連結されている。
【００３３】したがって、シリンダ１８によって上記切
り分け壁体１５を、図１に示すように上昇した状態と、
図２に示すように下降した状態とに上下駆動することが
できるようになっている。
り分け壁体１５を、図１に示すように上昇した状態と、
図２に示すように下降した状態とに上下駆動することが
できるようになっている。
【００３４】上記下カップ２の通孔２ａには円筒状の回
転軸２１が挿通されている。この回転軸２１の上部は上
記カップ体１内に突出し、その上端には回転体２２が取
り付けられている。
転軸２１が挿通されている。この回転軸２１の上部は上
記カップ体１内に突出し、その上端には回転体２２が取
り付けられている。
【００３５】図４に示すように、上記回転体２２は基部
２３と、この基部２３の外周部に周方向に所定の間隔で
基端部が連結された４本のアーム２４とからなる。各ア
ーム２４の先端部には支持ピン２５と、この支持ピン２
５よりも背の高い一対の係止ピンと２６が突設されてい
る。そして、回転体２２には液晶表示装置用の矩形状の
基板３０がその四隅部の下面を上記支持ピン２５に支持
されるとともに外側面を上記係止ピン２６に係合させて
支持される。
２３と、この基部２３の外周部に周方向に所定の間隔で
基端部が連結された４本のアーム２４とからなる。各ア
ーム２４の先端部には支持ピン２５と、この支持ピン２
５よりも背の高い一対の係止ピンと２６が突設されてい
る。そして、回転体２２には液晶表示装置用の矩形状の
基板３０がその四隅部の下面を上記支持ピン２５に支持
されるとともに外側面を上記係止ピン２６に係合させて
支持される。
【００３６】上記回転軸２１は、中途部が軸受２７によ
って回転自在に支持されているとともに、下端部は駆動
モータ２８の回転子２９ａに連結されている。この回転
子２９ａは筒状をなしていて、同じく筒状の固定子２９
ｂ内に回転自在に挿入されている。この固定子２９ｂは
固定板３１に取り付け固定されている。
って回転自在に支持されているとともに、下端部は駆動
モータ２８の回転子２９ａに連結されている。この回転
子２９ａは筒状をなしていて、同じく筒状の固定子２９
ｂ内に回転自在に挿入されている。この固定子２９ｂは
固定板３１に取り付け固定されている。
【００３７】したがって、上記駆動モータ２８が作動す
ると、上記回転体２２が回転駆動されるから、この回転
体２２と一体的に基板３０が回転駆動されるようになっ
ている。
ると、上記回転体２２が回転駆動されるから、この回転
体２２と一体的に基板３０が回転駆動されるようになっ
ている。
【００３８】上記軸受２７は上記固定板３１に設けられ
た支持体３２に設けられていて、この支持体３２には上
記下カップ２の通孔２ａを覆う円形状のカバー３３が固
定されている。このカバー３３には外周縁に周壁３３ａ
が垂設され、径方向中途部の下面には上記第２の仕切り
壁６の内側に位置する第３の仕切り壁３４が垂設されて
いる。
た支持体３２に設けられていて、この支持体３２には上
記下カップ２の通孔２ａを覆う円形状のカバー３３が固
定されている。このカバー３３には外周縁に周壁３３ａ
が垂設され、径方向中途部の下面には上記第２の仕切り
壁６の内側に位置する第３の仕切り壁３４が垂設されて
いる。
【００３９】つまり、下カップ２の第１の通孔２ａが形
成された部分は所定間隔を介して同心状に配置された第
１乃至第３の仕切り壁５，６，３４によって覆われ、さ
らに第１の仕切り壁５の外側はカバー３３の周壁３３ａ
によって覆われたラビリンス構造をなしているから、上
記回転体２２に保持された基板３０に向けて後述するご
とく供給される処理液が上記下カップ２の通孔２ａから
外部に流出するのが阻止されるようになっている。
成された部分は所定間隔を介して同心状に配置された第
１乃至第３の仕切り壁５，６，３４によって覆われ、さ
らに第１の仕切り壁５の外側はカバー３３の周壁３３ａ
によって覆われたラビリンス構造をなしているから、上
記回転体２２に保持された基板３０に向けて後述するご
とく供給される処理液が上記下カップ２の通孔２ａから
外部に流出するのが阻止されるようになっている。
