JP4187817B2 - 超音波洗浄装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、被洗浄物となる半導体ウエハやガラス基板などの基板を超音波洗浄する超音波洗浄装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来の超音波洗浄装置としては、例えば本願出願人による特開平6−461号公報に記載のものが知られている。この従来の超音波洗浄装置を図10および図11を参照して説明する。
【0003】
図10は、従来の超音波洗浄装置本体111および従来の超音波洗浄装置130を正面からみた一部断面を含む図であり、図11は、従来の超音波洗浄装置本体111を底面からみた図である。
【0004】
図10に示すように、超音波洗浄装置本体111は、半導体ウェハやガラス基板などの基板からなる被洗浄物117およびこれを搬送する搬送手段(図示せず)を除く構成からなっていて断面略凹状で長手方向に箱状になっており、ステンレス等で形成されている。そして、この超音波洗浄装置本体111は、超音波洗浄装置本体111の天井面である振動板111a上に配置された超音波振動子115と、この超音波振動子115を駆動する超音波発振器116とで構成されている。
【0005】
この超音波洗浄装置本体111と、被洗浄物117を矢印Y方向に一定速度で搬送する搬送手段(図示せず)とで超音波洗浄装置130が構成されている。
【0006】
また、超音波発振器116は例えば950KHzの超音波信号で超音波振動子115を駆動する。すなわち、高周波の超音波振動子を用いて洗浄を行うハイメガソニック対応の装置となっている。
【0007】
前記超音波洗浄装置本体111は、前記凹部内に配設した超音波振動子115の振動板111aが天井面になっており、前記振動板111aに対向して設けられ、超音波振動子115の面に対して角度θ(0<θ<10°)傾斜して設けられた反射板111bを含む下面側が底面となっている。
【0008】
この超音波洗浄装置本体111の天井面である振動板111aと底面である反射板111bは、ボルト121とナット122によりパッキン119を介して締結固定されている。そして、図11にも示すように、反射板111bは、一方の側面に、3箇所の洗浄液供給口112と、この洗浄液供給口112の他方の側面に2箇所のオーバーフロー排出口114を有し、また反射板111bの底面中央に長手状に形成された洗浄液導出部126と、この洗浄液導出部126の中央に形成されたスリット125とを有している。
【0009】
また、前記パッキン119の一方には、断面略L字状の整流板118が取り付けられ、この整流板118には複数のスリット120が下部に形成されて整流作用を行う。
【0010】
次に、前記構成からなる超音波洗浄装置の動作について説明する。
【0011】
図10に示すように、洗浄液124が洗浄液供給口112から矢印X方向より超音波洗浄装置本体111内に供給されると、洗浄液124は整流板118のスリット120で整流されて超音波洗浄装置本体111内を層流となって流れ、洗浄液噴出口113に沿って均一な形状となって洗浄液噴出口113から被洗浄物117上に噴出される。このとき超音波振動子115は、超音波信号により駆動され、振動板111aを介して超音波を超音波洗浄装置本体111の底面である反射板111bに向けて放射する。この反射板111bは、所定角度θだけ傾斜しているので反射板111bにより反射した超音波123aおよび123bは反射を繰り返しつつ最終的に洗浄液噴出口113に集束して超音波導出部126に導かれスリット125(図11に図示)から被洗浄物117上に強力な超音波洗浄液を照射する。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】
従来の超音波洗浄装置130は、図10に示すように、被洗浄物117を洗浄液噴出口113の下側をローラーなどの搬送手段(図示せず)により矢印Y方向、すなわち一方向に一定速度で通過させて洗浄を行う。
【0013】
この超音波洗浄装置130は、半導体ウェハやガラス基板などの基板からなる被洗浄物117を搬送手段(図示せず)によって一枚ずつ搬送して洗浄する枚葉式の洗浄装置である。
【0014】
この種の枚葉式の洗浄装置(枚葉式とは、1枚1枚被洗浄物を洗浄するものをいう)には、超音波洗浄装置130のように、洗浄物をローラーなどにより一定速度で通過させて洗浄する構成のもののほか、異なる形式のものとして、例えば被洗浄物の裏面を吸着プレート上に真空吸着により固定し、これを高速回転して洗浄する構成のものがある。
【0015】
図10に示すような従来の超音波洗浄装置130による被洗浄物117の洗浄は、被洗浄物117の基板上面を洗浄するために超音波洗浄装置130を複数台並設して使用するために多量の洗浄液が必要である。
【0016】
また、被洗浄物117を吸着プレート上に真空吸着して洗浄する場合には、被洗浄物117の裏面、すなわち吸着されている面は洗浄することができない。
【0017】
また、被洗浄物を搬送手段により搬送して被洗浄物の両面を洗浄する構成のものは、上下に分割された洗浄装置内を通過させて洗浄する構成となっているため装置が大型化する。
