JP3171965B2 - スピン洗浄乾燥装置 - Google Patents

スピン洗浄乾燥装置

Info

Publication number
JP3171965B2
JP3171965B2 JP30435092A JP30435092A JP3171965B2 JP 3171965 B2 JP3171965 B2 JP 3171965B2 JP 30435092 A JP30435092 A JP 30435092A JP 30435092 A JP30435092 A JP 30435092A JP 3171965 B2 JP3171965 B2 JP 3171965B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
spin
cleaned
shower plate
air shower
cleaning
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP30435092A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH06126264A (ja
Inventor
正浩 大石
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SPC Electronics Corp
Original Assignee
SPC Electronics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by SPC Electronics Corp filed Critical SPC Electronics Corp
Priority to JP30435092A priority Critical patent/JP3171965B2/ja
Publication of JPH06126264A publication Critical patent/JPH06126264A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3171965B2 publication Critical patent/JP3171965B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Cleaning In General (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はスピン洗浄乾燥装置に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、液晶表示装置用ガラス基板を洗浄
する装置には、基板を回転させながら薬液により洗浄を
行う工程と、基板を高速回転させて乾燥を行う工程をも
ったスピン洗浄乾燥装置が用いられていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】前記従来のスピン洗浄
乾燥装置にあっては、基板の乾燥工程においてエアーを
外部から吸入する必要がある。その際には、処理する基
板のサイズが大きくなるにつれて、同じ回転数でも外部
エアーの吸入量が大きくなるため、薬液を受けるスピン
カップ内の圧力が増大し、スピンカップの隙間からエア
ーやリンス液が洩れることがある。逆に処理基板が小さ
い場合には、スピンカップ内が負圧となり、本来エアー
を取り込みたくないスピンカップの隙間等の開口部より
エアーを取り込んでパーティクル付着の原因となった。
【0004】ガラス基板サイズが縦、横が300mm,
3,000mm及び500mm,450mmにおける従
来のパーティクル付着量を表1に示す。
【表1】 前記のように乾燥工程中にパーティクルが付着するのを
少なくして、エアーを効率的に取り込み、且つスピンカ
ップ内の圧力バランスをとる手段が要望されている。そ
こで、本発明においてはエアーの取込量を調整できるよ
うにした装置を提供しようとするものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は前記課題を解決
するために、筺体内をスピンカップで上下に仕切り、上
部において、被洗浄物をスピンチャックで保持するステ
ージを回転させて被洗浄物の上下から上下部リンスノズ
ルでリンス液を放射して洗浄を行い、その後、被洗浄物
を高速回転させて乾燥させるスピン洗浄乾燥装置におい
て、筺体の蓋をする取入口を多数設けたエアーシャワー
板の上面に同様形状の取入口を多数設けた可変用エアー
シャワー板を回転できるように設けてスピン洗浄乾燥装
置を構成した
【0006】
【0007】叉、筺体内をスピンカップで上下に仕切
り、上部において、被洗浄物をスピンチャックで保持す
るステージを回転させて被洗浄物の上下から上下部リン
スノズルでリンス液を放射して洗浄を行い、その後、被
洗浄物を高速回転させて乾燥させるスピン洗浄乾燥装置
において、筺体の蓋をする取入口を多数設けたエアーシ
ャワー板の上面に同様形状の取入口を多数設けた可変用
エアーシャワー板を回転できるように設け、スピンカッ
プに排出管を設けて気液分離器と排気量を調整するダン
パを介して排気ブロアーで吸引する様に構成した
【0008】
【作用】本発明は前記のように構成したもので、ステー
ジを回転させながら、上下部リンスノズルから被洗浄物
の上下部リンス液を放射して洗浄を行い、その後、ステ
ージを高速回転させて乾燥を行う。その乾燥中にスピン
カップの圧力に応じて、可変エアーシャワーを回転
させて取入口開口面積を調整してスピンカップ内を大
気圧にし、同時に排気管から排気量の調整をダンパー
の開閉角度調整により行う。
【0009】
【実施例】本発明の実施例を図1乃図2に基づいて詳細
に説明する。筺体1の内部をスピンカップ2で仕切って
水滴を受けるように形成する。そして、筺体1の底にス
ピン駆動部3を設置し、その一部をスピンカップ2を貫
通させ、軸4にステージ5固定する。このステージ5
は、中央に円形の固定板6を設けて軸4に固定し、固定