【００４０】上記下カップ２の底部は径方向外方に向か
って低く傾斜していて、上記内側空間部１１の最も低い
位置には複数の内側排液管４１が接続され、外側空間部
１２の最も低い位置には複数の外側排液管４２が接続さ
れている。さらに、ベース板４には、下カップ２に接続
された内側排液管４１よりも径方向内側の部分に複数の
内側排気管４３が接続され、上記内側排液管４１よりも
外側の部分には複数の外側排気管４４が接続されてい
る。
って低く傾斜していて、上記内側空間部１１の最も低い
位置には複数の内側排液管４１が接続され、外側空間部
１２の最も低い位置には複数の外側排液管４２が接続さ
れている。さらに、ベース板４には、下カップ２に接続
された内側排液管４１よりも径方向内側の部分に複数の
内側排気管４３が接続され、上記内側排液管４１よりも
外側の部分には複数の外側排気管４４が接続されてい
る。
【００４１】上記各排液管４１，４２はそれぞれ別々の
貯液タンク（図示せず）に連通し、上記各排気管４３，
４４はそれぞれ別々の排気ポンプ（図示せず）に接続さ
れている。なお、下カップ２の下面側の空間部は、複数
の環状のシール部材４５によって内側排気管４３がカッ
プ体１内の内側空間部１１に連通し、外側排気管４４が
外側空間部１２に連通するよう仕切られている。
貯液タンク（図示せず）に連通し、上記各排気管４３，
４４はそれぞれ別々の排気ポンプ（図示せず）に接続さ
れている。なお、下カップ２の下面側の空間部は、複数
の環状のシール部材４５によって内側排気管４３がカッ
プ体１内の内側空間部１１に連通し、外側排気管４４が
外側空間部１２に連通するよう仕切られている。
【００４２】図１に示すように、切り分け壁体１５が上
昇した状態で上記排気ポンプが作動すると、カップ体１
内には矢印で示すようにカップ体１の内側空間部１１を
通って内側排気管４３から排気される気流が発生する。
昇した状態で上記排気ポンプが作動すると、カップ体１
内には矢印で示すようにカップ体１の内側空間部１１を
通って内側排気管４３から排気される気流が発生する。
【００４３】図２に示すように、上記上部壁体１５を下
降させた状態で排気ポンプを作動させると、カップ体１
内には矢印で示すように外側空間部１２を通って外側排
気管４４から排気される空気流が生じる。
降させた状態で排気ポンプを作動させると、カップ体１
内には矢印で示すように外側空間部１２を通って外側排
気管４４から排気される空気流が生じる。
【００４４】上記回転体２２の下面側には、この回転体
２２の外形寸法よりも大きな直径で、上記カバー３３の
直径とほぼ同径の円形状に形成された遮蔽部材５１が設
けられている。この遮蔽部材５１は、図３に示すように
中心部に上記回転軸２１よりも大径で，上記回転体２２
の基部２３よりも小径な通孔５２が形成され、この通孔
５２の外側の部分が上記基部２３の下面に図示しないね
じなどで接合固定されている。
２２の外形寸法よりも大きな直径で、上記カバー３３の
直径とほぼ同径の円形状に形成された遮蔽部材５１が設
けられている。この遮蔽部材５１は、図３に示すように
中心部に上記回転軸２１よりも大径で，上記回転体２２
の基部２３よりも小径な通孔５２が形成され、この通孔
５２の外側の部分が上記基部２３の下面に図示しないね
じなどで接合固定されている。
【００４５】上記遮蔽部材５１の外周縁には液切部とし
ての周壁５３が形成されている。図５に示すように、こ
の周壁５３と上記遮蔽部材５１の上面とは、９０度以下
の角度、この実施の形態では９０度で交差した液切部と
してのエッジ５４を形成している。つまり、遮蔽部材５
１の上面と周壁５３とは、アールのない状態である、エ
ッジ５４を介して交差している。上記周壁５３とエッジ
５４との、少なくともどちらか一方によって遮蔽部材５
１の上面から下面側に処理液が回り込むのを防止する液
切部を構成している。
ての周壁５３が形成されている。図５に示すように、こ
の周壁５３と上記遮蔽部材５１の上面とは、９０度以下
の角度、この実施の形態では９０度で交差した液切部と
してのエッジ５４を形成している。つまり、遮蔽部材５
