JP2002246301A - 廃液分離回収システム及び廃液分離回収方法 - Google Patents
廃液分離回収システム及び廃液分離回収方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】製品基板を汚染する事なしにホトレジスト廃液
を完全に回収することができ、ホトレジスト廃液の乾燥
によってホトレジスト廃液の回収率が低下してしまうこ
とがなく、ホトレジストの分離回収効率が高くなるよう
にする。 【解決手段】基板２１の周囲に配置され、前記基板２１
から飛散するホトレジスト廃液を受ける第１のカップ１
１と、前記ホトレジスト廃液を蓄積するホトレジスト廃
液溝１９と、前記基板２１から飛散するホトレジスト廃
液を前記ホトレジスト廃液溝１９に導く排気流２４を発
生させる排気手段とを有する。
を完全に回収することができ、ホトレジスト廃液の乾燥
によってホトレジスト廃液の回収率が低下してしまうこ
とがなく、ホトレジストの分離回収効率が高くなるよう
にする。 【解決手段】基板２１の周囲に配置され、前記基板２１
から飛散するホトレジスト廃液を受ける第１のカップ１
１と、前記ホトレジスト廃液を蓄積するホトレジスト廃
液溝１９と、前記基板２１から飛散するホトレジスト廃
液を前記ホトレジスト廃液溝１９に導く排気流２４を発
生させる排気手段とを有する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、廃液分離回収シス
テム及び廃液分離回収方法に関するものである。
テム及び廃液分離回収方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、半導体集積回路の製造工程である
ホトリソ工程において、一般にスピンコータと呼ばれる
ホトレジスト塗布装置を使用してホトレジストを塗布す
るホトレジスト塗布処理が行われる。この場合、ホトレ
ジストを塗布する工程や余分のホトレジストをリンスに
よって洗浄除去する工程において大量の処理廃液が生じ
るため、該処理廃液からホトレジスト液等を分離回収し
て再利用することが望ましい。
ホトリソ工程において、一般にスピンコータと呼ばれる
ホトレジスト塗布装置を使用してホトレジストを塗布す
るホトレジスト塗布処理が行われる。この場合、ホトレ
ジストを塗布する工程や余分のホトレジストをリンスに
よって洗浄除去する工程において大量の処理廃液が生じ
るため、該処理廃液からホトレジスト液等を分離回収し
て再利用することが望ましい。
【０００３】そして、前記ホトレジスト塗布装置におけ
るホトレジスト塗布処理によって生じる各種の廃液を分
離回収する方法としては、例えば、上下方向に多段のカ
ップを備えた構造の廃液分離カップを使用し、かつ、基
板が上下動する機構を使用して各廃液分離カップの位置
に合わせて基板を停止させ、それぞれの位置でホトレジ
スト塗布とリンスによる基板の洗浄とを別々に行ってホ
トレジスト廃液とリンス廃液とを分離させる方式が提供
されている。
るホトレジスト塗布処理によって生じる各種の廃液を分
離回収する方法としては、例えば、上下方向に多段のカ
ップを備えた構造の廃液分離カップを使用し、かつ、基
板が上下動する機構を使用して各廃液分離カップの位置
に合わせて基板を停止させ、それぞれの位置でホトレジ
スト塗布とリンスによる基板の洗浄とを別々に行ってホ
トレジスト廃液とリンス廃液とを分離させる方式が提供
されている。
【０００４】また、このような処理によって廃液分離カ
ップ内で分離されたホトレジスト廃液やリンス廃液など
の各廃液は、それぞれの前記分離カップから別々の廃液
ホースを介して、個別の廃液タンクに収容されて廃液の
分別回収が行われるようになっている。
ップ内で分離されたホトレジスト廃液やリンス廃液など
の各廃液は、それぞれの前記分離カップから別々の廃液
ホースを介して、個別の廃液タンクに収容されて廃液の
分別回収が行われるようになっている。
【０００５】ここで、ホトレジストは基本的に樹脂成分
と希釈するための溶媒とによって構成されているが、前
述されたような方法によって回収されたホトレジスト廃
液は、溶媒が揮発してしまうので、元の状態に比べその
粘度が増加している。この粘度が増加した廃液に再度溶
媒を添加して元の粘度にまで希釈し直すことによってホ
トレジスト廃液は廃棄されることなく再使用することが
できる。なお、このような操作をホトレジスト再生とい
う。
と希釈するための溶媒とによって構成されているが、前
述されたような方法によって回収されたホトレジスト廃
液は、溶媒が揮発してしまうので、元の状態に比べその
粘度が増加している。この粘度が増加した廃液に再度溶
媒を添加して元の粘度にまで希釈し直すことによってホ
トレジスト廃液は廃棄されることなく再使用することが
できる。なお、このような操作をホトレジスト再生とい
う。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来のホトレジストにおいては、廃液分離カップの構造上
の問題から廃液分離カップ内の排気方法が制限され、排
気が十分に行われないので、浮遊する塵埃（じんあい）
が排気とともに排出されずに、基板の裏面に多量に付着
して製品の品質が劣悪化してしまう。
来のホトレジストにおいては、廃液分離カップの構造上
の問題から廃液分離カップ内の排気方法が制限され、排
気が十分に行われないので、浮遊する塵埃（じんあい）
が排気とともに排出されずに、基板の裏面に多量に付着
して製品の品質が劣悪化してしまう。
【０００７】そして、ホトレジスト廃液とリンス廃液と
を分離することによって、廃液分離カップ内でのホトレ
ジスト廃液が乾燥しやすくなり、ホトレジスト廃液中の
溶媒が蒸発することによってレジスト中の樹脂が固化し
易くなってしまう。これにより、廃液分離カップ内での
ホトレジスト廃液の溜まりが助長され、更にホトレジス
ト廃液の廃液タンク内での乾燥による量の目減りによっ
て、ホトレジスト廃液の回収率が低下してしまう。
を分離することによって、廃液分離カップ内でのホトレ
ジスト廃液が乾燥しやすくなり、ホトレジスト廃液中の
溶媒が蒸発することによってレジスト中の樹脂が固化し
易くなってしまう。これにより、廃液分離カップ内での
ホトレジスト廃液の溜まりが助長され、更にホトレジス
ト廃液の廃液タンク内での乾燥による量の目減りによっ
て、ホトレジスト廃液の回収率が低下してしまう。
【０００８】したがって、回収率が低下することによっ
て、ホトレジスト再生時における再生率が低下してしま
うとともに、添加する溶媒を増量することによってホト
レジスト再生のためのコストが高くなってしまう。
て、ホトレジスト再生時における再生率が低下してしま
うとともに、添加する溶媒を増量することによってホト
レジスト再生のためのコストが高くなってしまう。
【０００９】本発明は、前記従来のホトレジスト塗布装
置の問題点を解決して、ホトレジスト廃液を完全に回収
することができ、ホトレジスト廃液の乾燥によってホト
レジスト廃液の回収率が低下してしまうことがなく、ホ
トレジストの分離回収効率の高い廃液分離回収システム
及び廃液分離回収方法を提供することを目的とする。
置の問題点を解決して、ホトレジスト廃液を完全に回収
することができ、ホトレジスト廃液の乾燥によってホト
レジスト廃液の回収率が低下してしまうことがなく、ホ
トレジストの分離回収効率の高い廃液分離回収システム
及び廃液分離回収方法を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】そのために、本発明の廃
液分離回収システムにおいては、基板の周囲に配置さ
れ、前記基板から飛散するホトレジスト廃液を受ける第
１のカップと、前記ホトレジスト廃液を蓄積するホトレ
ジスト廃液溝と、前記基板から飛散するホトレジスト廃
液を前記ホトレジスト廃液溝に導く排気流を発生させる
排気手段とを有する。
液分離回収システムにおいては、基板の周囲に配置さ
れ、前記基板から飛散するホトレジスト廃液を受ける第
１のカップと、前記ホトレジスト廃液を蓄積するホトレ
ジスト廃液溝と、前記基板から飛散するホトレジスト廃
液を前記ホトレジスト廃液溝に導く排気流を発生させる
排気手段とを有する。
【００１１】本発明の他の廃液分離回収システムにおい
ては、さらに、排気孔を備え、前記第１のカップと前記
