JPH1041269A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 複数種類の処理液を分離して回収することが
できるとともに、カップ内の処理液雰囲気を速やかに排
気解消してカップ内を清浄雰囲気にすることができる基
板処理装置を提供する。 【解決手段】 基板Ｗを回転保持するスピンチャック１
０と、廃液回収用のカップ１３との間に、回転可能な廃
液案内機構２０を配備する。カップ１３は内側に薬液廃
液用カップ１７を、外側にリンス液廃液用カップ１８を
それぞれ備える。薬液処理時には、廃液案内機構２０を
低速回転させることにより薬液廃液をカップ１７に導
き、洗浄処理時には、廃液案内機構２０を高速回転させ
ることによりリンス液廃液をカップ１８に導く。廃液案
内機構２０を回転駆動することにより、カップ１３内の
薬液雰囲気が強制排気される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体基板、液晶
表示器用のガラス基板、フォトマスク用のガラス基板、
光ディスク用の基板など（以下、単に基板という）を回
転させながら、基板の表面にエッチング液などの薬液や
リンス液を順に供給して基板の表面処理を行う装置に係
り、特に、基板に供給された薬液やリンス液などの処理
液を分離回収する技術に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、この種の基板処理装置として、例
えば実公平４−３４９０２号公報に開示されたものがあ
る。この装置を図１１を参照して説明する。

【０００３】この装置は、基板Ｗを保持して鉛直軸芯回
りに回転するスピンチャック１の周囲に、３種類の処理
廃液を分離して回収するための廃液用カップ２を配備し
て構成されている。廃液用カップ２は、中心側から順に
間隔をあけて配置された、第１のカップ２ａ、第２のカ
ップ２ｂ、および第３のカップ２ｃから構成されてい
る。そして、各カップの廃液取り込み口３ａ〜３ｃが下
方位置、中間位置、上方位置にそれぞれ配置され、これ
らの廃液取り込み口３ａ〜３ｃに対応する上下３段階の
処理位置Ｈａ〜Ｈｃにスピンチャック１が昇降するよう
になっている。スピンチャック１の上方には各処理液を
吐出するためのノズル４が設けられている。

【０００４】以上のように構成された従来装置におい
て、第１の処理液、例えば現像液で基板Ｗを処理すると
きは、スピンチャック１は下方位置Ｈａに設定される。
この回転処理時に飛散した第１の処理廃液は、第１のカ
ップ２ａで集められて排出口５ａを介して回収される。
第２の処理液、例えばエッチング液で基板Ｗを処理する
ときは、スピンチャック１は中間位置Ｈｂに設定され
る。このときの第２の処理廃液は、第２のカップ２ｂで
集められて排出口５ｂを介して回収される。同様に、第
３の処理液、例えばリンス液で基板Ｗを洗浄するとき
は、スピンチャック１は上方位置Ｈｃに設定され、この
ときの第３の処理廃液は第３のカップ２ｃで集められて
排出口５ｃを介して回収される。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。この種の基板処理装置では、処理中に処理液が飛
散することにより、カップ内に処理液のミストが漂う。
例えば、エッチング処理を行うと、カップ内はエッチン
グ液の雰囲気になる。このようなエッチング液の雰囲気
は、後に同じ装置内で行われるリンス処理時に基板表面
に悪影響を及ぼす。そこで、通常、処理装置の上方から
清浄空気をカップ内に取り込むととともに、カップ内の
排気が行われる。しかし、このような排気を行っても、
カップ内に処理液の雰囲気が残留して、基板に悪影響を
及ぼすことがある。

【０００６】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、複数種類の処理液を分離して回収する
ことができるとともに、カップ内の処理液雰囲気を速や
かに排気解消してカップ内を清浄雰囲気にすることがで
きる基板処理装置を提供することを目的としている。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記の目的を
達成するために、次のような構成をとる。すなわち、請
求項１に記載の発明は、基板に所定の処理を行なう基板
処理装置において、基板を保持する基板保持手段と、前
記基板保持手段を回転駆動する第１の回転駆動手段と、
前記基板保持手段に保持された基板の表面に処理液を供
給する処理液供給手段と、前記基板保持手段の周囲を囲
むように複数個配置され、基板の回転に伴って飛散した
処理液を種類に応じて回収するカップと、前記基板保持
手段と同軸周りに回転可能に配置され、基板の回転に伴
って飛散した処理液を前記カップ側へ案内する傾斜案内
板を備えた処理液案内手段と、前記処理液案内手段を回
転駆動する第２の回転駆動手段と、前記第２の回転駆動
手段の回転速度を処理液の種類に応じて変える制御手段
と、を有するものである。