１の上面と周壁５３とは、アールのない状態である、エ
ッジ５４を介して交差している。上記周壁５３とエッジ
５４との、少なくともどちらか一方によって遮蔽部材５
１の上面から下面側に処理液が回り込むのを防止する液
切部を構成している。
【００４６】図２に示すように、上記切り分け壁体１５
を下降させたとき、この切り分け壁体１５の傾斜壁１５
ｂの上端は、上記遮蔽部材５１の周壁５３に対してわず
かな間隔で離間対向するとともに、上記遮蔽部材５１の
上面よりも下方に位置するよう、設定されている。上記
傾斜壁１５ｂの上端と、遮蔽部材５１の上面との高さ寸
法の差は１ｍｍ以上、好ましくは３ｍｍ以上、さらに好
ましくは５ｍｍ以上がよい。
を下降させたとき、この切り分け壁体１５の傾斜壁１５
ｂの上端は、上記遮蔽部材５１の周壁５３に対してわず
かな間隔で離間対向するとともに、上記遮蔽部材５１の
上面よりも下方に位置するよう、設定されている。上記
傾斜壁１５ｂの上端と、遮蔽部材５１の上面との高さ寸
法の差は１ｍｍ以上、好ましくは３ｍｍ以上、さらに好
ましくは５ｍｍ以上がよい。
【００４７】図１と図２に示すように、上記カップ体１
の上方には、上記回転体２２に保持された基板３０に向
けて第１の処理液Ｌ１ を供給する第１の上部ノズル体
５５と、第２の処理液Ｌ２ を供給する第２の上部ノズ
ル体５６とが配置されている。各上部ノズル体５５、５
６は、それぞれ図示しない第１、第２の処理液Ｌ１、Ｌ
２ の供給源に連通している。
の上方には、上記回転体２２に保持された基板３０に向
けて第１の処理液Ｌ１ を供給する第１の上部ノズル体
５５と、第２の処理液Ｌ２ を供給する第２の上部ノズ
ル体５６とが配置されている。各上部ノズル体５５、５
６は、それぞれ図示しない第１、第２の処理液Ｌ１、Ｌ
２ の供給源に連通している。
【００４８】図３に示すように、中空状の上記回転体２
２の基部２３の上面側にはノズルヘッド６１が設けられ
ている。このノズルヘッド６１は、上記回転子２９ａと
回転軸２１とにわたって挿通された支持部材６２の上端
に固定されている。つまり、ノズルヘッド６１は固定的
に設けられている。
２の基部２３の上面側にはノズルヘッド６１が設けられ
ている。このノズルヘッド６１は、上記回転子２９ａと
回転軸２１とにわたって挿通された支持部材６２の上端
に固定されている。つまり、ノズルヘッド６１は固定的
に設けられている。
【００４９】図４に示すように、上記ノズルヘッド６１
には基板３０の下面に第１の処理液Ｌ１ を供給する一
対の第１の下部ノズル体６３、第２の処理液Ｌ２ を供
給する一対の第２の下部ノズル体６４及び乾燥用のガス
を供給するガスノズル体６５などが設けられている。
には基板３０の下面に第１の処理液Ｌ１ を供給する一
対の第１の下部ノズル体６３、第２の処理液Ｌ２ を供
給する一対の第２の下部ノズル体６４及び乾燥用のガス
を供給するガスノズル体６５などが設けられている。
【００５０】次に、上記構成のスピン処理装置によって
基板３０を第１、第２の処理液Ｌ１ 、Ｌ２ によって順
次処理する手順について説明する。
基板３０を第１、第２の処理液Ｌ１ 、Ｌ２ によって順
次処理する手順について説明する。
【００５１】まず、回転体２２に基板３０を保持したな
らば、切り分け壁体１５を図１に示すように上昇させ
る。その状態で回転体２２を回転駆動するとともに、内
側排気管４３に接続された排気ポンプを作動させたなら
ば、第１の上部ノズル体５５及び第１の下部ノズル体６
３から第１の処理液Ｌ１ を上記基板３０に向けて供給
する。
らば、切り分け壁体１５を図１に示すように上昇させ
る。その状態で回転体２２を回転駆動するとともに、内
側排気管４３に接続された排気ポンプを作動させたなら
ば、第１の上部ノズル体５５及び第１の下部ノズル体６
３から第１の処理液Ｌ１ を上記基板３０に向けて供給
する。
【００５２】第１の上部ノズル体５５から基板３０に供
給された第１の処理液Ｌ１ の一部は、回転する基板３
０の遠心力によって周囲に飛散し、上昇した切り分け壁
体１５の内周面に衝突して落下する。つまり、切り分け