基板との間に配置され、前記基板から飛散するリンス廃
液を受ける第２のカップと、前記リンス廃液を蓄積する
リンス廃液溝とを有し、前記排気手段は、前記排気流
を、前記排気孔を通じて前記第１のカップ側から前記基
板側に流れるように発生させる。
ては、さらに、排気孔を備え、前記第１のカップと前記
基板との間に配置され、前記基板から飛散するリンス廃
液を受ける第２のカップと、前記リンス廃液を蓄積する
リンス廃液溝とを有し、前記排気手段は、前記排気流
を、前記排気孔を通じて前記第１のカップ側から前記基
板側に流れるように発生させる。
【００１２】本発明の更に他の廃液分離回収システムに
おいては、さらに、前記排気孔の前記基板側に、前記リ
ンス廃液が前記ホトレジスト廃液に混入することを防止
するための液止めを配置する。
おいては、さらに、前記排気孔の前記基板側に、前記リ
ンス廃液が前記ホトレジスト廃液に混入することを防止
するための液止めを配置する。
【００１３】本発明の更に他の廃液分離回収システムに
おいては、さらに、前記第１のカップの内面が前記基板
側に湾曲している。
おいては、さらに、前記第１のカップの内面が前記基板
側に湾曲している。
【００１４】本発明の更に他の廃液分離回収システムに
おいては、さらに、前記第２のカップの、前記第１のカ
ップ側の面が斜面である。
おいては、さらに、前記第２のカップの、前記第１のカ
ップ側の面が斜面である。
【００１５】本発明の更に他の廃液分離回収システムに
おいては、さらに、前記排気流を排気する第１の排気管
を有し、前記第１の排気管に排気弁を配置する。
おいては、さらに、前記排気流を排気する第１の排気管
を有し、前記第１の排気管に排気弁を配置する。
【００１６】本発明の更に他の廃液分離回収システムに
おいては、さらに、前記第１のカップの外側に排気を行
うための第２の排気管を接続する。
おいては、さらに、前記第１のカップの外側に排気を行
うための第２の排気管を接続する。
【００１７】本発明の更に他の廃液分離回収システムに
おいては、さらに、廃液タンクを有し、前記ホトレジス
ト廃液溝に一端が接続され、前記廃液タンクに他端が接
続されている廃液管を有する。
おいては、さらに、廃液タンクを有し、前記ホトレジス
ト廃液溝に一端が接続され、前記廃液タンクに他端が接
続されている廃液管を有する。
【００１８】本発明の更に他の廃液分離回収システムに
おいては、さらに、前記排気流が、前記廃液タンクを外
れて流れる。
おいては、さらに、前記排気流が、前記廃液タンクを外
れて流れる。
【００１９】本発明の更に他の廃液分離回収システムに
おいては、さらに、前記廃液タンクと前記排液管との間
が気密である。
おいては、さらに、前記廃液タンクと前記排液管との間
が気密である。
【００２０】本発明の更に他の廃液分離回収システムに
おいては、さらに、前記廃液タンクは、前記ホトレジス
ト廃液の蒸発を少なくする形状である。
おいては、さらに、前記廃液タンクは、前記ホトレジス
ト廃液の蒸発を少なくする形状である。
【００２１】本発明の更に他の廃液分離回収システムに
おいては、さらに、前記廃液管内に洗浄ノズルを有す
る。
おいては、さらに、前記廃液管内に洗浄ノズルを有す
る。
【００２２】本発明の更に他の廃液分離回収システムに
おいては、さらに、前記廃液タンク内の前記ホトレジス
ト廃液の粘度を制御するシステムを有する。
おいては、さらに、前記廃液タンク内の前記ホトレジス
ト廃液の粘度を制御するシステムを有する。
【００２３】また、本発明の廃液分離回収方法において
は、基板の周囲に、飛散したホトレジストを受ける第１
のカップを配置する工程と、飛散したホトレジストを蓄
積するホトレジスト廃液溝を配置する工程と、前記基板
から飛散するホトレジストを前記ホトレジスト廃液溝に
導く排気流を発生させる工程と、前記基板の前記表面に
ホトレジストを塗布する工程と、前記基板を回転させる
ことによって飛散した前記ホトレジストを、前記第１の
カップで受けて、前記ホトレジスト廃液溝に流す工程と
を有する。
は、基板の周囲に、飛散したホトレジストを受ける第１
のカップを配置する工程と、飛散したホトレジストを蓄
積するホトレジスト廃液溝を配置する工程と、前記基板
から飛散するホトレジストを前記ホトレジスト廃液溝に
導く排気流を発生させる工程と、前記基板の前記表面に
ホトレジストを塗布する工程と、前記基板を回転させる
ことによって飛散した前記ホトレジストを、前記第１の
カップで受けて、前記ホトレジスト廃液溝に流す工程と
を有する。
【００２４】本発明の他の廃液分離回収方法において
は、さらに、排気孔を備え、飛散したリンスを受ける第
２のカップを、前記第１のカップと前記基板との間に配
置する工程と、前記リンスを蓄積するリンス廃液溝を配
置する工程とを有し、前記排気流は、前期排気孔を通じ
て前記第１のカップ側から前記基板側に流れるように発
生させる。
は、さらに、排気孔を備え、飛散したリンスを受ける第
２のカップを、前記第１のカップと前記基板との間に配
置する工程と、前記リンスを蓄積するリンス廃液溝を配
置する工程とを有し、前記排気流は、前期排気孔を通じ
て前記第１のカップ側から前記基板側に流れるように発
生させる。
【００２５】本発明の更に他の廃液分離回収方法におい
ては、さらに、前記排気孔の前記基板側に、前記リンス
が前記ホトレジストに混入することを防止するための液
止めを配置する。
ては、さらに、前記排気孔の前記基板側に、前記リンス
が前記ホトレジストに混入することを防止するための液
止めを配置する。
【００２６】本発明の更に他の廃液分離回収方法におい
ては、さらに、前記第１のカップの内面が前記基板側に
湾曲している。
ては、さらに、前記第１のカップの内面が前記基板側に
湾曲している。
【００２７】本発明の更に他の廃液分離回収方法におい
ては、さらに、前記第２のカップの前記第１のカップ側
の面を斜面とする。
ては、さらに、前記第２のカップの前記第１のカップ側
の面を斜面とする。
【００２８】本発明の更に他の廃液分離回収方法におい
ては、さらに、前記排気流を排気する第１の排気管を備
える工程と、前記第１の排気管に排気弁を配置する工程
とを有する。
ては、さらに、前記排気流を排気する第１の排気管を備
える工程と、前記第１の排気管に排気弁を配置する工程
とを有する。
【００２９】本発明の更に他の廃液分離回収方法におい
ては、さらに、前記第１のカップの外側に第２の排気管
を接続する工程と、前記第２の排気管から排気する工程
とを有する。
ては、さらに、前記第１のカップの外側に第２の排気管
を接続する工程と、前記第２の排気管から排気する工程
とを有する。
【００３０】本発明の更に他の廃液分離回収方法におい
ては、さらに、廃液タンクを配置する工程と、前記ホト
レジスト廃液溝に一端が接続され、前記廃液タンクに他
端が接続されている廃液管を配置する工程とを有する。
ては、さらに、廃液タンクを配置する工程と、前記ホト
レジスト廃液溝に一端が接続され、前記廃液タンクに他
端が接続されている廃液管を配置する工程とを有する。
【００３１】本発明の更に他の廃液分離回収方法におい
ては、さらに、前記排気流を、前記廃液タンクを外れる
ように流す。
ては、さらに、前記排気流を、前記廃液タンクを外れる
ように流す。
【００３２】本発明の更に他の廃液分離回収方法におい
ては、さらに、前記廃液タンクと前記廃液管との間を気
密にする。
ては、さらに、前記廃液タンクと前記廃液管との間を気
密にする。
【００３３】本発明の更に他の廃液分離回収方法におい
ては、さらに、前記廃液タンクは、前記ホトレジスト廃
液の蒸発を少なくする形状のものを選択する。
ては、さらに、前記廃液タンクは、前記ホトレジスト廃
液の蒸発を少なくする形状のものを選択する。
【００３４】本発明の更に他の廃液分離回収方法におい
ては、さらに、前記リンスは、前記ホトレジストの溶媒
と同一の成分である。
ては、さらに、前記リンスは、前記ホトレジストの溶媒
と同一の成分である。
【００３５】本発明の更に他の廃液分離回収方法におい
ては、さらに、前記ホトレジストの溶媒を用いて前記第
１のカップまたは前記第２のカップを洗浄する工程を有
する。
ては、さらに、前記ホトレジストの溶媒を用いて前記第
１のカップまたは前記第２のカップを洗浄する工程を有
する。
【００３６】本発明の更に他の廃液分離回収方法におい
