JPH0766164A - 薄板状物の回転洗浄装置 - Google Patents

薄板状物の回転洗浄装置

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Publication number
JPH0766164A
JPH0766164A JP23592793A JP23592793A JPH0766164A JP H0766164 A JPH0766164 A JP H0766164A JP 23592793 A JP23592793 A JP 23592793A JP 23592793 A JP23592793 A JP 23592793A JP H0766164 A JPH0766164 A JP H0766164A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cleaning
thin material
thin plate
cleaning liquid
motor
Prior art date
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Pending
Application number
JP23592793A
Other languages
English (en)
Inventor
Hideo Yada
秀雄 矢田
Masai Iwamoto
真居 岩元
Mitsugi Sano
貢 佐野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SPC Electronics Corp
Original Assignee
SPC Electronics Corp
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Filing date
Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は超音波密度を下げて薄板状物に与え
るダメージをなくし、且つ洗浄効果を増進させる。 【構成】 薄板状物を回転させるように支持した支持盤
の上方に、薄板状物の回転中心から端部まで以上の長さ
のスリットを有する洗浄液ノズルを設置した薄板状物の
回転洗浄装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウエーハや液品
基板等の薄板状物を回転させながら洗浄する薄板状物の
回転洗浄装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来の此種装置は図1,2に示すよう
に、薄板状物1を保持した支持盤2を垂直軸3で洗浄カ
ップ4内において回転自在支持している。垂直軸3の洗
浄カップ4外にはプーリ5を軸着し、モータ6のモータ
軸7に軸着したプーリ8とプーリ5とにベルト9を掛
け、モータ6の回転により薄板状物1を回転させる。一
方、薄板状物1の上方にはホース10を接続した断面円
形状の洗浄液ノズル11を設けて上面に超音波振動子1
2を固定し、スイングアーム13の一端に固定されてい
る。スイングアーム13の他端は可送モータ14で正逆
回転するスイング軸15に固定している。
【0003】従来の装置は前記のように構成したもの
で、超音波振動子12により超音波が印加された洗浄液
が洗浄液ノズル11から供給され、モータ6の駆動によ
り常時薄板状物1を回転させて洗浄するようになってい
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】前記洗浄液ノズル11
は断面円形で形成されているので、洗浄時は絶えずスイ
ングアーム13で洗浄液ノズル11をスイングさせる必
要がある。そして、短時間に洗浄効果を上げるために
は、流水中に印加させる超音波の密度を大きくする必要
があるが、あまり大きくなると、薄板状物に超音波によ
るダメージが生じてしまう。
【0005】又、薄板状物の上の汚染された液を速やか
に飛ばすためには、遠心力を利用する必要がある。この
際の回転数と洗浄効果との関係を図6に示す。この図6
からも明らかなように、1,000rpm以上回転させ
ないと洗浄効果が上がらない。尚、1,000rpm以
上回転させたときには、汚染された液による水はねが、
薄板状物にはね返らないように注意する必要があった。
【0006】そこで、本発明においては超音波の密度を
下げて薄板状物に与えるダメージをなくし、且つ洗浄効
果を増進させることができる装置を提供しようするもの
である。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は前記課題を解決
するために、薄板状物を回転させるように支持した支持
盤の上方に、薄板状物の回転中心から端部まで以上の長
さのスリットを有し、超音波振動子を固定した洗浄液ノ
ズルを設置した薄板状物の回転洗浄装置を構成した。
【0008】
【作用】本発明は前記のように構成したもので、薄板状
物を回転させ、上方の洗浄液ノズルのスリットから端部
より回転中心に至るまでの範囲に超音波を印加した洗浄
液を噴出して洗浄を行う。
【0009】
【実施例】本発明の実施例を図1,2に基いて詳細に説
明する。回転装置は従来と同様で、薄板状物1を保持し
た支持盤2を垂直軸3で洗浄カップ4内に回転自在に支
持し、垂直軸3の軸端にプーリ5を軸着し、モータ6の
モータ軸7に軸着したフーリ8と前記プーリ5との間に
ベルト9を設け、モータ6の回転により薄板状物1を回
転させる。
【0010】一方、スイングアーム12に固定する洗浄
液ノズル16を円形の薄板状物1の場合には回転中心ま
での距離以上の矩形状に形成し、下面に長方形のスリッ
ト17を形成する。このスリット17の形状は長さが1
/2薄板状物1、巾は1〜5mmのものを用いる。
【0011】スイングアームには従来と同様に可逆モー
タ14で回転するスイング軸15に一端を固定し、洗浄
液ノズル16は上面に超音波振動子12を固定し、ホー
ス10を接続している。
【0012】本実施例は前記のように構成したもので、
洗浄作業を行はない場合には、図2に破線で示すよう
に、薄板状物1からの外れた位置に待機している。そし
て洗浄を行う際には可逆モータ14を駆動してスイング
アーム13をスイングさせて洗浄液ノズル16を薄板状
物1の上方に位置させる。スリット17の長さが86m
mの場合には、流量は4〜10リットル/minとし
た。その際の超音波振動子の周波数は0.80MHzで
あり、入力パワーは30〜300Wであった。前記の状
態でモータ6の駆動で薄板状物1を回転させて洗浄液ノ
ズル17から洗浄液を噴射させて洗浄を行った。その結
果を図3に回転数と除去率の関係を示した。
【0013】異物として0.5μmのポリスチレン粒子
を使用して評価した。図6と比較して、低回転でも十分
な除去効果が得られる。この結果と従来装置との比較を
表1に示す。
【表1】 表1は15秒間洗浄した結果を示すもので、本発明の単
位面積当りの入力パワーは少ないにもかかわらず洗浄効
果が大きい。尚、洗浄液ノズルのスリットの長さは薄板
状物が方形の場合には対角線の長さの1/2以上ににす
ればよい。要するに回転中心までの距離以上に設定すれ
ばよいものである。
【0014】
【発明の効果】本発明は前記のような構成、作用を有す
るから洗浄中心は従来のように、洗浄ノズルをスイング
させる必要がなく、低い回転速度で且つ低パワーで超音
波密度を低くして十分な洗浄効果を上げることができ
る。したがって、薄板状物にダメージを与えるようなこ
とが無い。
【0015】
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る薄板状物の回転洗浄装置の一実施
例の断面図。
【図2】その平面図。
【図3】回転数と除去率との関係を示す図。
【図4】従来装置の断面図。
【図5】その平面図。
【図6】その装置の回転数と除去率との関係を示す図。
【符号の説明】
1 薄板状物 2 支持盤 3 垂直軸 4 洗浄カップ 5 プーリ 6 モータ 7 モータ軸 8 プーリ 9 ベルト 10 ホース 11 洗浄液ノズル 12 超音波振動子 13 スイングアーム 14 可逆モータ 15 スイング軸 16 洗浄液ノズル 17 スリット