壁体１５が上昇していることで、基板３０の遠心力で飛
散した第１の処理液Ｌ１ はカップ体１内の内側空間部
１１に滴下し、第１の排液管４１を通って回収されるこ
とになる。また、内側空間部１１から内側排気管４３へ
流れる気流によっても第１の処理液Ｌ１ は内側空間部
１１に円滑に回収されることになる。
給された第１の処理液Ｌ１ の一部は、回転する基板３
０の遠心力によって周囲に飛散し、上昇した切り分け壁
体１５の内周面に衝突して落下する。つまり、切り分け
壁体１５が上昇していることで、基板３０の遠心力で飛
散した第１の処理液Ｌ１ はカップ体１内の内側空間部
１１に滴下し、第１の排液管４１を通って回収されるこ
とになる。また、内側空間部１１から内側排気管４３へ
流れる気流によっても第１の処理液Ｌ１ は内側空間部
１１に円滑に回収されることになる。
【００５３】基板３０が矩形状であるため、回転する基
板３０に供給された第１の処理液Ｌ １ の残りの一部は
基板３０の上面に載らずにそのまま下方の遮蔽部材５１
上に滴下する。さらに、第１の下部ノズル体６３から基
板３０の下面に供給された第１の処理液Ｌ１ はこの下
面で反射して回転体２２のアーム２４の間から遮蔽部材
５１の上面に滴下する。
板３０に供給された第１の処理液Ｌ １ の残りの一部は
基板３０の上面に載らずにそのまま下方の遮蔽部材５１
上に滴下する。さらに、第１の下部ノズル体６３から基
板３０の下面に供給された第１の処理液Ｌ１ はこの下
面で反射して回転体２２のアーム２４の間から遮蔽部材
５１の上面に滴下する。
【００５４】上記遮蔽部材５１は回転体２２と一体に回
転している。そのため、遮蔽部材５１の上面に滴下した
第１の処理液Ｌ１ は、遠心力によって遮蔽部材５１の
上面から周囲に飛散し、上部壁体１５の内周面に衝突す
るから、内側空間部１１に連通した内側排液管４１から
排出されることになる。つまり、第１の処理液Ｌ１が遮
蔽部材５１の上面に付着残留するのを防止できる。
転している。そのため、遮蔽部材５１の上面に滴下した
第１の処理液Ｌ１ は、遠心力によって遮蔽部材５１の
上面から周囲に飛散し、上部壁体１５の内周面に衝突す
るから、内側空間部１１に連通した内側排液管４１から
排出されることになる。つまり、第１の処理液Ｌ１が遮
蔽部材５１の上面に付着残留するのを防止できる。
【００５５】遮蔽部材５１の上面に滴下した第１の処理
液Ｌ１ の一部は、この遮蔽部材５１の外周面から下面
側に回り込んでカバー３３上に滴下し、排出されずに残
留する虞がある。
液Ｌ１ の一部は、この遮蔽部材５１の外周面から下面
側に回り込んでカバー３３上に滴下し、排出されずに残
留する虞がある。
【００５６】しかしながら、上記遮蔽部材５１の周縁部
には周壁５３が形成され、しかも遮蔽部材５１の上面と
上記周壁５３とは９０度の角度で交差するエッジ５４を
なしている。
には周壁５３が形成され、しかも遮蔽部材５１の上面と
上記周壁５３とは９０度の角度で交差するエッジ５４を
なしている。
【００５７】そのため、遮蔽部材５１の上面を径方向外
方に向かって流れてきた第１の処理液Ｌ１ は、上記エ
ッジ５４によって上面から周壁５３に伝わるのが阻止さ
れるとともに、たとえ周壁５３に流れても、その周壁５
３から下方へ滴下するため、下面側に回り込んでカバー
３３上に滴下残留するということが防止される。
方に向かって流れてきた第１の処理液Ｌ１ は、上記エ
ッジ５４によって上面から周壁５３に伝わるのが阻止さ
れるとともに、たとえ周壁５３に流れても、その周壁５
３から下方へ滴下するため、下面側に回り込んでカバー
３３上に滴下残留するということが防止される。
【００５８】つまり、切り分け壁体１５を上昇させて基
板３０を第１の処理液Ｌ１ で処理する場合、基板３０
の上面から遠心力によって周囲に飛ばされる第１の処理
液Ｌ １ は勿論のこと、基板３０の上面に載らない第１
の処理液Ｌ１ は回転体２２と一体に回転する遮蔽部材
５１の上面に滴下するため、この遮蔽部材５１の遠心力
によって周囲に飛散する。
板３０を第１の処理液Ｌ１ で処理する場合、基板３０
の上面から遠心力によって周囲に飛ばされる第１の処理