ては、さらに、前記廃液管内に洗浄ノズルを配置する工
程を有する。
ては、さらに、前記廃液管内に洗浄ノズルを配置する工
程を有する。
【００３７】本発明の更に他の廃液分離回収方法におい
ては、さらに、前記廃液タンク内の前記ホトレジストの
粘度を制御するシステムを配置する工程を有することを
特徴とする。
ては、さらに、前記廃液タンク内の前記ホトレジストの
粘度を制御するシステムを配置する工程を有することを
特徴とする。
【００３８】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照しながら詳細に説明する。
て図面を参照しながら詳細に説明する。
【００３９】図１は本発明の第１の実施の形態における
ホトレジスト塗布装置の廃液分離カップの断面図であ
る。
ホトレジスト塗布装置の廃液分離カップの断面図であ
る。
【００４０】ここで、本発明の実施の形態におけるホト
レジスト塗布装置は、一般的には、半導体集積回路の製
造工程であるホトリソ工程においてホトレジスト塗布処
理に使用される、通常、スピンコータと呼ばれる装置で
ある。
レジスト塗布装置は、一般的には、半導体集積回路の製
造工程であるホトリソ工程においてホトレジスト塗布処
理に使用される、通常、スピンコータと呼ばれる装置で
ある。
【００４１】図に示されるように、廃液分離カップは第
１のカップ１１、第２のカップ１２、整流板１３及び下
カップ１４によって構成される。なお、廃液分離カップ
は、半導体基板、再生するホトレジスト廃液等の金属汚
染を考慮して一般的にはフッ素樹脂等の樹脂から成る。
１のカップ１１、第２のカップ１２、整流板１３及び下
カップ１４によって構成される。なお、廃液分離カップ
は、半導体基板、再生するホトレジスト廃液等の金属汚
染を考慮して一般的にはフッ素樹脂等の樹脂から成る。
【００４２】そして、前記第１のカップ１１の内面は、
上部の傾斜部分から側面部分へと形状が変わる部分の内
壁にＲ部分１５を設けて緩やかな面形状にしている。ま
た、第２のカップ１２の斜面部分２５、２６は２段階の
傾斜によって形成されている。
上部の傾斜部分から側面部分へと形状が変わる部分の内
壁にＲ部分１５を設けて緩やかな面形状にしている。ま
た、第２のカップ１２の斜面部分２５、２６は２段階の
傾斜によって形成されている。
【００４３】なお、第２のカップ１２の下部側面部分に
は、全周に複数の排気孔１６が等間隔で開設される。こ
こで、該排気孔１６のそれぞれは、例えば、直径２０．
０〔ｍｍ〕の孔であり、その数は２４個程度である。さ
らに、その内側の全周にリンス止め１７が形成される。
該リンス止め１７は、その下端が前記排気孔１６の下端
から例えば、２．０〔ｍｍ〕程度下に位置するように配
設される。
は、全周に複数の排気孔１６が等間隔で開設される。こ
こで、該排気孔１６のそれぞれは、例えば、直径２０．
０〔ｍｍ〕の孔であり、その数は２４個程度である。さ
らに、その内側の全周にリンス止め１７が形成される。
該リンス止め１７は、その下端が前記排気孔１６の下端
から例えば、２．０〔ｍｍ〕程度下に位置するように配
設される。
【００４４】また、下カップ１４の下部は、仕切り１８
によってホトレジスト廃液溝１９とリンス廃液溝２０と
に仕切られていて、更に第２のカップ１２の下部が仕切
り１８の内側に嵌（は）め合わされる。なお、排気流を
発生させるために図示されない排気手段が配設される。
によってホトレジスト廃液溝１９とリンス廃液溝２０と
に仕切られていて、更に第２のカップ１２の下部が仕切
り１８の内側に嵌（は）め合わされる。なお、排気流を
発生させるために図示されない排気手段が配設される。
【００４５】次に、前記構成の廃液分離カップを有する
ホトレジスト塗布装置における廃液分離回収システムの
動作について説明する。
ホトレジスト塗布装置における廃液分離回収システムの
動作について説明する。
【００４６】まず、図示されない回転軸に取り付けられ
たチャックの上に吸引固定された半導体基板等の基板２
１は、塗布位置２２において、図示されないモータの駆
動力によって回転させられる。そして、図示されないノ
ズルからホトレジストが回転する前記基板２１の上に供
給される。そして、ホトレジストは、遠心力によって基
板２１の全面を覆い、次いで、基板２１のエッジから外
方へ、水平に振り切られて飛散する。外方へ飛散したホ
トレジストは、第１のカップ１１の内壁に当たり、ホト
レジスト廃液となって前記内壁を伝って廃液分離カップ
の下端のホトレジスト廃液溝１９に流れ落ちる。
たチャックの上に吸引固定された半導体基板等の基板２
１は、塗布位置２２において、図示されないモータの駆
動力によって回転させられる。そして、図示されないノ
ズルからホトレジストが回転する前記基板２１の上に供
給される。そして、ホトレジストは、遠心力によって基
板２１の全面を覆い、次いで、基板２１のエッジから外
方へ、水平に振り切られて飛散する。外方へ飛散したホ
トレジストは、第１のカップ１１の内壁に当たり、ホト
レジスト廃液となって前記内壁を伝って廃液分離カップ
の下端のホトレジスト廃液溝１９に流れ落ちる。
【００４７】このようにして、ホトレジストの塗布処理
が行われ、それが終了すると、前記チャックは基板２１
がリンス位置２３に到達するまで下降する。そして、ホ
トレジストの塗布処理の場合と同様に、基板２１は回転
させられてリンス処理が行われる。
が行われ、それが終了すると、前記チャックは基板２１
がリンス位置２３に到達するまで下降する。そして、ホ
トレジストの塗布処理の場合と同様に、基板２１は回転
させられてリンス処理が行われる。
【００４８】なお、リンス処理には、基板２１の下面、
すなわち、バックを洗浄するためのノズルを使用するバ
ックリンス処理、又は、針状のノズルを使用して基板２
１の周辺部分を洗浄するエッジリンス処理がある。
すなわち、バックを洗浄するためのノズルを使用するバ
ックリンス処理、又は、針状のノズルを使用して基板２
１の周辺部分を洗浄するエッジリンス処理がある。
【００４９】そして、リンスは、基板２１のエッジから
外方へ、水平に振り切られて飛散する。外方へ飛散した
リンス及びホトレジスト溶液は、第２のカップ１２の内
壁に当たり、リンス廃液となって前記内壁を伝って廃液
分離カップの下端のリンス廃液溝２０に流れ落ちる。
外方へ、水平に振り切られて飛散する。外方へ飛散した
リンス及びホトレジスト溶液は、第２のカップ１２の内
壁に当たり、リンス廃液となって前記内壁を伝って廃液
分離カップの下端のリンス廃液溝２０に流れ落ちる。
【００５０】ここで、前記ホトレジスト廃液溝１９及び
リンス廃液溝２０にはそれぞれ廃液口が１箇所配設され
ていて、該廃液口にはそれぞれ廃液ホースが接続され
る。そして、ホトレジスト廃液及びリンス廃液は、前記
廃液ホースを介してそれぞれ個別の廃液タンクに収納さ
れる。
リンス廃液溝２０にはそれぞれ廃液口が１箇所配設され
ていて、該廃液口にはそれぞれ廃液ホースが接続され
る。そして、ホトレジスト廃液及びリンス廃液は、前記
廃液ホースを介してそれぞれ個別の廃液タンクに収納さ
れる。
【００５１】また、廃液分離カップ内の排気の流れであ
る排気流２４は、廃液分離カップの上部の開口部から第
１のカップ１１と第２のカップ１２との間を通って廃液
分離カップの下方に流れ、第２のカップ１２に配設され
た排気孔１６を抜けてリンス止め１７の下端を通過し、
更に整流板１３と下カップ１４との隙（すき）間を上が
り、最後に下カップ１４の底面の一部に開口している廃
液分離カップ全体の排気口に流れる。
る排気流２４は、廃液分離カップの上部の開口部から第
１のカップ１１と第２のカップ１２との間を通って廃液
分離カップの下方に流れ、第２のカップ１２に配設され
た排気孔１６を抜けてリンス止め１７の下端を通過し、
更に整流板１３と下カップ１４との隙（すき）間を上が
り、最後に下カップ１４の底面の一部に開口している廃
液分離カップ全体の排気口に流れる。
【００５２】これにより、ホトレジストの塗布処理時に
発生するホトレジスト廃液が微少化して浮遊している塵
埃は、前記排気流２４によって廃液分離カップの下方に
流される。また、前記第２のカップ１２の内壁面を流下
するリンス廃液が、前記リンス止め１７に遮られて、排
気孔１６を抜けてホトレジスト廃液溝１９に到達するこ