板6の上面に十字形を形成するように固定腕7を4個所
に固定し、各固定腕7の自由端にガラス基板8を保持す
るスピンチャック9を設けている。
【0010】又、筺体1のスピンカップ2より上側の側
壁にリンスノズル駆動部10を設け、これに上部リンス
ノズル11を回動自在に取付け、上部リンスノズル11
の角度を変化させることにより、ガラス基板8上へのシ
ャワー位置を変化させるようになっている。
【0011】又、筺体1の底にはスピンカップ2を貫通
しガラス基板の下面に薬液等をシャワーする下部リンス
ノズル12を設置している。更に、筺体1の底にはスピ
ンカップ2を貫通してガラス基板8の下面に乾燥用の気
体を供給する下部ブローノズル13を設置している。
【0012】一方、昇降により筺体1を開閉することが
できる中心から外周に向かって多数の取入口14,1
4,…をリング状に設けたエアーシャワー板15の下面
中央にガラス基板8の上面に乾燥用の気体を供給する上
部ブローノズル16を設けている。そして、エアーシャ
ワー板15の上面に、開口形状が同じである取入口1
7,17,…を設けた可変用エアーシャワー板18
19でエアーシャワー板15に回転自在に取付けられて
いる。この可変用エアーシャワー板18は外周に歯を設
け、可変用エアーシャワー板駆動源20で駆動される歯
車21と噛合って回転して取口17,17,…と取入
口14,14,…とで形成される開口面積を調整するよ
うになっている。
【0013】又、筺体1のスピンカップ2より上側の側
壁にスピンカップ2の圧力を検出する圧力センサー22
を取付け、その出力を制御装置23に入力し、制御信号
により可変用エアーシャワー板駆動源20を駆動して可
変用エアーシャワー板18を回転させて取入口17,1
7,…と14,14,…との開口面積を調整するように
なっている。
【0014】一方、スピンカップ2には両側に排出管2
4,24を設けて処理後の薬液及び気体を気液分離器2
5に送り、気体と液体とに分離し、気体はダンパー26
を介して排気ブロアー27で排気し、液体は所定位置に
流出させる。尚、ダンパー26は制御装置23に接続さ
れ、コンダクタンスを制御するようになっている。
【0015】本実施例は前記のように構成したもので、
ガラス基板8は、縦、横、厚みが夫々300mm、30
0mm、1.1mmであり、ステージ5のスピンチャッ
ク9で固定保持されている。筺体1を鎖線で示すように
可変用エアーシャワー板18で蓋をした後にスピン駆動
部3によりステージを500〜1,500rpmで回
転させ、回転中にリンスノズル駆動部10により上部リ
ンスノズル11を回転させて所望位置で停止させ、10
cc/min〜300cc/minの流量で純水を噴出
させてからガラス基板8の上面を洗浄する。
【0016】一方、下部リンスノズル12からガラス基
板8の下面に向かって、10cc/min〜300cc
/minの流量で純水を出させて下面を洗浄する。
尚、上下リンスノズル11,12からの純水の噴出時間
は3sec〜180secであり、洗浄後の水はスピン
カップ2で受け、両排出管24,24から気液分離器2
5で排出される。
【0017】洗浄後は、純水の吹出しを停止させ、スピ
ン駆動部を1,000〜5,000rpmの高速回転に
切替えてガラス基板8を高速回転させる。この高速回転
中に上下部ブローノズル16,13から窒素或はエアー
等の気体をガラス基板8の上下面に射し、水滴を吹き
払いながら乾燥を行う。この乾燥時間は3〜180se
cである。
【0018】この一連の処理中にスピンカップ2の圧力
を大気圧に保持するため、圧力センサー22の信号を制
御装置23にとり込み、ダンパー26のコンダクタンス
を一定とし、可変用エアーシャワー板駆動源20を動作
させ、エアーシャワー板15の開口面積を制御する。
又、ダンパー26の開閉角度を調整して排気量の調整を
行うこともあり、前記実施例により洗浄乾燥を行った場
合のガラス基板表面のパーティクル数を表2に示す。
【表2】 表2と表1を比較すると、パーティクル付着量が減少し
ており、後工程へ及ぼす影響が減少した。尚、被洗浄物
はガラス基板に限定されるものではなくシリコンウエハ
等各種の板状物に実施することができる。
【0019】
【発明の効果】本発明は前記のような構成、作用を有す
るから、被洗浄物の大小にかかわらずスピンカップ内の
圧力バランスをとることが可能となり、スピンカップの
隙間からエアーの出入り及びリンス液の洩れがなくなる
と共に、被洗浄物へのパーティクル付着が著しく減少
し、効率よく乾燥を行うことができる。又、被洗浄物の
サイズに影響されないため、エアーシャワー板や排気ブ
ロアーの交換が不要となった。
【0020】
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るスピン洗浄乾燥装置の一実施例の
縦断面図。
【図2】エアーシャワー板と可変用エアーシャワー板と
の関係を示す平面図。
【符号の説明】 1 筺体 2 スピンカップ 3 スピン駆動部 4 軸 5 ステージ 6 固定板 7 固定腕 8 被洗浄物(ガラス基板) 9 スピンチャック 10 リンスノズル駆動部 11 上部リンスノズル 12 下部リンスノズル 13 下部ブローノズル 14 取入口 15 エアーシャワー板 16 上部ブローノズル 17 取入口 18 可変用エアーシャワー板 19 軸 20 可変用エアーシャワー板駆動源 21 歯車 22 圧力センサー 23 制御装置 24 排出管 25 気液分離器 26 ダンパー 27 排気ブロアー
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−73626(JP,A) 特開 昭64−39023(JP,A) 特開 昭63−155622(JP,A) 特開 昭62−232929(JP,A) 特開 昭61−181134(JP,A) 特開 昭53−54868(JP,A) 実開 平1−92289(JP,U) 実開 昭62−126832(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B08B 3/02