液Ｌ １ は勿論のこと、基板３０の上面に載らない第１
の処理液Ｌ１ は回転体２２と一体に回転する遮蔽部材
５１の上面に滴下するため、この遮蔽部材５１の遠心力
によって周囲に飛散する。
【００５９】そのため、基板３０を第１の処理液Ｌｌ
で処理したときに、第１の処理液Ｌ １ が回転体２２や
遮蔽部材５１に付着残留するのを防止することができ
る。
で処理したときに、第１の処理液Ｌ １ が回転体２２や
遮蔽部材５１に付着残留するのを防止することができ
る。
【００６０】基板３０を第１の処理液Ｌ１ で処理した
ならば、次に第２の処理液Ｌ２ で処理する。その場
合、まず切り分け壁体１５を図１に示す上昇した状態か
ら図２に示すように下降させ、さらに外側排気管４４に
連通した排気ポンプを作動させる。切り分け壁体１５を
下降させると、その傾斜壁１５ｂの上端が遮蔽部材５１
の周壁５３に対してわずかな間隔で離間対向し、しかも
遮蔽部材５１の上面よりも所定寸法下方に位置する。
ならば、次に第２の処理液Ｌ２ で処理する。その場
合、まず切り分け壁体１５を図１に示す上昇した状態か
ら図２に示すように下降させ、さらに外側排気管４４に
連通した排気ポンプを作動させる。切り分け壁体１５を
下降させると、その傾斜壁１５ｂの上端が遮蔽部材５１
の周壁５３に対してわずかな間隔で離間対向し、しかも
遮蔽部材５１の上面よりも所定寸法下方に位置する。
【００６１】その状態で第２の上部ノズル体５６と第２
の下部ノズル体６４とから基板３０の上面と下面とに第
２の処理液Ｌ２ を供給すると、第２の処理液Ｌ２ は
回転する基板３０及び遮蔽部材５１の遠心力によって周
囲に飛散して上カップ３の上部壁８の内周面に衝突して
カップ体１内の外側空間部１２に滴下するから、その底
部に接続された外側排液管４２を通して排液されること
になる。
の下部ノズル体６４とから基板３０の上面と下面とに第
２の処理液Ｌ２ を供給すると、第２の処理液Ｌ２ は
回転する基板３０及び遮蔽部材５１の遠心力によって周
囲に飛散して上カップ３の上部壁８の内周面に衝突して
カップ体１内の外側空間部１２に滴下するから、その底
部に接続された外側排液管４２を通して排液されること
になる。
【００６２】つまり、基板３０を第２の処理液Ｌ２ で
処理する場合も、第１の処理液Ｌ１ で処理する場合と同
様、遮蔽部材５１が回転体２２と一体的に回転駆動され
ることで、この遮蔽部材５１の上面に第２の処理液Ｌ
２ が付着残留したり、遮蔽部材５１の下面側に回り込
んでカバー３３上に滴下残留するということもない。
処理する場合も、第１の処理液Ｌ１ で処理する場合と同
様、遮蔽部材５１が回転体２２と一体的に回転駆動され
ることで、この遮蔽部材５１の上面に第２の処理液Ｌ
２ が付着残留したり、遮蔽部材５１の下面側に回り込
んでカバー３３上に滴下残留するということもない。
【００６３】しかも、切り分け壁体１５を下降させたと
き、この傾斜壁１５ｂの上端は遮蔽部材１５の上面より
も所定寸法下方に位置している。そのため、回転する遮
蔽部材１５の上面から遠心力によって飛ばされる第２の
処理液Ｌ２ が上記切り分け壁体１５に衝突してカップ
体１の内側空間部１１に滴下し、この内側空間部１１を
通じて回収された第１の処理液Ｌ１ に混合するという
ことも防止される。
き、この傾斜壁１５ｂの上端は遮蔽部材１５の上面より
も所定寸法下方に位置している。そのため、回転する遮
蔽部材１５の上面から遠心力によって飛ばされる第２の
処理液Ｌ２ が上記切り分け壁体１５に衝突してカップ
体１の内側空間部１１に滴下し、この内側空間部１１を
通じて回収された第１の処理液Ｌ１ に混合するという
ことも防止される。
【００６４】なお、上記切り分け壁体１５を下降させた
ときに、その上端が遮蔽部材５１の上面と同じ高さであ
ると、遮蔽部材５１から飛散する第２の処理液Ｌ２ の
一部が切り分け壁体１５と遮蔽部材５１との隙間から内
側空間部１１に入り込む虞があるが、切り分け壁体１５
の上端を遮蔽部材５１の上面よりも所定寸法低くしたこ
とで、第２の処理液Ｌ２ が内側空間部１１に侵入する
のを確実に防止することができる。
ときに、その上端が遮蔽部材５１の上面と同じ高さであ
ると、遮蔽部材５１から飛散する第２の処理液Ｌ２ の
一部が切り分け壁体１５と遮蔽部材５１との隙間から内
側空間部１１に入り込む虞があるが、切り分け壁体１５
の上端を遮蔽部材５１の上面よりも所定寸法低くしたこ
とで、第２の処理液Ｌ２ が内側空間部１１に侵入する
のを確実に防止することができる。
【００６５】遮蔽部材５１の上面と切り分け壁体１５の
上端との寸法差は１ｍｍ以上あればよいが、３ｍｍ以上
とすることが好ましく、さらに５ｍｍ以上とすれば、よ
り一層好ましい。
上端との寸法差は１ｍｍ以上あればよいが、３ｍｍ以上
とすることが好ましく、さらに５ｍｍ以上とすれば、よ
り一層好ましい。
【００６６】図６はこの発明の第２の実施の形態を示
す。この第２の実施の形態は、遮蔽部材５１が回転体２
２の上面側で、この回転体２２に保持される基板３０の
下面側になるように設けられている。
す。この第２の実施の形態は、遮蔽部材５１が回転体２
２の上面側で、この回転体２２に保持される基板３０の
下面側になるように設けられている。
【００６７】上記遮蔽部材５１には、ノズルヘッド６１
を露出させる通孔５２ａが形成されている。この通孔５
２ａとノズルヘッド６１の上面との間に隙間ができない
よう、上記遮蔽部材５１の高さ位置に応じて通孔５２ａ
の大きさが設定される。さらに、各アーム２４の先端部
に設けられた支持ピン２５と係止ピン２６とは上記遮蔽
部材５１の上面側に突出している。
を露出させる通孔５２ａが形成されている。この通孔５
２ａとノズルヘッド６１の上面との間に隙間ができない
よう、上記遮蔽部材５１の高さ位置に応じて通孔５２ａ
の大きさが設定される。さらに、各アーム２４の先端部
に設けられた支持ピン２５と係止ピン２６とは上記遮蔽
部材５１の上面側に突出している。
【００６８】このように、遮蔽部材５１を回転体２２の
上面側に設けるようにしても、基板３０に供給された第
１の処理液Ｌ１ や第２の処理液Ｌ２ は回転する遮蔽
部材５１の遠心力によってその上面から周囲に飛散する
ため、第１の処理液Ｌ１ と第２の処理液Ｌ２ との切
り換えを、使用中の処理液をカップ体１内に残留させる
ことなく、確実に行うことができる。
上面側に設けるようにしても、基板３０に供給された第
１の処理液Ｌ１ や第２の処理液Ｌ２ は回転する遮蔽
部材５１の遠心力によってその上面から周囲に飛散する
ため、第１の処理液Ｌ１ と第２の処理液Ｌ２ との切
り換えを、使用中の処理液をカップ体１内に残留させる
ことなく、確実に行うことができる。
【００６９】図７と図８はこの発明の第３の実施の形態
を示す。この実施の形態は回転体の変形例で、この回転
体７１は基板３０の外形寸法よりも大径な円盤状をなし
ている。この回転体７１の上面には矩形状の基板３０の
四隅部下面を支持する支持ピン２５及び外面に係合する
係止ピン２６が突設されている。
を示す。この実施の形態は回転体の変形例で、この回転
体７１は基板３０の外形寸法よりも大径な円盤状をなし
ている。この回転体７１の上面には矩形状の基板３０の
四隅部下面を支持する支持ピン２５及び外面に係合する
係止ピン２６が突設されている。
【００７０】上記回転体７１の上面と外周面とは９０度
に交差する液切部であるエッジ７２となっており、さら
に回転体７１の下面の外周面から所定寸法内方には同じ
く液切部としての周壁７３が垂設されている。上記回転
体７１の中心部には、ノズルヘッド６１を露出させるた
めに通孔７４が形成されている。
に交差する液切部であるエッジ７２となっており、さら
に回転体７１の下面の外周面から所定寸法内方には同じ
く液切部としての周壁７３が垂設されている。上記回転
体７１の中心部には、ノズルヘッド６１を露出させるた
めに通孔７４が形成されている。
【００７１】このような構成の回転体７１によると、基
板３０の上面及び下面に供給された第１あるいは第２の
処理液は、回転体７１の上面に滴下するから、この回転
体７１の遠心力によって周囲に飛散される。
板３０の上面及び下面に供給された第１あるいは第２の
処理液は、回転体７１の上面に滴下するから、この回転
体７１の遠心力によって周囲に飛散される。
【００７２】つまり、回転体７１が第１の実施の形態の
ように４本のアーム２４で形成されているものでないか
ら、基板３０に供給された各処理液は回転体７１の上面
に滴下し、この回転体７１の遠心力によって飛散除去さ
れることになる。
ように４本のアーム２４で形成されているものでないか
ら、基板３０に供給された各処理液は回転体７１の上面
に滴下し、この回転体７１の遠心力によって飛散除去さ
れることになる。
【００７３】したがって、この実施の形態によれば、第
１の実施の形態に示された遮蔽部材５１を用いることな
く、第１の処理液Ｌ１ と第２の処理液Ｌ２とを分離回
収することができる。
１の実施の形態に示された遮蔽部材５１を用いることな
く、第１の処理液Ｌ１ と第２の処理液Ｌ２とを分離回
収することができる。
【００７４】なお、この第３の実施の形態は、第１の実
施の形態に比べて回転体７１の形状が異なる点と、遮蔽
部材５１がない点とを除き、他の部分の構成は同じであ
る。
施の形態に比べて回転体７１の形状が異なる点と、遮蔽
部材５１がない点とを除き、他の部分の構成は同じであ
る。
【００７５】
【発明の効果】請求項１の発明によれば、回転体の下面
側または上面側に、この回転体と一体に回転する遮蔽部
材を設けるようにした。
側または上面側に、この回転体と一体に回転する遮蔽部
材を設けるようにした。
【００７６】そのため、遮蔽部材の上面に滴下した処理
液は、回転する遮蔽部材の遠心力によって確実に飛散除
去することができるから、この遮蔽部材の上面に処理液
が残留して他の処理液に混合するのを防止できる。
液は、回転する遮蔽部材の遠心力によって確実に飛散除
去することができるから、この遮蔽部材の上面に処理液
が残留して他の処理液に混合するのを防止できる。
【００７７】請求項２の発明によれば、切り分け壁体を
下降させたときに、その上端が遮蔽部材の上面よりも下
方に位置するようにした。
下降させたときに、その上端が遮蔽部材の上面よりも下
方に位置するようにした。
【００７８】そのため、遮蔽部材の上面から遠心力によ
って飛散する処理液が切り分け壁体に衝突するのを防止
できるから、カップ体の外側空間部に回収される処理液
が内側空間部に入り込むのを防止できる。
って飛散する処理液が切り分け壁体に衝突するのを防止
できるから、カップ体の外側空間部に回収される処理液
が内側空間部に入り込むのを防止できる。
【００７９】請求項３の発明によれば、遮蔽部材の上面
と外周面とで９０度以下のエッジを形成した。
と外周面とで９０度以下のエッジを形成した。
【００８０】そのため、遮蔽部材の上面を径方向外方に
向かって流れる処理液が外周面を伝わって下面側へ流れ
込むのを防止できる。
向かって流れる処理液が外周面を伝わって下面側へ流れ
込むのを防止できる。
【００８１】請求項４の発明によれば、回転体の重量の
減少を図るために、この回転体を基部及び４本のアーム
から形成することで、基板に供給された処理液が回転体
の下方に滴下する量が増大しても、処理液は遮蔽部材の
上面に滴下する。
減少を図るために、この回転体を基部及び４本のアーム
から形成することで、基板に供給された処理液が回転体
の下方に滴下する量が増大しても、処理液は遮蔽部材の
上面に滴下する。
【００８２】そのため、回転体の下方に滴下する処理液
の量が増大しても、遮蔽部材の上面に滴下することで、
この遮蔽部材の遠心力によって確実に飛散させて除去す
ることができる。
の量が増大しても、遮蔽部材の上面に滴下することで、
この遮蔽部材の遠心力によって確実に飛散させて除去す
ることができる。
【００８３】請求項５乃至請求項７の発明によれば、回
転体を基板よりも大きな円形状としたので、基板に供給
された処理液は回転体の上面に滴下し、この回転体の遠
心力で上面から飛散除去されるから、他の処理液に混合
することがない。
転体を基板よりも大きな円形状としたので、基板に供給
された処理液は回転体の上面に滴下し、この回転体の遠
心力で上面から飛散除去されるから、他の処理液に混合
することがない。
【００８４】しかも、回転体の周辺部に設けられた液切