とがない。したがって、ホトレジスト廃液溝１９内のホ
トレジスト廃液にリンス廃液が混入することがない。な
お、リンス廃液溝２０内のリンス廃液にホトレジスト廃
液である塵埃が混入しても、リンス廃液は、元々、リン
ス及びホトレジスト溶液の混合液であるから、何の問題
も生じることがない。
発生するホトレジスト廃液が微少化して浮遊している塵
埃は、前記排気流２４によって廃液分離カップの下方に
流される。また、前記第２のカップ１２の内壁面を流下
するリンス廃液が、前記リンス止め１７に遮られて、排
気孔１６を抜けてホトレジスト廃液溝１９に到達するこ
とがない。したがって、ホトレジスト廃液溝１９内のホ
トレジスト廃液にリンス廃液が混入することがない。な
お、リンス廃液溝２０内のリンス廃液にホトレジスト廃
液である塵埃が混入しても、リンス廃液は、元々、リン
ス及びホトレジスト溶液の混合液であるから、何の問題
も生じることがない。
【００５３】また、排気流２４は、整流板１３と下カッ
プ１４との隙間を上がり、最後に下カップ１４の底面の
一部に開口している排気口に流れるので、排気口に到達
するまでにホトレジスト廃液やリンス廃液は脱落する。
このため、ホトレジスト廃液やリンス廃液が排気口から
外部へ漏出することがない。
プ１４との隙間を上がり、最後に下カップ１４の底面の
一部に開口している排気口に流れるので、排気口に到達
するまでにホトレジスト廃液やリンス廃液は脱落する。
このため、ホトレジスト廃液やリンス廃液が排気口から
外部へ漏出することがない。
【００５４】このように、本実施の形態においては、第
２のカップ１２の側面に排気孔１６を配設したことによ
り、排気流２４が新たに生じることによって、ホトレジ
ストのスピン塗布時に生じたホトレジスト廃液が微少化
して浮遊している塵埃は、前記排気流２４によって廃液
分離カップの下方に流される。したがって、塵埃がホト
レジストの塗布位置２２の近傍に浮遊し続けることがな
くなり、基板２１の裏面（下側）に回り込んで付着する
のを防止することができる。
２のカップ１２の側面に排気孔１６を配設したことによ
り、排気流２４が新たに生じることによって、ホトレジ
ストのスピン塗布時に生じたホトレジスト廃液が微少化
して浮遊している塵埃は、前記排気流２４によって廃液
分離カップの下方に流される。したがって、塵埃がホト
レジストの塗布位置２２の近傍に浮遊し続けることがな
くなり、基板２１の裏面（下側）に回り込んで付着する
のを防止することができる。
【００５５】一方、排気孔１６の配設に伴ってリンス止
め１７を配設したことによって、リンス廃液はリンス止
め１７の内壁を流れてリンス廃液溝２０に落ちる。ここ
で、リンス止め１７は排気孔１６の下端よりも長く形成
されているので、リンス廃液はリンス止め１７を下から
くぐって回り込み、排気孔１６を通ってホトレジスト廃
液溝１９側に侵入することがない。したがって、ホトレ
ジスト廃液へのリンス廃液の混入が防止され、ホトレジ
スト廃液及びリンス廃液の分離性を完全に確保すること
ができる。
め１７を配設したことによって、リンス廃液はリンス止
め１７の内壁を流れてリンス廃液溝２０に落ちる。ここ
で、リンス止め１７は排気孔１６の下端よりも長く形成
されているので、リンス廃液はリンス止め１７を下から
くぐって回り込み、排気孔１６を通ってホトレジスト廃
液溝１９側に侵入することがない。したがって、ホトレ
ジスト廃液へのリンス廃液の混入が防止され、ホトレジ
スト廃液及びリンス廃液の分離性を完全に確保すること
ができる。
【００５６】また、第１のカップ１１の内壁にＲ部分１
５を設けて緩やかな形状にしていることによって、ホト
レジスト廃液の流れがスムーズになり、ホトレジスト廃
液が付着して溜まりが生じるのを防止することができ
る。
５を設けて緩やかな形状にしていることによって、ホト
レジスト廃液の流れがスムーズになり、ホトレジスト廃
液が付着して溜まりが生じるのを防止することができ
る。
【００５７】次に、本発明の第２の実施の形態について
説明する。なお、第１の実施の形態と同じ構造を有する
ものについては、同じ符号を付与することによってその
説明を省略する。
説明する。なお、第１の実施の形態と同じ構造を有する
ものについては、同じ符号を付与することによってその
説明を省略する。
【００５８】図２は本発明の第２の実施の形態における
ホトレジスト塗布装置の他の廃液分離カップの断面図で
ある。
ホトレジスト塗布装置の他の廃液分離カップの断面図で
ある。
【００５９】この場合、第２のカップ１２の斜面部分２
７を直線状態にしている。このように、前記第１の実施
の形態においては第２のカップ１２の斜面部分２５、２
６は２段階の傾斜によって形成されているが、本実施の
形態のように一直線の斜面形状にしても面上でのホトレ
ジスト廃液の流れが滞ることがなくなるので溜まりを防
止することができる。
７を直線状態にしている。このように、前記第１の実施
の形態においては第２のカップ１２の斜面部分２５、２
６は２段階の傾斜によって形成されているが、本実施の
形態のように一直線の斜面形状にしても面上でのホトレ
ジスト廃液の流れが滞ることがなくなるので溜まりを防
止することができる。
【００６０】このように、廃液分離カップの形状の特徴
によって、ホトレジスト廃液の付着や溜まりによる廃液
分離カップ内の汚れを低減することができ、廃液分離カ
ップの使用寿命を長期化することができる。
によって、ホトレジスト廃液の付着や溜まりによる廃液
分離カップ内の汚れを低減することができ、廃液分離カ
ップの使用寿命を長期化することができる。
【００６１】次に、本発明の第３の実施の形態について
説明する。なお、前記第１及び第２の実施の形態と同じ
構造を有するもの及び同じ動作については、その説明を
省略する。
説明する。なお、前記第１及び第２の実施の形態と同じ
構造を有するもの及び同じ動作については、その説明を
省略する。
【００６２】図３は本発明の第３の実施の形態における
ホトレジスト塗布装置の概略図である。
ホトレジスト塗布装置の概略図である。
【００６３】図に示されるように、装置本体３１の上部
の送風管３２が取り付けられたカバー３３内にホトレジ
スト塗布処理部が形成され、その中に廃液分離カップ３
４が搭載されている。そして、該廃液分離カップ３４内
には半導体基板等の基板３５が、回転軸に取り付けられ
たチャックの上に吸引固定されている。また、前記回転
軸はモータ３６に直結されている。なお、該モータ３６
はコントローラ３７に通信可能に接続され、該コントロ
ーラ３７によって制御される。
の送風管３２が取り付けられたカバー３３内にホトレジ
スト塗布処理部が形成され、その中に廃液分離カップ３
４が搭載されている。そして、該廃液分離カップ３４内
には半導体基板等の基板３５が、回転軸に取り付けられ
たチャックの上に吸引固定されている。また、前記回転
軸はモータ３６に直結されている。なお、該モータ３６
はコントローラ３７に通信可能に接続され、該コントロ
ーラ３７によって制御される。
【００６４】そして、前記廃液分離カップ３４内の底面
にはカップ排気管３８が接続されていて、該カップ排気
管３８の途中にはコントローラ３７によって制御される
排気弁３９が取り付けられている。さらに、該排気弁３
９よりも排気元に近い位置には、手動ダンパ４０が取り
付けられる。
にはカップ排気管３８が接続されていて、該カップ排気
管３８の途中にはコントローラ３７によって制御される
排気弁３９が取り付けられている。さらに、該排気弁３
９よりも排気元に近い位置には、手動ダンパ４０が取り
付けられる。
【００６５】また、カバー３３内の前記廃液分離カップ
３４外側の底面には、第２の排気管４１が接続されてい
る。そして、該第２の排気管４１の途中にも手動ダンパ
４２が取り付けられる。なお、前記第２の排気管４１の
径はカップ排気管３８の径より小さくてもよい。
３４外側の底面には、第２の排気管４１が接続されてい
る。そして、該第２の排気管４１の途中にも手動ダンパ
４２が取り付けられる。なお、前記第２の排気管４１の
径はカップ排気管３８の径より小さくてもよい。
【００６６】次に、前記構成のホトレジスト塗布装置の
動作について説明する。
動作について説明する。
【００６７】まず、送風管３２からカバー３３内には温
湿度制御空気４３が送り込まれている。そして、廃液分
離カップ３４内で行われるホトレジストの塗布処理は、
図示されないノズルからのホトレジストの供給及びモー
タ３６の回転がコントローラ３７によって制御される。
湿度制御空気４３が送り込まれている。そして、廃液分
離カップ３４内で行われるホトレジストの塗布処理は、
図示されないノズルからのホトレジストの供給及びモー
タ３６の回転がコントローラ３７によって制御される。
【００６８】これにより、ホトレジストが基板３５の上
面に供給される供給工程、モータ３６を回転させて基板
３５を回転させることによってホトレジストを基板３５
の全面に行き渡らせるプリスピン工程、ホトレジストを
基板３５のエッジから外方へ水平に振り切らせるメイン
スピン工程、ノズルからリンスが基板３５に供給される
リンス工程、リンスを基板３５のエッジから外方へ水平
に振り切らせるスピン乾燥工程の順に行われる。
面に供給される供給工程、モータ３６を回転させて基板
３５を回転させることによってホトレジストを基板３５
の全面に行き渡らせるプリスピン工程、ホトレジストを
基板３５のエッジから外方へ水平に振り切らせるメイン
スピン工程、ノズルからリンスが基板３５に供給される
リンス工程、リンスを基板３５のエッジから外方へ水平
に振り切らせるスピン乾燥工程の順に行われる。
【００６９】ここで、前記ホトレジスト吐出工程、リン
ス工程、及び、スピン乾燥工程の三つの工程において
は、コントローラ３７からの指令により、排気弁３９が
閉じて、カップ排気管３８からのカップ排気４４の排出
が完全に遮断される。また、プリスピン工程、及び、メ
インスピン工程の二つの工程においては、前記排気弁３
９は全開となり、前記カップ排気管３８からカップ排気
４４が排出される。なお、前記排気弁３９の開閉をどの
工程において行うかは、適宜変更することができる。そ
して、前記排気弁３９の全開時の排気量は、手動ダンパ
４０によってあらかじめ調整される。
ス工程、及び、スピン乾燥工程の三つの工程において
は、コントローラ３７からの指令により、排気弁３９が
閉じて、カップ排気管３８からのカップ排気４４の排出
が完全に遮断される。また、プリスピン工程、及び、メ
インスピン工程の二つの工程においては、前記排気弁３
９は全開となり、前記カップ排気管３８からカップ排気
４４が排出される。なお、前記排気弁３９の開閉をどの
工程において行うかは、適宜変更することができる。そ
して、前記排気弁３９の全開時の排気量は、手動ダンパ
４０によってあらかじめ調整される。
【００７０】一方、第２の排気管４１からは常時、ユニ
ット排気４５が排出される。該ユニット排気４５の量は
手動ダンパ４２によってあらかじめ調整される。そし
て、その排気量は、第２の排気管４１からの排気量が多
すぎて、廃液分離カップ３４内の排気が前記第２の排気
管４１の方へ流出することがないように、カップ排気４
４の排気量よりも少なく設定する。
ット排気４５が排出される。該ユニット排気４５の量は
手動ダンパ４２によってあらかじめ調整される。そし
て、その排気量は、第２の排気管４１からの排気量が多
すぎて、廃液分離カップ３４内の排気が前記第２の排気
管４１の方へ流出することがないように、カップ排気４
４の排気量よりも少なく設定する。
【００７１】さらに、送風管３２から送り込まれる温湿
度制御空気４３がカバー３３内に充満するように、カッ
プ排気４４とユニット排気４５とを合わせた排気量は、
温湿度制御空気４３の送風量よりも少なくする。
度制御空気４３がカバー３３内に充満するように、カッ
プ排気４４とユニット排気４５とを合わせた排気量は、
温湿度制御空気４３の送風量よりも少なくする。
【００７２】このように、本実施の形態においては、ホ
トレジストの塗布処理の工程の中で、プリスピン工程及
びメインスピン工程の時だけ排気弁３９を開けてカップ
排気４４を引くようにしているので、廃液分離カップ３
４内に溜まったり廃液分離カップ３４の内壁に付着した
りしているホトレジスト廃液が、排気風によって乾燥す
るのを抑制することができる。
トレジストの塗布処理の工程の中で、プリスピン工程及
びメインスピン工程の時だけ排気弁３９を開けてカップ
排気４４を引くようにしているので、廃液分離カップ３
４内に溜まったり廃液分離カップ３４の内壁に付着した
りしているホトレジスト廃液が、排気風によって乾燥す
るのを抑制することができる。
【００７３】したがって、廃液分離カップ３４内でホト
レジストの樹脂が固化して固着する分量が減少し、廃液
分離カップ３４から円滑に排出される。これにより、廃
液分離カップ３４内のホトレジスト廃液による汚れが軽
減されるので、廃液分離カップ３４の使用寿命を長期化
することができるとともに、廃液分離カップ３４内にお
ける固着が減り廃液性が高まることによって廃液回収の
ロスを低減することができるので、ホトレジスト廃液の
回収を高効率化することができる。
レジストの樹脂が固化して固着する分量が減少し、廃液
分離カップ３４から円滑に排出される。これにより、廃
液分離カップ３４内のホトレジスト廃液による汚れが軽
減されるので、廃液分離カップ３４の使用寿命を長期化
することができるとともに、廃液分離カップ３４内にお
ける固着が減り廃液性が高まることによって廃液回収の
ロスを低減することができるので、ホトレジスト廃液の
回収を高効率化することができる。
【００７４】さらに、レジスト廃液の乾燥の低減によっ
てホトレジスト廃液の高粘度化が抑制されているので、
ホトレジスト廃液を元にしてホトレジストの再生を行う
場合、これに添加する溶媒の量を少なくすることがで
き、再生コストを低くすることができる。なお、前記排
気弁３９によってカップ排気４４を遮断した場合は、ユ
ニット排気４５によってホトレジストの溶剤雰囲気が排
気されるので、溶剤雰囲気がカバー３３の外部に漏洩
（えい）するのを防止することができ、環境の安全性を
確保することができる。
てホトレジスト廃液の高粘度化が抑制されているので、
ホトレジスト廃液を元にしてホトレジストの再生を行う
場合、これに添加する溶媒の量を少なくすることがで
き、再生コストを低くすることができる。なお、前記排
気弁３９によってカップ排気４４を遮断した場合は、ユ
ニット排気４５によってホトレジストの溶剤雰囲気が排
気されるので、溶剤雰囲気がカバー３３の外部に漏洩
（えい）するのを防止することができ、環境の安全性を
確保することができる。
【００７５】次に、本発明の第４の実施の形態について
説明する。なお、前記第１〜第３の実施の形態と同じ構
造を有するもの及び同じ動作については、その説明を省
略する。
説明する。なお、前記第１〜第３の実施の形態と同じ構
造を有するもの及び同じ動作については、その説明を省
略する。
【００７６】図４は本発明の第４の実施の形態における
ホトレジスト塗布装置の廃液系統の概略図である。
ホトレジスト塗布装置の廃液系統の概略図である。
【００７７】図に示されるように、廃液分離カップ３４
内の底面には廃液管５１の上端が接続されていて、該廃
液管５１の下端は装置本体３１内に配設された廃液タン
ク５２に、接合面５３を介して接続される。ここで、前
記廃液管５１の長さは極力短くする。そして、前記廃液
タンク５２に排気管は接続されず、廃液管５１と廃液タ
ンク５２との接合面５３の気密性を高くすることによっ
て、廃液タンク５２内の密閉性を保つことができるよう
な構造とする。
内の底面には廃液管５１の上端が接続されていて、該廃
液管５１の下端は装置本体３１内に配設された廃液タン
ク５２に、接合面５３を介して接続される。ここで、前
記廃液管５１の長さは極力短くする。そして、前記廃液
タンク５２に排気管は接続されず、廃液管５１と廃液タ
ンク５２との接合面５３の気密性を高くすることによっ
て、廃液タンク５２内の密閉性を保つことができるよう
な構造とする。
【００７８】また、前記廃液管５１の内径は、例えば、
１０．０〔ｍｍ〕以下程度の小さいものとする。ただ
し、廃液管５１の内径が小さすぎて廃液されたホトレジ
スト廃液が廃液管５１内に詰まることがない程度のもの
とする。さらに、廃液タンク５２は全容量を少なくし、
その形状は直径の小さい、例えば、円筒形状や角筒形状
のようなものとする。
１０．０〔ｍｍ〕以下程度の小さいものとする。ただ
し、廃液管５１の内径が小さすぎて廃液されたホトレジ
スト廃液が廃液管５１内に詰まることがない程度のもの
とする。さらに、廃液タンク５２は全容量を少なくし、