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 筺体内をスピンカップで上下に仕切り、
    上部において、被洗浄物をスピンチャックで保持するス
    テージを回転させて被洗浄物の上下から上下部リンスノ
    ズルでリンス液を放射して洗浄を行い、その後、被洗浄
    物を高速回転させて乾燥させるスピン洗浄乾燥装置にお
    いて、筺体の蓋をする取入口を多数設けたエアーシャワ
    ー板の上面に同様形状の取入口を多数設けた可変用エア
    ーシャワー板を回転できるように設けたことを特徴とす
    るスピン洗浄乾燥装置。
  2. 【請求項2】 筺体内をスピンカップで上下に仕切り、
    上部において、被洗浄物をスピンチャックで保持するス
    テージを回転させて被洗浄物の上下から上下部リンスノ
    ズルでリンス液を放射して洗浄を行い、その後、被洗浄
    物を高速回転させて乾燥させるスピン洗浄乾燥装置にお
    いて、筺体の蓋をする取入口を多数設けたエアーシャワ
    ー板の上面に同様形状の取入口を多数設けた可変用エア
    ーシャワー板を回転できるように設け、スピンカップに
    排出管を設けて気液分離器と排気量を調整するダンパを
    介して排気ブロアーで吸引することを特徴とするスピン
    洗浄乾燥装置。
JP30435092A 1992-10-19 1992-10-19 スピン洗浄乾燥装置 Expired - Fee Related JP3171965B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP30435092A JP3171965B2 (ja) 1992-10-19 1992-10-19 スピン洗浄乾燥装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP30435092A JP3171965B2 (ja) 1992-10-19 1992-10-19 スピン洗浄乾燥装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH06126264A JPH06126264A (ja) 1994-05-10
JP3171965B2 true JP3171965B2 (ja) 2001-06-04