【０００８】また、請求項２に記載の発明は、請求項１
に記載の基板処理装置において、前記カップは、内側に
薬液回収用のカップを、外側にリンス液回収用のカップ
を、それぞれ配置して構成され、かつ、前記制御手段
は、基板の表面に薬液を供給して処理するときは、前記
処理液案内手段を低速回転させる一方、基板の表面にリ
ンス液を供給して処理するときは、前記処理液案内手段
を高速回転させるものである。

【０００９】

【作用】請求項１に記載の発明の作用は次のとおりであ
る。基板保持手段に基板が水平姿勢で保持されると、第
１の回転駆動手段が基板保持手段を回転駆動する。そし
て、回転している基板の表面に処理液を供給する。基板
保持手段が回転するとともに、第２の回転駆動手段が処
理液案内手段を回転駆動する。制御手段は、このときの
処理液案内手段の回転速度を、基板の表面に供給される
処理液の種類に応じた速度に設定する。基板の表面に処
理液が供給されると、この処理液は基板の回転に伴って
飛散する。飛散した処理液は処理液案内手段の傾斜案内
板によってカップ側へ導かれる。このとき処理液案内手
段は処理液の種類に応じた回転速度で駆動されているの
で、傾斜案内板で導かれる処理廃液に、処理液案内手段
の回転速度に応じた遠心力が加わる。すなわち、処理液
案内手段の回転速度が速い場合、処理廃液に強い遠心力
が作用して回転中心から遠い側へ追いやられる結果、処
理廃液は外側に配置されたカップで集められて回収され
る。一方、処理液案内手段の回転速度が遅い場合、処理
廃液に作用する遠心力は小さいので、処理廃液は回転中
心に近い側のカップに流入して回収される。

【００１０】基板の回転処理中、処理液が飛散すること
によって、カップ内に処理液のミストが発生する。この
処理液のミストは、処理液案内手段が回転することによ
って生じる外方向への気流の流れに乗って強制排出され
るので、カップ内は速やかに清浄雰囲気に戻る。したが
って、先の回転処理によって発生した処理液雰囲気に基
板の表面が曝されて悪影響を受けることがない。

【００１１】請求項２に記載の発明の作用は次のとおり
である。基板の表面に、例えばエッチング液などの薬液
を供給して処理する場合、制御手段は処理液案内手段を
低速回転させる。その結果、基板の回転に伴って飛散し
た薬液の廃液は、低速回転する処理液案内手段によって
外方向へ導かれて、内側の薬液回収用のカップに集めら
れて回収される。一方、基板の表面にリンス液を供給し
て基板を洗浄する場合、制御手段が処理液案内手段を高
速回転させる結果、基板の回転に伴って飛散したリンス
液は、外側のリンス液回収用のカップに集められて回収
される。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施例を説明する。 ＜第１実施例＞図１は本発明の第１実施例に係る基板処
理装置の概略構成を示した断面図である。

【００１３】ここでは、基板Ｗ上にフッ酸溶液などの薬
液を供給して基板Ｗのエッチング処理を行った後、基板
Ｗ上に純水などのリンス液を供給して基板Ｗの洗浄処理
を行う回転処理装置を例に採って説明する。ただし、本
発明はこれに限定されるものでなく、処理液としては、
例えば現像液とそのリンス液などであってもよく、その
種類は任意である。

【００１４】図１中、符号１０は半導体ウエハなどの基
板Ｗを水平姿勢に保持する基板保持手段としてのスピン
チャックである。本実施例では、基板Ｗをスピンチャッ
ク１０上に吸着保持するように構成しているが、基板保
持手段としては、これ以外に、回転台上に設けた複数本
のピンで基板Ｗの裏面を点接触状態で支持するような構
成であってもよい。スピンチャック１０は、第１の回転
駆動手段としてのモータ１１の回転軸１１ａに連結され
て、鉛直軸芯周りに回転駆動される。このスピンチャッ
ク１０の上方に、基板Ｗ上に処理液を供給する処理液供
給手段としてのノズル１２が配備されている。ここで
は、各処理液に共通のノズル１２を用いているが、各処
理液ごとに個別のノズルを用いてもよい。