その形状は直径の小さい、例えば、円筒形状や角筒形状
のようなものとする。
【００７９】次に、前記構成のホトレジスト塗布装置の
動作について説明する。
動作について説明する。
【００８０】まず、廃液分離カップ３４内におけるホト
レジスト塗布の処理によって生じたホトレジスト廃液５
４は、廃液分離カップ３４内から廃液管５１を通って排
出され、廃液タンク５２内に回収される。そして、該廃
液タンク５２内のホトレジスト廃液５４が規定の量に達
すると、前記廃液タンク５２は別の空の廃液タンク５２
に取り替えられるようになっている。
レジスト塗布の処理によって生じたホトレジスト廃液５
４は、廃液分離カップ３４内から廃液管５１を通って排
出され、廃液タンク５２内に回収される。そして、該廃
液タンク５２内のホトレジスト廃液５４が規定の量に達
すると、前記廃液タンク５２は別の空の廃液タンク５２
に取り替えられるようになっている。
【００８１】なお、前記廃液タンク５２内のホトレジス
ト廃液５４から自然に揮発した溶剤雰囲気が前記廃液管
５１を抜けて廃液分離カップ３４まで逆流する場合に
は、廃液分離カップ３４内の底面に接続されたカップ排
気管３８（図３）から排気される。
ト廃液５４から自然に揮発した溶剤雰囲気が前記廃液管
５１を抜けて廃液分離カップ３４まで逆流する場合に
は、廃液分離カップ３４内の底面に接続されたカップ排
気管３８（図３）から排気される。
【００８２】このように、本実施の形態においては、廃
液タンク５２に排気管は接続されておらず、かつ、廃液
管５１と廃液タンク５２との接合面５３は気密性の高い
構造になっていて廃液タンク５２内は密閉状態である。
このため、溶媒雰囲気が外部に漏洩する危険はなく、ま
た、廃液タンク５２内を排気しないことによって、その
中のホトレジスト廃液５４の乾燥を抑制することができ
る。
液タンク５２に排気管は接続されておらず、かつ、廃液
管５１と廃液タンク５２との接合面５３は気密性の高い
構造になっていて廃液タンク５２内は密閉状態である。
このため、溶媒雰囲気が外部に漏洩する危険はなく、ま
た、廃液タンク５２内を排気しないことによって、その
中のホトレジスト廃液５４の乾燥を抑制することができ
る。
【００８３】したがって、従来のように、廃液タンク５
２にホトレジスト廃液５４の溶媒雰囲気を強制排気して
外部への漏洩を防止するための排気管が配設されていな
いので、廃液タンク５２内のホトレジスト廃液５４から
溶媒雰囲気が自然に揮発するのを加速的に助長し、ホト
レジスト廃液５４の粘度の増加を招くようなことがな
い。
２にホトレジスト廃液５４の溶媒雰囲気を強制排気して
外部への漏洩を防止するための排気管が配設されていな
いので、廃液タンク５２内のホトレジスト廃液５４から
溶媒雰囲気が自然に揮発するのを加速的に助長し、ホト
レジスト廃液５４の粘度の増加を招くようなことがな
い。
【００８４】また、自然に揮発する溶媒雰囲気が廃液分
離カップ３４に逆流するのは、廃液管５１の径を極小に
することによって制限することができるとともに、廃液
管５１の径が小さく、かつ、長さが短いことによって、
廃液分離カップ３４から排出されるホトレジスト廃液５
４の廃液管５１内における空気との接触を少なくするこ
とができるので、廃液の乾燥化を抑制することもでき
る。
離カップ３４に逆流するのは、廃液管５１の径を極小に
することによって制限することができるとともに、廃液
管５１の径が小さく、かつ、長さが短いことによって、
廃液分離カップ３４から排出されるホトレジスト廃液５
４の廃液管５１内における空気との接触を少なくするこ
とができるので、廃液の乾燥化を抑制することもでき
る。
【００８５】さらに、廃液タンク５２の容量を少なくす
ることによって、ホトレジスト廃液５４が廃液タンク５
２内に溜まっている時間を短くして溶剤の揮発を時間的
に抑え、かつ、廃液タンク５２の形状を小径の筒形にす
ることによって、廃液タンク５２中に溜まったホトレジ
スト廃液５４の液面５６の表面積が小さくなって空気と
の接触面積が小さくなるので、溶媒の揮発を抑制するこ
とができる。
ることによって、ホトレジスト廃液５４が廃液タンク５
２内に溜まっている時間を短くして溶剤の揮発を時間的
に抑え、かつ、廃液タンク５２の形状を小径の筒形にす
ることによって、廃液タンク５２中に溜まったホトレジ
スト廃液５４の液面５６の表面積が小さくなって空気と
の接触面積が小さくなるので、溶媒の揮発を抑制するこ
とができる。
【００８６】したがって、ホトレジスト廃液５４の溶媒
の揮発が抑制されるので、廃液タンク５２内で高粘度化
してしまうのを抑制することができる。また、使用前の
元のホトレジストに極めて近い状態のホトレジスト廃液
５４を回収することができるので、このホトレジスト廃
液５４を使用してのホトレジストの再生作業をより容易
に行うことができる。
の揮発が抑制されるので、廃液タンク５２内で高粘度化
してしまうのを抑制することができる。また、使用前の
元のホトレジストに極めて近い状態のホトレジスト廃液
５４を回収することができるので、このホトレジスト廃
液５４を使用してのホトレジストの再生作業をより容易
に行うことができる。
【００８７】次に、本発明の第５の実施の形態について
説明する。なお、前記第１〜第４の実施の形態と同じ構
造を有するもの及び同じ動作については、その説明を省
略する。
説明する。なお、前記第１〜第４の実施の形態と同じ構
造を有するもの及び同じ動作については、その説明を省
略する。
【００８８】本実施の形態においては、廃液タンク５２
を使用せずに、廃液管５１はそのまま装置外に延長して
集中配管等を介して、直接装置外に排出する。この場
合、廃液管５１が長くなるので、該廃液管５１の径をよ
り小さくして廃液管５１内におけるホトレジスト廃液５
４の乾燥を抑えるようにする。
を使用せずに、廃液管５１はそのまま装置外に延長して
集中配管等を介して、直接装置外に排出する。この場
合、廃液管５１が長くなるので、該廃液管５１の径をよ
り小さくして廃液管５１内におけるホトレジスト廃液５
４の乾燥を抑えるようにする。
【００８９】また、廃液管５１に十分な傾斜を形成し、
かつ、廃液管５１の接続部の数を少なくして廃液管５１
内に凹凸が生じるような箇所を減らすことによって、ホ
トレジスト廃液５４が円滑に排出され、回収ロスや高粘
度化などの品質の変化もなくホトレジストの再生時の復
元性が高いホトレジスト廃液５４を回収することができ
る。
かつ、廃液管５１の接続部の数を少なくして廃液管５１
内に凹凸が生じるような箇所を減らすことによって、ホ
トレジスト廃液５４が円滑に排出され、回収ロスや高粘
度化などの品質の変化もなくホトレジストの再生時の復
元性が高いホトレジスト廃液５４を回収することができ
る。
【００９０】次に、本発明の第６の実施の形態について
説明する。なお、前記第１〜第５の実施の形態と同じ構
造を有するもの及び同じ動作については、その説明を省
略する。
説明する。なお、前記第１〜第５の実施の形態と同じ構
造を有するもの及び同じ動作については、その説明を省
略する。
【００９１】本実施の形態においては、リンスとしてホ
トレジストを希釈する溶媒と同一の溶媒を使用する。
トレジストを希釈する溶媒と同一の溶媒を使用する。
【００９２】これにより、ホトレジスト廃液５４やリン
ス廃液にホトレジストのパターニング性能を変化させて
しまう可能性がある不純物が混入することがない。した
がって、ホトレジスト廃液５４の粘度を調整するだけで
ホトレジストとして再利用することができる。
ス廃液にホトレジストのパターニング性能を変化させて
しまう可能性がある不純物が混入することがない。した
がって、ホトレジスト廃液５４の粘度を調整するだけで
ホトレジストとして再利用することができる。
【００９３】また、廃液分離カップ３４、廃液管５１等
の内壁におけるホトレジストの樹脂成分の固化は、ホト
レジストを希釈する溶媒と同一の溶媒であるリンスで防
止することができる。
の内壁におけるホトレジストの樹脂成分の固化は、ホト
レジストを希釈する溶媒と同一の溶媒であるリンスで防
止することができる。
【００９４】次に、本発明の第７の実施の形態について
説明する。なお、前記第１〜第６の実施の形態と同じ構
造を有するもの及び同じ動作については、その説明を省
略する。
説明する。なお、前記第１〜第６の実施の形態と同じ構