部によって、処理液が回転体の上面から下面側に伝わる
のを確実に防止することができる。
部によって、処理液が回転体の上面から下面側に伝わる
のを確実に防止することができる。
【図１】この発明の第１の実施の形態を示すスピン処理
装置の切り分け壁体が上昇した状態の概略的構成図。
装置の切り分け壁体が上昇した状態の概略的構成図。
【図２】同じく切り分け壁体が下降した状態の概略的構
成図。
成図。
【図３】同じく回転体の部分の拡大図。
【図４】同じく回転体の平面図。
【図５】同じく遮蔽部材のエッジを示す拡大断面図。
【図６】この発明の第２の実施の形態を示す回転体の部
分の拡大図。
分の拡大図。
【図７】この発明の第３の実施の形態を示す回転体の平
面図。
面図。
【図８】同じく回転体の周辺部の拡大断面図。
１…カップ体 １３…環状壁 １５…切り分け壁体 ２２…回転体 ２３…基部 ２４…アーム ２５…支持ピン（支持部） ２６…係止ピン（支持部） ３０…基板 ４１…内側排液管 ４２…外側排液管 ５１…遮蔽部材 ５４…エッジ
Claims (7)
- 【請求項１】 基板を第１の処理液で処理してから第２
の処理液で処理するスピン処理装置において、 カップ体と、 このカップ体内に設けられ上記基板を保持するとともに
回転駆動される回転体と、 この回転体の下面側または上面側に回転体と一体に回転
するよう設けられ上記基板に供給された第１あるいは第
２の処理液を受けて遠心力で飛散させる平面形状が円形
状の遮蔽部材と、 上記カップ体内に設けられこのカップ体内を内側空間部
と外側空間部とに隔別する環状壁体と、 上記カップ体の上記内側空間部と外側空間部とにそれぞ
れ連通して設けられた内側排液管及び外側排液管と、 上記カップ体内に上下動可能に設けられ上昇時には上記
環状壁体とで上記基板に供給された第１の処理液あるい
は第２の処理液のいずれか一方が上記外側空間部に流入
するのを阻止し下降時には他方の処理液が内側空間部に
流入するのを阻止する切り分け壁体とを具備したことを
特徴とするスピン処理装置。 - 【請求項２】 上記切り分け壁体は、下降時に上端が上
記遮蔽部材の上面よりも下方に位置することを特徴とす
る請求項１記載のスピン処理装置。 - 【請求項３】 上記遮蔽部材の上面と外周面とは９０度
以下の角度でエッジを形成していることを特徴とする請
求項１または請求項２記載のスピン処理装置。 - 【請求項４】 上記基板は矩形状をなしていて、上記回
転体は、基部と、この基部に基端が連結された４本のア
ームと、各アームの先端部に設けられ上記基板の各角部
を支持する支持部とを備えていることを特徴とする請求
項１記載のスピン処理装置。 - 【請求項５】 基板を第１の処理液で処理してから第２
の処理液で処理するスピン処理装置において、 カップ体と、 上記基板よりも大きな円形状に形成され上記カップ体内
に設けられて回転駆動されるとともに、上面側に上記基
板を支持する支持部が設けられ周辺部には上面側に供給
された処理液が下面側に伝わるのを規制する液切部が設
けられた円形状の回転体と、 上記カップ体内に設けられこのカップ体内を内側空間部
と外側空間部とに隔別する環状壁体と、 上記カップ体の上記内側空間部と外側空間部とにそれぞ
れ連通して設けられた内側排液管及び外側排液管と、 上記カップ体内に上下動可能に設けられ上昇時には上記
環状壁体とで上記基板に供給された第１の処理液あるい
は第２の処理液のいずれか一方が上記外側空間部に流入
するのを阻止し下降時には他方の処理液が内側空間部に
流入するのを阻止する切り分け壁体とを具備したことを
特徴とするスピン処理装置。 - 【請求項６】 上記回転体に形成された液切部は、この
回転体の下面周辺部に環状に垂設された周壁であること
を特徴とする請求項５記載のスピン処理装置。 - 【請求項７】 上記回転体に形成された液切部は、この
回転体の上面と外周面とが９０度以下の角度でエッジを
形成してなることを特徴とする請求項５記載のスピン処
理装置。
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