【００１５】スピンチャック１０の周囲には、基板Ｗに
供給された処理液が基板Ｗの回転に伴って飛散した処理
廃液を集めて回収するためのカップ１３が配備されてい
る。カップ１３は、上部に開口部を有する上カップ１４
と、これに連ねて設けられた下カップ１５とから構成さ
れている。下カップ１５は、スピンチャック１０の回転
軸芯に近い側から順に、カップ内の雰囲気を吸引して排
気するための排気用カップ１６と、基板Ｗの回転に伴っ
て飛散した薬液を集めて回収するための薬液廃液用カッ
プ１７と、飛散したリンス液を集めて回収するためのリ
ンス液廃液用カップ１８とが、同芯状に配置されて構成
されている。排気用カップ１６は排気口１６ａを介して
排気ダクトに、薬液廃液用カップ１７は排液口１７ａを
介して薬液回収ラインに、リンス液廃液用カップ１８は
排液口１８ａを介してリンス液回収ラインに、それぞれ
連通接続されている。

【００１６】スピンチャック１０とカップ１３との中間
位置に、処理液案内手段としてスピンチャック１０と同
軸周りに回転可能に支持された廃液案内機構２０が設け
られている。この廃液案内機構２０は、スピンチャック
１０に保持された基板Ｗの下方位置から外側に向かう下
り傾斜面をもったリング状の内側傾斜案内板２１と、こ
の内側傾斜案内板２１に支持棒２２を介して連結支持さ
れ、内側傾斜案内板２１よりも若干きつい傾斜角度でも
って配備されたリング状の外側傾斜案内板２３とを備え
ている。これらの傾斜案内板２１，２３によって形成さ
れる処理廃液の案内流路２４の出口２４ａが、薬液廃液
用カップ１７とリンス液廃液用カップ１８とを区画する
隔壁１９の上方に臨んでいる。内側傾斜案内板２１は、
モータ１１の回転軸１１ａが内側に挿通された回転筒軸
２５に連結支持されている。この回転筒軸２５は無端ベ
ルト３１を介して、廃液案内機構駆動用の第２の回転駆
動手段としてのモータ３２の回転軸に連結されている。

【００１７】スピンチャック１０の駆動用モータ１１お
よび廃液案内機構２０の駆動用モータ３２は、制御部３
３によって、それぞれの回転速度が制御される。特に、
本実施例の特徴的な構成である廃液案内機構２０の回転
速度制御に関して、制御部３３は、基板Ｗ上に薬液が供
給されているときは、モータ３２を低速回転駆動し、リ
ンス液が供給されているときは、モータ３２を高速回転
駆動するように構成されている。

【００１８】以上のように構成された第１実施例の装置
の動作を図２および図３を参照して説明する。図２は基
板に薬液処理を施すときの薬液の流れを示した断面図、
図３は基板に洗浄処理を施すときのリンス液の流れを示
した断面図である。

【００１９】まず、図２を参照して薬液処理時の動作を
説明する。スピンチャック１０上に基板Ｗが水平姿勢で
吸着保持されると、制御部３３の制御によってモータ１
１がスピンチャック１０を回転駆動する。このときの回
転速度は概ね、数１０〜１００ｒｐｍである。また、制
御部３３は、予め設定された処理シーケンスに従い、基
板Ｗに薬液処理を施すときは、廃液案内機構２０の駆動
用モータ３２を低速度で回転駆動する。このときの廃液
案内機構２０の回転速度は概ね、数１００ｒｐｍであ
る。薬液処理時の廃液案内機構２０の回転速度は、後述
する洗浄処理のときよりも低速度ではあるが、スピンチ
ャック１０の回転速度と同等か、それよりも速い方が好
ましい。この速度関係は後述の洗浄処理のときも同様で
ある。その理由は次のとおりである。

【００２０】基板Ｗの回転処理時に基板Ｗの回転により
外方向へ、ある程度の気流の流れが生じる。この気流に
乗って薬液のミストは外方向へ向かう。このとき、廃液
案内機構２０の回転速度をスピンチャック１０の回転速
度よりも速くしておくと、薬液のミスト雰囲気が更に強
制的に外方向へ押しやられるので、カップ内の薬液ミス
トの排気が促進され、カップ内の清浄性が効果的に維持
されるからである。

【００２１】上記のようにスピンチャック１０と廃液案
内機構２０とを回転駆動した状態で、ノズル１２から基
板Ｗ上へ薬液が供給される。基板Ｗへ供給された薬液は
基板Ｗの回転に伴って外方へ飛散する。飛散した薬液は
廃液案内機構２０の内側傾斜案内板２１と外側傾斜案内
板２３とに案内されて外方へ向かう。このとき廃液案内
機構２０が回転しているので、両傾斜案内板２１，２３
間に流入した薬液に遠心力が加わるが、廃液案内機構２
０は低速回転しているので、薬液に加わる遠心力は比較
的小さい。その結果、両傾斜案内板２１，２３間の案内
流路２４の出口２４ａから流出する薬液の廃液は、出口
２４ａの近傍内側に配置された薬液廃液用カップ１７に
流れ込み、排液口１７ａを介して回収される。

【００２２】上述のように、薬液処理中に廃液案内機構
２０が回転することにより、カップ内には外方向へ向か
う気流が発生する。この外方向への気流に乗って薬液の
ミストが外方向へ押しやられて、排気用カップ１６内に
流入し、排気口１６ａを介して排気される。

【００２３】以上の薬液処理が終わると、スピンチャッ
ク１０に基板Ｗを保持したままで洗浄処理に移る。以
下、図３を参照して説明する。洗浄処理に移ると、制御
部３３の制御により、スピンチャック１０を薬液処理時
よりも高速度、例えば２０００ｒｐｍ程度で回転駆動す
る。これとともに、廃液案内機構２０を薬液処理時の廃
液案内機構２０の回転速度よりも速い速度で回転駆動す
る。ここでは、スピンチャック１０の回転速度よりも若
干速い、２５００〜３０００ｒｐｍで回転駆動する。

【００２４】上記のようにスピンチャック１０と廃液案
内機構２０とを高速度で回転駆動した状態で、ノズル１
２から基板Ｗ上へリンス液が供給される。基板Ｗへ供給
されたリンス液は、上述の薬液処理の場合と同様に、基
板Ｗの回転に伴って外方へ飛散して廃液案内機構２０の
両傾斜案内板２１，２３間に流入し、外方へ案内され
る。このとき廃液案内機構２０が高速回転しているの
で、両傾斜案内板２１，２３間に流入したリンス液に比
較的大きな遠心力が加わる。その結果、両傾斜案内板２
１，２３間の案内流路２４の出口２４ａから流出するリ
ンス液の廃液は、出口２４ａの近傍外側に配置されたリ
ンス液廃液用カップ１８に流れ込み、排液口１８ａを介
して回収される。

【００２５】この洗浄処理のときには、薬液処理のとき
よりも高速度で廃液案内機構２０が回転しているので、
カップ内の雰囲気は更に強力に排気されている。したが
って、先の薬液処理時に発生した薬液ミストの雰囲気が
洗浄処理中にカップ内に残存して基板Ｗに悪影響を及ぼ
すことはなく、基板Ｗは清浄雰囲気内で洗浄処理され
る。

【００２６】＜第２実施例＞図４は本発明の第２実施例
に係る基板処理装置の概略構成を示した断面図である。
図４において、図１中の各符号と同一の符号で示した部
分は、第１実施例と同様に構成されるので、ここでの説
明は省略する。

【００２７】本実施例の特徴は、第１実施例の廃液案内
機構２０とは異なる構成を備えた廃液案内機構４０にあ
る。この廃液案内機構４０は、スピンチャック１０に保
持された基板Ｗの下方位置から外側に向かう下り傾斜面
をもったリング状の内側傾斜案内板４１と、この内側傾
斜案内板４１に支持棒４２を介して連結支持されたリン
グ状の外側傾斜案内板４３とを備えている。外側傾斜案
内板４３は、外側に向かって『く』の字形に張り出した
膨出部４３ａを備え、この膨出部４３ａの屈曲部に沿っ
て多数のリンス液排出口４３ｂが設けられている。外側
傾斜案内板４３の裾部４３ｃは内側上方に若干折り曲げ
られている。内側傾斜案内板４１と外側傾斜案内板４３
の裾部４３ｃとの間隙は、薬液を排出するための排出口
４３ｄであって、薬液廃液用カップ１７に臨んでいる。

【００２８】以上のように構成された第２実施例の装置
の動作を図５および図６を参照して説明する。図５は基
板に薬液処理を施すときの薬液の流れを示した断面図、
図６は基板に洗浄処理を施すときのリンス液の流れを示
した断面図である。

【００２９】まず、図５を参照して薬液処理時の動作を
説明する。第１実施例の場合と同様に、薬液処理のとき
は、スピンチャック１０および廃液案内機構４０を比較
的低速度で回転駆動する。廃液案内機構４０の回転速度
をスピンチャック１０の回転速度と同等、あるいはそれ
以上に設定するのが好ましいことも、第１実施例の場合
と同様である。

【００３０】この状態でノズル１２から薬液が基板Ｗ上
に供給されると、薬液は基板Ｗの回転に伴って外方へ飛
散する。飛散した薬液は廃液案内機構４０の両傾斜案内
板４１，４３に案内されて外方へ向かう。このとき廃液
案内機構４０は低速回転しているので、薬液に加わる遠
心力は比較的小さい。そのため、外方へ案内された薬液
は、外側傾斜案内板４３の膨出部４３ａの奥部分にまで
達することなく、外側傾斜案内板４３の内面および内側
傾斜案内板４１を流下して、薬液排出口４３ｄから薬液
廃液用カップ１７内へ流れ込み、排液口１７ａを介して
回収される。

【００３１】なお、薬液処理中に廃液案内機構４０が回
転することにより、カップ内の薬液のミストが外方向へ
押しやられて排気用カップ１６内に流入し、排気口１６
ａを介して排気されることは第１実施例の場合と同様で
ある。

【００３２】以上の薬液処理が終わると、スピンチャッ
ク１０に基板Ｗを保持したままで洗浄処理に移る。以
下、図６を参照して説明する。洗浄処理に移ると、第１
実施例の場合と同様に、スピンチャック１０と廃液案内
機構４０とを高速度で回転駆動する。この状態で、ノズ
ル１２から基板Ｗ上へリンス液が供給される。基板Ｗへ
供給されたリンス液は、上述の薬液処理の場合と同様
に、基板Ｗの回転に伴って外方へ飛散して廃液案内機構
４０の両傾斜案内板４１，４３間に流入する。このとき
廃液案内機構４０が高速回転しているので、両傾斜案内
板４１，４３間に流入したリンス液に比較的大きな遠心
力が加わる。その結果、外方へ案内された薬液は、外側
傾斜案内板４３の膨出部４３ａの奥部分にまで達し、そ
の部分に形成されたリンス液排出口４３ｂを介して外方
向へ排出される。リンス液排出口４３ｂから噴出したリ
ンス液の廃液はリンス液廃液用カップ１８内へ流れ込
み、排液口１８ａを介して回収される。

【００３３】なお、リンス液処理中に廃液案内機構４０
が高速度で回転しているので、カップ内の雰囲気は更に
強力に排気され、先の薬液処理時に発生した薬液ミスト
の雰囲気が速やかに除去され、清浄雰囲気内で洗浄処理
を行うことができることは、第１実施例の場合と同様で
ある。

【００３４】＜第３実施例＞図７は本発明の第３実施例
に係る基板処理装置の概略構成を示した断面図である。
図７において、図１中の各符号と同一の符号で示した部
分は、第１実施例と同様に構成されるので、ここでの説
明は省略する。

【００３５】本実施例の特徴は、第１、第２の各実施例
の廃液案内機構２０，４０とは異なる構成を備えた廃液
案内機構５０にある。この廃液案内機構５０は、スピン
チャック１０に保持された基板Ｗの下方位置から外側に
向かう下り傾斜面をもったリング状の内側傾斜案内板５
１と、この内側傾斜案内板５１の外側にリング状に配備
された揺動変移可能な多数の外側傾斜案内板５３とを備
えている。図８に示すように、内側傾斜案内板５１に支
持棒５２を介してリング状部材５４が連結支持されてい
る。このリング状部材５４に矩形状の多数の外側傾斜案
内板５３が揺動変移可能に支持され、各々の外側傾斜案
内板５３の端部が重なり合うようになっている。

【００３６】以上のように構成された第３実施例の装置
の動作を図９および図１０を参照して説明する。図９は
基板に薬液処理を施すときの薬液の流れを示した断面
図、図１０は基板に洗浄処理を施すときのリンス液の流
れを示した断面図である。

【００３７】まず、図９を参照して薬液処理時の動作を
説明する。第１，第２実施例の場合と同様に、薬液処理
のときは、スピンチャック１０および廃液案内機構５０
を比較的低速度で回転駆動する。この状態でノズル１２
から薬液が基板Ｗ上に供給されると、薬液は基板Ｗの回
転に伴って外方へ飛散する。飛散した薬液は廃液案内機
構５０の両傾斜案内板５１，５３に案内されて外方へ向
かう。このとき廃液案内機構５０は低速回転しているの
で、各外側傾斜案内板５３に作用する遠心力が小さい。
そのため、各外側傾斜案内板５３の揺動変移角度は小さ
く、各外側傾斜案内板５３は内側の薬液廃液用カップ１
７側に向かう姿勢になっている。また、廃液案内機構５
０が低速回転している関係で、薬液に加わる遠心力も比
較的小さい。その結果、遠心力の作用で外方向へ向かう
薬液は外側傾斜案内板５３の内面および内側傾斜案内板
５１を流下して、薬液廃液用カップ１７内へ流れ込み、
排液口１７ａを介して回収される。

【００３８】なお、薬液処理中に廃液案内機構５０が回
転することにより、カップ内の薬液のミストが外方向へ
押しやられて排気用カップ１６内に流入し、排気口１６
ａを介して排気されることは第１，第２実施例の場合と
同様である。

【００３９】以上の薬液処理が終わると、スピンチャッ
ク１０に基板Ｗを保持したままで洗浄処理に移る。以
下、図１０を参照して説明する。洗浄処理に移ると、第
１，第２実施例の場合と同様に、スピンチャック１０と
廃液案内機構５０とを高速度で回転駆動する。この状態
で、ノズル１２から基板Ｗ上へリンス液が供給される。
基板Ｗへ供給されたリンス液は、上述の薬液処理の場合
と同様に、基板Ｗの回転に伴って外方へ飛散して廃液案
内機構５０の両傾斜案内板５１，５３間に流入する。こ
のとき廃液案内機構５０が高速回転しているので、各外
側傾斜案内板５３に大きな遠心力が作用する。そのた
め、各外側傾斜案内板５３の揺動変移角度は大きくな
り、各外側傾斜案内板５３は外側のリンス液廃液用カッ
プ１８に向かう姿勢になっている。また、廃液案内機構
５０が高速回転している関係で、リンス液液に加わる遠
心力も比較的大きい。その結果、大きな遠心力の作用で
外方向へ向かう薬液は、外側傾斜案内板５３の内面およ
び内側傾斜案内板５１に沿って外方に向かって飛散し
て、リンス液廃液用カップ１８内へ流れ込み、排液口１
８ａを介して回収される。

【００４０】なお、リンス液処理中に廃液案内機構５０
が高速度で回転しているので、カップ内の雰囲気は更に
強力に排気され、先の薬液処理時に発生した薬液ミスト
の雰囲気が速やかに除去され、清浄雰囲気内で洗浄処理
を行うことができることは、第１，第２実施例の場合と
同様である。

【００４１】本発明は上述の各実施例のものに限定され
ず、以下のように変形実施することが可能である。 （１）上述の各実施例では、薬液処理時に廃液案内機構
を低速回転させ、洗浄処理時に廃液案内機構を高速回転
させることにより、薬液廃液を内側の薬液廃液用カップ
に、リンス液廃液を外側のリンス液廃液用カップに導く
ようにした。しかし、本発明はこれに限定されず、薬液
廃液用カップを外側に、リンス液廃液用カップを内側
に、それぞれ配置して、薬液処理時に廃液案内機構を高
速回転させ、洗浄処理時に廃液案内機構を低速回転させ
ることによっても、薬液とリンス液とを分離回収するこ
とはできる。ただし、一般には、基板の回転速度は薬液
処理時は比較的低速で、洗浄処理時は比較的高速である
ので、カップ内の排気をより円滑に行うためには、上述
の各実施例のものが好ましい。

【００４２】（２）上述の各実施例では、薬液とリンス
液の２種類の処理液を分離回収するための装置を例に採
ったが、本発明はこれに限定されず、３種類以上の処理
液の分離回収にも適用することができる。例えば、回転
中心側にから順に、第１処理廃液回収用のカップ、第２
処理廃液回収用のカップ、および第３処理廃液回収用の
カップを、それぞれ同心状に配置し、第１処理液で基板
を回転処理するときは、上記の各実施例で説明したよう
な廃液案内機構を低速度で回転駆動し、第２処理液で基
板を回転処理するときは、廃液案内機構を中速度で回転
駆動し、第３処理液で基板を回転処理するときは、廃液
案内機構を高速度で回転駆動することにより、第１〜第
３処理廃液を各カップで分離回収することができる。

【００４３】（３）上述の各実施例では、廃液案内機構
を回転駆動する機構を廃液案内機構よりも下方位置に配
置して構成したが、本発明はこれに限らず、廃液案内機
構を上方から吊り下げ支持し、この吊り下げ支持機構に
付設された回転駆動機構で廃液案内機構を回転駆動する
ように構成してもよい。

【００４４】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば次の効果を奏する。請求項１に記載の発明によ
れば、処理液案内手段が処理液の種類に応じた速度で回
転することにより、複数種類の処理液がそれぞれのカッ
プに集められて分離回収される。また、処理液案内手段
の回転に伴って発生する外方向への気流によってカップ
内が強制排気されるので、回転処理中に発生した処理液
の雰囲気が速やかに排気解消され、カップ内を清浄雰囲
気に維持することができる。

【００４５】請求項２に記載の発明によれば、薬液処理
時に処理液案内手段を低速回転させ、リンス液処理時に
処理液案内手段を高速回転させることにより、薬液を内
側の薬液回収用のカップで、リンス液を外側のリンス液
回収用のカップで、それぞれ分離回収することができ
る。また、処理液案内手段の回転によってカップ内が強
制排気されるので、リンス処理される基板が薬液雰囲気
に曝されることもない。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１実施例に係る基板処理装置の概略構成を示
す断面図である。

【図２】第１実施例装置で薬液処理を施すときの薬液の
流れを示す断面図である。

【図３】第１実施例装置で洗浄処理を施すときのリンス
液の流れを示す断面図である。

【図４】第２実施例に係る基板処理装置の概略構成を示
す断面図である。

【図５】第２実施例装置で薬液処理を施すときの薬液の
流れを示す断面図である。

【図６】第２実施例装置で洗浄処理を施すときのリンス
液の流れを示す断面図である。

【図７】第３実施例に係る基板処理装置の概略構成を示
す断面図である。

【図８】第３実施例装置の廃液案内機構の構成を示す斜
視図である。

【図９】第３実施例装置で薬液処理を施すときの薬液の
流れを示す断面図である。

【図１０】第３実施例装置で洗浄処理を施すときのリン
ス液の流れを示す断面図である。

【図１１】従来装置の概略構成を示す断面図である。

【符号の説明】

Ｗ…基板 １０…スピンチャック（基板保持手段） １１…モータ（第１の回転駆動手段） １２…ノズル（処理液供給手段） １３…カップ ２０，４０，５０…廃液案内機構 ２１，４１，５１…内側傾斜案内板 ２３，４３，５３…外側傾斜案内板 ３２…モータ（第２の回転駆動手段） ３３…制御部（制御手段）

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板に所定の処理を行なう基板処理装置
   において、 基板を保持する基板保持手段と、 前記基板保持手段を回転駆動する第１の回転駆動手段
   と、 前記基板保持手段に保持された基板の表面に処理液を供
   給する処理液供給手段と、 前記基板保持手段の周囲を囲むように複数個配置され、
   基板の回転に伴って飛散した処理液を種類に応じて回収
   するカップと、 前記基板保持手段と同軸周りに回転可能に配置され、基
   板の回転に伴って飛散した処理液を前記カップ側へ案内
   する傾斜案内板を備えた処理液案内手段と、 前記処理液案内手段を回転駆動する第２の回転駆動手段
   と、 前記第２の回転駆動手段の回転速度を処理液の種類に応
   じて変える制御手段と、 を有することを特徴とする基板処理装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の基板処理装置におい
   て、 前記カップは、内側に薬液回収用のカップを、外側にリ
   ンス液回収用のカップを、それぞれ配置して構成され、 かつ、前記制御手段は、基板の表面に薬液を供給して処
   理するときは、前記処理液案内手段を低速回転させる一
   方、基板の表面にリンス液を供給して処理するときは、
   前記処理液案内手段を高速回転させることを特徴とする
   基板処理装置。