造を有するもの及び同じ動作については、その説明を省
略する。
【００９５】本実施の形態においては、ホトレジストを
希釈する溶媒と同一の溶媒で廃液分離カップ３４内を洗
浄して、該廃液分離カップ３４の壁面に付着しているホ
トレジスト廃液５４等を洗浄除去する。なお、洗浄に使
用した溶媒の廃液は、ホトレジスト廃液５４やリンス廃
液等と混合されて排出される。
希釈する溶媒と同一の溶媒で廃液分離カップ３４内を洗
浄して、該廃液分離カップ３４の壁面に付着しているホ
トレジスト廃液５４等を洗浄除去する。なお、洗浄に使
用した溶媒の廃液は、ホトレジスト廃液５４やリンス廃
液等と混合されて排出される。
【００９６】このように、ホトレジストを希釈する溶媒
と同一の溶媒を使用して廃液分離カップ３４内を洗浄す
るので、ホトレジスト廃液５４やリンス廃液にホトレジ
ストのパターニング性能を変化させてしまう可能性があ
る不純物が混入することがない。したがって、ホトレジ
スト廃液５４の粘度を調整するだけでホトレジストとし
て再利用することができる。
と同一の溶媒を使用して廃液分離カップ３４内を洗浄す
るので、ホトレジスト廃液５４やリンス廃液にホトレジ
ストのパターニング性能を変化させてしまう可能性があ
る不純物が混入することがない。したがって、ホトレジ
スト廃液５４の粘度を調整するだけでホトレジストとし
て再利用することができる。
【００９７】また、廃液分離カップ３４、廃液管５１等
の内壁におけるホトレジストの樹脂成分の固化は、ホト
レジストを希釈する溶媒と同一の溶媒であるリンスで防
止することができる。
の内壁におけるホトレジストの樹脂成分の固化は、ホト
レジストを希釈する溶媒と同一の溶媒であるリンスで防
止することができる。
【００９８】次に、本発明の第８の実施の形態について
説明する。なお、前記第１〜第７の実施の形態と同じ構
造を有するもの及び同じ動作については、その説明を省
略する。
説明する。なお、前記第１〜第７の実施の形態と同じ構
造を有するもの及び同じ動作については、その説明を省
略する。
【００９９】本実施の形態においては、ホトレジスト塗
布装置の廃液系統の廃液管５１の内面を洗浄するための
洗浄ノズルを廃液管５１内に配設する。そして、前記洗
浄ノズルから溶媒を噴出して廃液管５１内を洗浄する。
布装置の廃液系統の廃液管５１の内面を洗浄するための
洗浄ノズルを廃液管５１内に配設する。そして、前記洗
浄ノズルから溶媒を噴出して廃液管５１内を洗浄する。
【０１００】このように、洗浄ノズルを廃液管５１内に
配設して、廃液管５１内を洗浄するので、廃液管５１の
内壁に付着するホトレジストの樹脂成分を除去すること
ができ、廃液管５１が閉塞することがない。
配設して、廃液管５１内を洗浄するので、廃液管５１の
内壁に付着するホトレジストの樹脂成分を除去すること
ができ、廃液管５１が閉塞することがない。
【０１０１】次に、本発明の第９の実施の形態について
説明する。なお、前記第１〜第８の実施の形態と同じ構
造を有するもの及び同じ動作については、その説明を省
略する。
説明する。なお、前記第１〜第８の実施の形態と同じ構
造を有するもの及び同じ動作については、その説明を省
略する。
【０１０２】本実施の形態においては、廃液タンク５２
内にオンライン粘度計を配設し、ホトレジスト廃液５４
を希釈する溶媒の量を調節して、ホトレジスト廃液５４
の粘度を元の状態と同等、若干高め、若干低め等の任意
の粘度にすることができるよう制御する。この場合、廃
液分離カップ３４の洗浄のタイミング、液量、洗浄時間
等を制御して、廃液タンク内のホトレジストの粘度を調
節するようになっている。
内にオンライン粘度計を配設し、ホトレジスト廃液５４
を希釈する溶媒の量を調節して、ホトレジスト廃液５４
の粘度を元の状態と同等、若干高め、若干低め等の任意
の粘度にすることができるよう制御する。この場合、廃
液分離カップ３４の洗浄のタイミング、液量、洗浄時間
等を制御して、廃液タンク内のホトレジストの粘度を調
節するようになっている。
【０１０３】このように、廃液タンク内のホトレジスト
の粘度を制御するので、ホトレジスト廃液５４を即座に
容易に再利用することができる。
の粘度を制御するので、ホトレジスト廃液５４を即座に
容易に再利用することができる。
【０１０４】なお、本発明の前記実施の形態は、いずれ
も半導体製造分野以外のスピンコータに対しても適用す
ることができ、ある特性の塗布薬品の分離回収技術にお
いて、その回収効率を大幅に向上することができる。
も半導体製造分野以外のスピンコータに対しても適用す
ることができ、ある特性の塗布薬品の分離回収技術にお
いて、その回収効率を大幅に向上することができる。
【０１０５】そして、本発明は前記実施の形態に限定さ
れるものではなく、本発明の趣旨に基づいて種々変形さ
せることが可能であり、それらを本発明の範囲から排除
するものではない。
れるものではなく、本発明の趣旨に基づいて種々変形さ
せることが可能であり、それらを本発明の範囲から排除
するものではない。
【０１０６】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、廃液分離回収システムにおいては、基板の周囲に
配置され、前記基板から飛散するホトレジスト廃液を受
ける第１のカップと、前記ホトレジスト廃液を蓄積する
ホトレジスト廃液溝と、前記基板から飛散するホトレジ
スト廃液を前記ホトレジスト廃液溝に導く排気流を発生
させる排気手段とを有する。
れば、廃液分離回収システムにおいては、基板の周囲に
配置され、前記基板から飛散するホトレジスト廃液を受
ける第１のカップと、前記ホトレジスト廃液を蓄積する
ホトレジスト廃液溝と、前記基板から飛散するホトレジ
スト廃液を前記ホトレジスト廃液溝に導く排気流を発生
させる排気手段とを有する。
【０１０７】この場合、塵埃がホトレジストの塗布位置
近傍に浮遊し続けることがなくなり、基板の裏面に回り
込んで付着するのを防止することができる。
近傍に浮遊し続けることがなくなり、基板の裏面に回り
込んで付着するのを防止することができる。
【０１０８】他のホトレジスト塗布装置における廃液分
離回収システムにおいては、さらに、排気孔を備え、前
記第１のカップと前記基板との間に配置され、前記基板
から飛散するリンス廃液を受ける第２のカップと、前記
リンス廃液を蓄積するリンス廃液溝とを有し、前記排気
手段は、前記排気流を、前記排気孔を通じて前記第１の
カップ側から前記基板側に流れるように発生させる。
離回収システムにおいては、さらに、排気孔を備え、前
記第１のカップと前記基板との間に配置され、前記基板
から飛散するリンス廃液を受ける第２のカップと、前記
リンス廃液を蓄積するリンス廃液溝とを有し、前記排気
手段は、前記排気流を、前記排気孔を通じて前記第１の
カップ側から前記基板側に流れるように発生させる。
【０１０９】この場合、ホトレジスト廃液へのリンス廃
液の混入が防止され、ホトレジスト廃液及びリンス廃液
の分離性を完全に確保することができる。
液の混入が防止され、ホトレジスト廃液及びリンス廃液
の分離性を完全に確保することができる。
【０１１０】また、ホトレジスト廃液の付着や溜まりに
よる廃液分離カップ内の汚れを低減することができ、廃
液分離カップの使用寿命を長期化することができる。
よる廃液分離カップ内の汚れを低減することができ、廃
液分離カップの使用寿命を長期化することができる。
【０１１１】さらに、廃液分離カップ内における固着が
減り廃液性が高まることによって廃液回収のロスを低減
することができるので、ホトレジスト廃液の回収を高効
率化することができる。また、回収ロスや高粘度化など
の品質の変化もなくホトレジスト再生時の復元性が高い
ホトレジスト廃液を回収することができる。
減り廃液性が高まることによって廃液回収のロスを低減
することができるので、ホトレジスト廃液の回収を高効
率化することができる。また、回収ロスや高粘度化など
の品質の変化もなくホトレジスト再生時の復元性が高い
ホトレジスト廃液を回収することができる。
【図１】本発明の第１の実施の形態におけるホトレジス
ト塗布装置の廃液分離カップの断面図である。
ト塗布装置の廃液分離カップの断面図である。
【図２】本発明の第２の実施の形態におけるホトレジス
ト塗布装置の他の廃液分離カップの断面図である。
ト塗布装置の他の廃液分離カップの断面図である。
【図３】本発明の第３の実施の形態におけるホトレジス
ト塗布装置の概略図である。
ト塗布装置の概略図である。
【図４】本発明の第４の実施の形態におけるホトレジス
ト塗布装置の廃液系統の概略図である。
ト塗布装置の廃液系統の概略図である。
１１ 第１のカップ １２ 第２のカップ １６ 排気孔 １７ リンス止め １９ ホトレジスト廃液溝 ２０ リンス廃液溝 ２１、３５ 基板 ２４ 排気流 ３４ 廃液分離カップ ３９ 排気弁 ４１ 第２の排気管 ５１ 廃液管 ５２ 廃液タンク ５４ ホトレジスト廃液
フロントページの続き (72)発明者 太田 泰晴 宮崎県宮崎郡清武町大字木原727番地 宮 崎沖電気株式会社内 Ｆターム(参考） 2H025 AA00 AB16 EA05 5F046 JA05 JA06 JA08 JA15
Claims (28)
- 【請求項１】 基板の周囲に配置され、前記基板から飛
散するホトレジスト廃液を受ける第１のカップと、前記
ホトレジスト廃液を蓄積するホトレジスト廃液溝と、前
記基板から飛散するホトレジスト廃液を前記ホトレジス
ト廃液溝に導く排気流を発生させる排気手段とを有する
廃液分離回収システム。 - 【請求項２】 排気孔を備え、前記第１のカップと前記
基板との間に配置され、前記基板から飛散するリンス廃
液を受ける第２のカップと、前記リンス廃液を蓄積する
リンス廃液溝とを有し、前記排気手段は、前記排気流
を、前記排気孔を通じて前記第１のカップ側から前記基
板側に流れるように発生させることを特徴とする請求項
１に記載の廃液分離回収システム。 - 【請求項３】 前記排気孔の前記基板側に、前記リンス
廃液が前記ホトレジスト廃液に混入することを防止する
ための液止めを配置することを特徴とする請求項２に記
載の廃液分離回収システム。 - 【請求項４】 前記第１のカップの内面が前記基板側に
湾曲していることを特徴とする請求項１に記載の廃液分
離回収システム。 - 【請求項５】 前記第２のカップの、前記第１のカップ
側の面が斜面であることを特徴とする請求項２に記載の
廃液分離回収システム。 - 【請求項６】 前記排気流を排気する第１の排気管を有
し、前記第１の排気管に排気弁を配置することを特徴と
する請求項１に記載の廃液分離回収システム。 - 【請求項７】 前記第１のカップの外側に排気を行うた
めの第２の排気管を接続することを特徴とする請求項６
に記載の廃液分離回収システム。 - 【請求項８】 廃液タンクを有し、前記ホトレジスト廃
液溝に一端が接続され、前記廃液タンクに他端が接続さ
れている廃液管を有することを特徴とする請求項１に記
載の廃液分離回収システム。 - 【請求項９】 前記排気流が、前記廃液タンクを外れて
流れることを特徴とする請求項８に記載の廃液分離回収
システム。 - 【請求項１０】 前記廃液タンクと前記排液管との間が
気密であることを特徴とする請求項８に記載の廃液分離
回収システム。 - 【請求項１１】 前記廃液タンクは、前記ホトレジスト
廃液の蒸発を少なくする形状であることを特徴とする請
求項８に記載の廃液分離回収システム。 - 【請求項１２】 前記廃液管内に洗浄ノズルを有するこ
とを特徴とする請求項８に記載の廃液分離回収システ
ム。 - 【請求項１３】 前記廃液タンク内の前記ホトレジスト
廃液の粘度を制御するシステムを有することを特徴とす
る請求項８に記載の廃液分離回収システム。 - 【請求項１４】 基板の周囲に、飛散したホトレジスト
を受ける第１のカップを配置する工程と、飛散したホト
レジストを蓄積するホトレジスト廃液溝を配置する工程
と、前記基板から飛散するホトレジストを前記ホトレジ
スト廃液溝に導く排気流を発生させる工程と、前記基板
の前記表面にホトレジストを塗布する工程と、前記基板
を回転させることによって飛散した前記ホトレジスト
を、前記第１のカップで受けて、前記ホトレジスト廃液
溝に流す工程とを有することを特徴とする廃液分離回収
方法。 - 【請求項１５】 排気孔を備え、飛散したリンスを受け
る第２のカップを、前記第１のカップと前記基板との間
に配置する工程と、前記リンスを蓄積するリンス廃液溝
を配置する工程とを有し、前記排気流は、前期排気孔を
通じて前記第１のカップ側から前記基板側に流れるよう
に発生させることを特徴とする請求項１４に記載の廃液
分離回収方法。 - 【請求項１６】 前記排気孔の前記基板側に、前記リン
スが前記ホトレジストに混入することを防止するための
液止めを配置することを特徴とする請求項１５に記載の
廃液分離回収方法。 - 【請求項１７】 前記第１のカップの内面が前記基板側
に湾曲していることを特徴とする請求項１４に記載の廃
液分離回収方法。 - 【請求項１８】 前記第２のカップの前記第１のカップ
側の面を斜面とすることを特徴とする請求項１５に記載
の廃液分離回収方法。 - 【請求項１９】 前記排気流を排気する第１の排気管を
備える工程と、前記第１の排気管に排気弁を配置する工
程とを有することを特徴とする請求項１４に記載の廃液
分離回収方法。 - 【請求項２０】 前記第１のカップの外側に第２の排気
管を接続する工程と、前記第２の排気管から排気する工
程とを有することを特徴とする請求項１４に記載の廃液
分離回収方法。 - 【請求項２１】 廃液タンクを配置する工程と、前記ホ
トレジスト廃液溝に一端が接続され、前記廃液タンクに
他端が接続されている廃液管を配置する工程とを有する
ことを特徴とする請求項１４に記載の廃液分離回収方
法。 - 【請求項２２】 前記排気流を、前記廃液タンクを外れ
るように流すことを特徴とする請求項２１に記載の廃液
分離回収方法。 - 【請求項２３】 前記廃液タンクと前記廃液管との間を
気密にすることを特徴とする請求項２１に記載の廃液分
離回収方法。 - 【請求項２４】 前記廃液タンクは、前記ホトレジスト
廃液の蒸発を少なくする形状のものを選択することを特
徴とする請求項２１に記載の廃液分離回収方法。 - 【請求項２５】 前記リンスは、前記ホトレジストの溶
媒と同一の成分であることを特徴とする請求項１５に記
載の廃液分離回収方法。 - 【請求項２６】 前記ホトレジストの溶媒を用いて前記
第１のカップまたは前記第２のカップを洗浄する工程を
有することを特徴とする請求項１４及び１５に記載の廃
液分離回収方法。 - 【請求項２７】 前記廃液管内に洗浄ノズルを配置する
工程を有することを特徴とする請求項２１に記載の廃液
分離回収方法。 - 【請求項２８】 前記廃液タンク内の前記ホトレジスト
の粘度を制御するシステムを配置する工程を有すること
を特徴とする請求項１４に記載の廃液分離回収方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001044540A JP4531998B2 (ja) | 2001-02-21 | 2001-02-21 | 廃液分離回収システム及び廃液分離回収方法 |
| US09/968,629 US6572701B2 (en) | 2001-02-21 | 2001-10-02 | System for separating and recovering waste fluid and spin coater |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001044540A JP4531998B2 (ja) | 2001-02-21 | 2001-02-21 | 廃液分離回収システム及び廃液分離回収方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002246301A true JP2002246301A (ja) | 2002-08-30 |
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ID=18906515
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001044540A Expired - Fee Related JP4531998B2 (ja) | 2001-02-21 | 2001-02-21 | 廃液分離回収システム及び廃液分離回収方法 |
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