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 薄板状物を回転させるように支持した支
    持盤の上方に、薄板状物の回転中心から端部まで以上の
    長さのスリットを有し、超音波振動子を固定した洗浄液
    ノズルを設置したことを特徴とする薄板状物の回転洗浄
    装置。
JP23592793A 1993-08-30 1993-08-30 薄板状物の回転洗浄装置 Pending JPH0766164A (ja)

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JP23592793A JPH0766164A (ja) 1993-08-30 1993-08-30 薄板状物の回転洗浄装置

Applications Claiming Priority (1)

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JP23592793A JPH0766164A (ja) 1993-08-30 1993-08-30 薄板状物の回転洗浄装置

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JPH0766164A true JPH0766164A (ja) 1995-03-10

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998001896A1 (fr) * 1996-07-03 1998-01-15 Ultraclean Technology Research Institute Appareil de lavage et procede de lavage
US7766021B2 (en) * 2005-11-30 2010-08-03 Shibaura Mechatronics Corporation Substrate treatment apparatus
US7958899B2 (en) * 2007-08-21 2011-06-14 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Substrate cleaning apparatus and substrate cleaning method
CN102921659A (zh) * 2012-10-26 2013-02-13 北京泰拓精密清洗设备有限公司 回转喷淋清洗机
CN108580385A (zh) * 2018-04-20 2018-09-28 安徽忠盛新型装饰材料有限公司 一种金属板材均匀清洗装置
CN109794457A (zh) * 2018-12-26 2019-05-24 滨州职业学院 一种易于清理异物和消毒的病理科取材装置

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998001896A1 (fr) * 1996-07-03 1998-01-15 Ultraclean Technology Research Institute Appareil de lavage et procede de lavage
US6325081B1 (en) 1996-07-03 2001-12-04 Kabushiki Kaisha Ultraclean Technology Research Institute Washing apparatus and washing method
US7766021B2 (en) * 2005-11-30 2010-08-03 Shibaura Mechatronics Corporation Substrate treatment apparatus
US7958899B2 (en) * 2007-08-21 2011-06-14 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Substrate cleaning apparatus and substrate cleaning method
CN102921659A (zh) * 2012-10-26 2013-02-13 北京泰拓精密清洗设备有限公司 回转喷淋清洗机
CN102921659B (zh) * 2012-10-26 2015-02-04 北京泰拓精密清洗设备有限公司 回转喷淋清洗机
CN108580385A (zh) * 2018-04-20 2018-09-28 安徽忠盛新型装饰材料有限公司 一种金属板材均匀清洗装置
CN109794457A (zh) * 2018-12-26 2019-05-24 滨州职业学院 一种易于清理异物和消毒的病理科取材装置

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