Family

ID=17931962

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP30435092A Expired - Fee Related JP3171965B2 (ja) 1992-10-19 1992-10-19 スピン洗浄乾燥装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3171965B2 (ja)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5975097A (en) * 1996-09-02 1999-11-02 Tokyo Electron Limited Processing apparatus for target processing substrate
JP2002001240A (ja) * 2000-06-15 2002-01-08 Shibaura Mechatronics Corp スピン処理装置
WO2007108216A1 (ja) * 2006-03-20 2007-09-27 Takahashi Metal Industries Co., Ltd. 水系洗浄液を用いる洗浄装置
US7635417B2 (en) * 2006-05-05 2009-12-22 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. Ltd. Semiconductor apparatus and cleaning unit thereof
JP4884136B2 (ja) * 2006-08-30 2012-02-29 東京エレクトロン株式会社 液処理装置および液処理方法
JP5180661B2 (ja) * 2008-04-18 2013-04-10 株式会社ディスコ スピンナ洗浄装置および加工装置
JP5405955B2 (ja) * 2009-09-18 2014-02-05 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置
JP5973901B2 (ja) 2012-12-13 2016-08-23 東京エレクトロン株式会社 基板液処理装置及び基板液処理方法
CN106733827B (zh) * 2016-12-07 2019-05-28 无锡艾科瑞思产品设计与研究有限公司 一种酶标洗板机防溢流装置
CN108787574A (zh) * 2018-06-23 2018-11-13 芜湖通全科技有限公司 一种汽车零部件生产加工用清洗装置
CN109174719B (zh) * 2018-08-17 2020-05-22 普雷沃流体控制科技(芜湖)有限公司 一种阀门生产用自动清洗装置及其操作方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH06126264A (ja) 1994-05-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3556043B2 (ja) 基板乾燥装置
JP3171965B2 (ja) スピン洗浄乾燥装置
JP3974340B2 (ja) 基板洗浄方法および基板洗浄装置
JP2002151455A (ja) 半導体ウエハ用洗浄装置
JP2930583B1 (ja) 半導体ウェハのスピン枚葉処理装置
JP2000346549A (ja) 回転式基板乾燥装置および乾燥方法
JP3793894B2 (ja) 液晶表示装置の基板の洗滌装置及びその洗滌方法
JP2001079505A (ja) 吸引ノズル装置
JP2005252137A (ja) 基板の洗浄方法及び基板洗浄装置
JPH1064868A (ja) 基板洗浄装置および基板洗浄方法
JP2000252254A (ja) 基板処理装置
JPH0766164A (ja) 薄板状物の回転洗浄装置
JP2002009036A (ja) スピン処理装置
JP4447673B2 (ja) スピン処理装置
JPH06275506A (ja) 回転塗布装置及びその方法
JP4298840B2 (ja) スピン処理装置およびスピン処理方法
JP2002170805A (ja) ウエハー洗浄装置
JPH10303169A (ja) スピン処理装置
JP3813672B2 (ja) スピン処理装置
JP2003093979A (ja) スピン処理装置
JP2001276714A (ja) スピン処理装置
JP3145177B2 (ja) スピン洗浄乾燥装置
JPH05114554A (ja) 処理装置
JP3113167B2 (ja) スピン式洗浄装置
JP3594416B2 (ja) 回転式基板処理装置

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080323

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090323

Year of fee payment: 8

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees