JP3793894B2 - 液晶表示装置の基板の洗滌装置及びその洗滌方法 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は液晶表示装置の基板の洗滌装置及び方法に関するものであり、より詳細には基板を洗滌及び乾燥させることにおいて、基板の洗滌時に排気圧の調節を円滑に実行させることができる液晶表示装置の基板の洗滌装置及びこれを利用した基板の洗滌方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
一般に、液晶表示装置の製造工程は成膜とフォトリソグラフィによって下部ガラス基板に微細なパターンを形成するアレイ工程と、前記下部ガラス基板とカラーフィルター基板である上部ガラス基板を付着して液晶を注入するセル工程がある。ここで、洗滌工程はこのような諸工程で基板上の有害異物を除去するための工程であり、全工程の約20ないし30%を占めて、各工程で除去しなければならない異物の種類も微細であるが異なるために洗滌装置の構成も若干は異にする。
【0003】
このような洗滌装置には基板をカセット単位で処理するバッチ方式と、基板を1枚ずつ洗浄する枚葉方式があるが、前記枚葉方式は基板を数個ずつ搬送してブラシや超音波などを使用して洗滌し、エアーナイフまたはスピンドライを使用して乾燥させるものであり、基板の大型化に有利な方式である。
【0004】
図1は従来技術による基板の洗滌装置及び方法を説明するための図面であり、スピンドライユニットを具備した基板の洗滌装置の概略的な断面図である。
【0005】
従来のスピンドライユニット10は、図1に図示されたように、基板14を回転させる回転装置12が配置されたスピンドライ用のカップ15と、スピンドライ用のカップ15の下端に設置されて回転される基板14から排出される異物及び化学薬品または水分が外部に排出される排気ダクト18と、排気ダクト18に設置されて排気量を調節するための排気ダンパーで構成される。
【0006】
以下で前記構成されたスピンドライユニットが具備された基板の洗滌装置及び方法を説明する。
まず、所定の回転装置12上に基板14が置かれて回転するようになれば前記基板14上の異物が遠心力及び空気の流れにより常にオープンされている排気ダンパー16を通じて排気ダクト18に排出される。
【0007】
図2は従来技術による液晶表示装置の基板の洗滌装置において、その使用例を図示した図面である。
具体的な使用例は図2に図示されたように、基板の洗滌装備は総9個であり、各装備当たりスピンドライユニットが3個が連結されていて、スピンドライユニットの総数は27個である。前記27個のスピンドライユニットはメインダクト20に皆連結されて各スピンドライユニットから排出される排気が前記メインダクト20を通じて外部大気に排出される。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、従来のスピンドライユニットを使用する液晶表示装置の基板の洗滌装置及び方法は次のような問題点がある。
【0009】
最近、液晶パネルが大型化されながらそれによってスピンドライユニットの回転速度が速くなることによって基板上の異物が非常に大きい遠心力を受けるようになって、異物が上昇気流に乗ってスピンドライユニットの壁にぶつかって再び基板上に戻ってくる比率が大きくなる。これを解決するためには外部からの空気吸入量が多くなければならず、この結果、基板の洗滌時に多くの量の排気が必要になる。逆に、排気量が不足するようになれば、すなわち、各ユニットの排気圧が不足するようになれば、詳述したように基板のスピンドライ工程時に遠心力による上昇気流のために工程上の不良発生可能性が高まるようになるという問題点がある。
【0010】
したがって、本発明は前記従来技術の問題点を解決するために案出されたものであり、スピンドライユニットのノーマルオープンモードをシグナル変更及びレシピー変更を通じてノーマルクローズモードに変えて少ない量の排気量を使用しても装備内のダウンフローを強化して原価低減及び工程マージン向上を図ることができる液晶表示装置の基板の洗滌装置を提供することを目的とする。
【0011】
本発明の他の目的はスピンドライユニットのノーマルオープンモードをシグナル変更及びレシピー変更を通じてノーマルクローズモードに変えて少ない量の排気量を使用しても装備内のダウンフローを強化して原価低減及び工程マージンの向上を図ることができる液晶表示装置の基板の洗滌方法を提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するための本発明による液晶表示装置の基板の洗滌装置は、基板を回転させる回転装置が配置されたスピンドライ用のカップと、スピンドライ用のカップの外郭に設置され、空気と共に前記回転される基板から排出される異物が吸入される空気吸入管と、空気吸入管から吸入された空気及び異物を外部に排気させるトラップと、トラップにマニュアルダンパー及びオートダンパーがそれぞれ別個に設置される事により、トラップ内の排気圧を調節することができる排気圧調節部と、トラップに設置されて回転される基板から排出される化学薬品や水分を外部に排出させるドレンを含むことを特徴とする。
【0013】
前記特徴を有した液晶表示装置の基板の洗滌装置及び方法は、請求項1の基板の洗滌装置を提供する段階と、回転装置に基板をロードする段階と、マニュアルダンパー手動操作で閉鎖された時、基板が前記回転装置にロードされて洗滌工程が実行される場合にのみオートダンパーが自動操作でオープンされ、トラップ内の排気が行なわれる段階を含むことを特徴とする。
【0014】
以上のような本発明の内容は、次に参照する本発明の実施の形態に対する以下の説明から明確になるであろう。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下、本発明による液晶表示装置の基板の洗滌装置及び方法を、添付した図面を参照して詳細に説明する。
図3は本発明による基板の洗滌装置及びこれを利用した基板の洗滌方法を説明するための図面であり、スピンドライユニットを具備した基板の洗滌装置の概略的な断面図である。
【0016】
本発明による液晶表示装置の基板の洗滌装置は、基板の洗滌及び乾燥のために一連の装置で構成されたスピンドライユニット100を使用する。
【0017】
スピンドライユニット100は、図3に図示されたように、基板110を回転させる回転装置120が配置されたスピンドライ用のカップ150と、スピンドライ用のカップ150の外郭に設置されて空気と共に回転される基板110から排出される異物が吸入される空気吸入管130と、空気吸入管130から吸入された空気及び異物を外部に排気させるミストトラップ140と、ミストトラップ140に設置されてミストトラップ140内の排気圧を調節するそれぞれのマニュアルダンパー160及びオートダンパー170と、ミストトラップ140に設置されて回転される基板110から排出される化学薬品や水分を外部に排出させるドレン180で構成される。この時、前記マニュアルダンパー160は手動操作で開閉が制御され、前記オートダンパー170は基板110が回転装置120にロードされて洗滌工程が実行される場合のみにオープンされるようにセッティングされる。
【0018】
一方、前記オートダンパー170の部位は排気を外部に流出させるためのメインダクト(図示せず)に連結されている。
【0019】
前記構成を有した液晶表示装置の基板の洗滌装置及び方法を説明すると次の通りである。
【0020】
図3に図示されたように、まず、前記スピンドライ用のカップ150内に配置される所定の回転装置120上に基板110載せた後に、前記回転装置により前記基板110を回転させれば、基板の洗滌時に使用した化学薬品または水分と、前記基板110の表面に存在する多様な異物らが遠心力及び前記空気吸入130に吸入される空気の流れにより前記ミストトラップ140内に流入される。
【0021】
前記ミストトラップ140の内部には前記基板110の表面に埋めていた異物と基板の洗滌時に使用した化学薬品等の多様な物質らが混在されているが、ここで、化学薬品や水分のような液体状態の異物は前記ミストトラップ140の下部に設置されたドレン180を経由して外部に排出される。
【0022】
一方、前記ミストトラップ140内に流入される異物は前記マニュアルダンパー160とオートダンパー170を経由して外部に排出される。ここで、前記マニュアルダンパー160は必要によって手動で開閉を制御することができ、前記オートダンパー170は平常には閉鎖された状態であり、基板110が回転装置120にロードされて洗滌工程が実行される場合のみにオープンされるようにセッティングされる。
【0023】
したがって、前記スピンドライユニット100の回転装置120に洗滌及び乾燥工程が実行される基板110がロードされていないと前記ダンパー160,170らが常に閉鎖された状態にあるために前記スピンドライユニット100は作動をしない。これにより排気量を減少させることができ、他の作動中であるスピンドライユニットに十分な排気圧を供給することができる。
【0024】
もしも、前記スピンドライユニット100の回転装置120に洗滌及び乾燥されなければならない基板110がロードされれば、前記オートダンパー170がオープンされてスピンドライユニット100が作動するようになる。このような一連の作業、すなわち前記スピンドライユニット100の作動時間及び休止時間などを定めた所定の作業順序表を変更して前記スピンドライユニット100を作動させる。
【0025】
以下は本発明に対して多様な条件で実験した結果を示した表である。
(実験1)下記の表1は図1に図示されたような従来のスピンドライユニット、例えば、実際装備であるティー.イ.エル トラックディベロッパー(TEL TRACK DEVELOPER)のあらゆる基板の洗滌装置のダンパーを開放させた場合において、装備1から装備9に設けられた各スピンドライユニット(ユニット1からユニット3)の排気圧を示す表である。ここで、単位はパスカル(Pa)である。
【0026】
(実験2)下記の表2は図1に図示されたような従来のスピンドライユニット、例えば、実際装備であるティー.イ.エル トラックディベロッパー(TEL TRACK DEVELOPER)の装備1のダンパーを閉鎖させた場合において、基板の洗滌装置のうち装備2から装備9に設けられた各スピンドライユニット(ユニット1からユニット3)の排気圧を示す表である。ここで、単位はパスカル(Pa)である。
【0027】
(実験3)下記の表3は図1に図示されたような従来のスピンドライユニット、例えば、実際装備であるティー.イ.エル トラックディベロッパー(TEL TRACK DEVELOPER)の装備1及び2のダンパーを閉鎖させた場合において、各基板の洗滌装置のうち装備3から装備9に設けられた各スピンドライユニット(ユニット1からユニット3)の排気圧を示す表である。ここで、単位はパスカル(Pa)である。
【0028】
(実験4)下記の表4は図1に図示されたような従来のスピンドライユニット、例えば、実際装備であるティー.イ.エル トラックディベロッパー(TEL TRACK DEVELOPER)の装備1から3のダンパーを閉鎖させた場合において、各基板の洗滌装置のうち装備4から装備9に設けられた各スピンドライユニット(ユニット1からユニット3)の排気圧を示す表である。ここで、単位はパスカル(Pa)である。
【0029】
(実験5)下記の表5は図1に図示されたような従来のスピンドライユニット、例えば、実際装備であるティー.イ.エル トラックディベロッパー(TEL TRACK DEVELOPER)の装備1から4のダンパーを閉鎖させた場合において、各基板の洗滌装置のうち装備5から装備9に設けられた各スピンドライユニット(ユニット1からユニット3)の排気圧を示す表である。ここで、単位はパスカル(Pa)である。
【0030】
(実験6)下記の表6は図1に図示されたような従来のスピンドライユニット、例えば、実際装備であるティー.イ.エル トラックディベロッパー(TEL TRACK DEVELOPER)の装備1から5のダンパーを閉鎖させた場合において、各基板の洗滌装置のうち装備6から装備9に設けられた各スピンドライユニット(ユニット1からユニット3)の排気圧を示す表である。ここで、単位はパスカル(Pa)である。
【0031】
一方、下記の表7は前記6回の実験に対するメインダクト内の風速、風量及び増減量を示す表である。ここで、風速単位は秒当たりメートル(M/Sec)であり、風量単位は分当たりの三乗メートル(CCM)である。
【表7】
Figure 0003793894
【0032】
前記表7で増減量は実験1を基準として風量の差を表す。
【0033】
【発明の効果】
以上で説明したように、本発明はスピンドライユニットに空気吸入管及びマニュアルダンパー及びオートダンパーが設けられたトラップを設置し、前記スピンドライユニットのノーマルオープンモードをシグナル変更及びレシピー変更を通じてノーマルクローズモードに変えて、少ない量の排気量を使用しても装備内のダウンフローを強化して原価低減及び工程マージンを向上させる。したがって、本発明は排気量の減少によって原価を節減し、排気圧の増加によって工程マージンを向上させるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来技術による基板の洗滌装置及び方法を説明するための図面。
【図2】従来技術による基板の洗滌装置の使用例を図示した図面。
【図3】本発明による基板の洗滌装置及び方法を説明するための図面。
【符号の説明】
100 スピンドライユニット
110 基板
120 回転装置
130 空気吸入
140 ミストトラップ
150 スピンドライ用のカップ
160 マニュアルダンパー
170 オートダンパー
180 ドレン

Claims (2)

  1. 基板を洗滌及び乾燥させるスピンドライユニットを具備した液晶表示装置の基板の洗滌装置において、前記スピンドライユニットは、基板を回転させる回転装置が配置されたスピンドライ用のカップと、前記スピンドライ用のカップの外郭に設置され、空気と共に前記回転される基板から排出される異物が吸入される空気吸入管と、前記空気吸入管から吸入された空気及び異物を外部に排気させるトラップと、前記トラップにマニュアルダンパー及びオートダンパーがそれぞれ別個に設置される事により、前記トラップ内の排気圧を調節することができる排気圧調整部と、前記トラップに設置されて前記回転される基板から排出される化学薬品や水分を外部に排出させるドレンを備えて構成され、更に前記オートダンパーは、前記マニュアルダンパーが手動操作で閉鎖され、かつ基板が回転装置にロードされて洗滌工程が実行される場合にのみ自動操作によりオープン状態になりトラップ内の排気が行なわれるようにセッティングされていることを特徴とする液晶表示装置の基板の洗滌装置。
  2. 請求項1の基板の洗滌装置を準備する段階と、前記回転装置に前記基板をロードする段階と、前記マニュアルダンパーを手動操作で閉鎖した時、前記基板が前記回転装置にロードされて洗滌工程が実行される場合にのみ前記オートダンパーを自動操作でオープンさせ、トラップ内の排気が行なわれる段階を備えることを特徴とする液晶表示装置の基板の洗滌方法。
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