【0018】
一方、近年の半導体の高集積化にともない半導体ウェハ等の洗浄はより高い清浄度が求められており、また、半導体の高集積化によって半導体製造プロセスも高度化、多様化し、他工程への汚染防止の点からも被洗浄物の両面を洗浄して高洗浄度を維持することが求められている。さらに、洗浄液などの使用液量が少なくてすみ、かつ小型化された装置も要望されている。
【0019】
本発明は上記従来技術の欠点に鑑みてなされたものであって、半導体ウェハなどの被洗浄物を超音波洗浄する超音波洗浄装置、特に高速回転型の枚葉式超音波洗浄装置において、小型でかつ被洗浄物の表面に対する洗浄効果を低下させずに裏面の洗浄が可能な超音波洗浄装置を提供することを目的とする。
【0020】
【課題を解決するための手段】
本発明による超音波洗浄装置は、被洗浄物を固定保持する保持台と、前記保持台上に設けられ、搬送手段により1枚づつ搬送される被洗浄物を前記保持台上面より一定距離離間した位置で支持する基板支持手段と、前記基板支持手段上に載置された被洗浄物の端部を係合保持する保持手段と、前記保持台を回転駆動する駆動手段と、前記保持台の上方に配置されて前記被洗浄物に対して超音波洗浄を行う超音波洗浄装置本体とを備え、前記超音波洗浄装置本体は、前記被洗浄物のパターン形成面よりも少なくとも長手方向の長さが大である超音波振動子と、前記超音波振動子の面に対して所定の角度傾斜して設けられた反射板と、前記反射板の中央に長手状でかつ下方に突出して形成され、少なくとも長手方向の長さが前記被洗浄物よりも大である洗浄液導出部と、前記洗浄液導出部の中央に長手状に形成されたスリットとを備え、前記洗浄液導出部の長手方向両端部には、前記被洗浄物に対して前記洗浄液導出部が所定距離接近したとき、深さ並びに径方向および周方向の幅が前記保持手段に対応して非接触でかつ被洗浄物の端部からの長さが前記被洗浄物のパターン形成面よりも外側となる切り欠き凹部を設けてなるものである。
【0021】
また、本発明による前記基板支持手段は、前記保持台上の少なくとも3箇所以上の保持ピンでなるものである。
【0022】
また、本発明による前記保持手段は、前記被洗浄物の端部を少なくとも3箇所以上係合保持可能でかつ開閉可能なチャック部材でなるものである。
【0023】
また、本発明による前記保持台は、前記基板支持手段上に載置された被洗浄物の裏面に対して洗浄液を噴射して洗浄を行う洗浄液噴出口を設けてなるものである。
【0024】
また、本発明による前記保持台は、周縁部に所定の高さの凸部を設けたものである。
【0025】
また、本発明による前記超音波洗浄装置本体は、被洗浄物を搬送する搬送手段の搬送経路から退避可能な構成としたものである。
【0026】
また、本発明による前記超音波振動子は、500KHz以上の超音波駆動周波数で駆動されてなるものである。
【0027】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して、この発明による超音波洗浄装置の実施例を説明する。
【0028】
図1は、本発明による第3実施例としての超音波洗浄装置15の全体を示す一部断面を含む側面図、図2は、本発明による超音波洗浄装置15を正面から見た断面図、図3は、図1および図2に示す超音波洗浄装置15の一部拡大図、図4は、図2に示す超音波洗浄装置15の平面図、図5は、図1に示す超音波洗浄装置15の動作を示す説明図、図6は、被洗浄物としての半導体ウェハを示す図、図7および図8は、本発明による超音波洗浄装置の第1および第2実施例を示す一部断面を含む側面図、図9は、超音波の強度と距離の関係を示す図である。
【0029】
本発明による超音波洗浄装置の第1および第2実施例を図7および図8を参照して説明する。
【0030】
図7および図8に示すように、本発明による超音波洗浄装置の第1および第2実施例は、図10に示す超音波洗浄装置111の基本的な構成を使用し、従来の超音波洗浄装置130が被洗浄物117を搬送手段により一方向に搬送していたものを半導体ウェハなどの被洗浄物を固定して高速回転させ、かつ被洗浄物の裏面も洗浄可能な構成としている点に特徴を有している。
【0031】
高速回転型の枚葉式超音波洗浄装置は、洗浄中ならびに洗浄後も高速回転させることにより被洗浄物上の洗浄液を遠心力により飛散させて乾燥させることができるので被洗浄物の表面にしみなどが残らないという利点がある。
【0032】
図7および図8に示すように、この超音波洗浄装置は、超音波洗浄装置本体1と、半導体ウェハなどの被洗浄物としての基板20を固定保持する保持台3と、保持台3上に設けた基板支持手段としての複数の針状の保持ピン3bと、保持手段としてのフック状のチャック部材2とを備えている。
【0033】
前記保持台3、保持ピン3b、チャック部材2により固定手段を構成する。
【0034】
また、この超音波洗浄装置本体1の構成の詳細は後述するが、従来の超音波洗浄装置本体111と略同一の構成となっている。
【0035】
図7に示す第1実施例である超音波洗浄装置は、超音波洗浄装置本体1の超音波振動子を含む振動面が半導体ウェハよりも小さくなっているのに対して、図8に示す第2実施例である超音波洗浄装置は、超音波洗浄装置本体1の超音波振動子を含む振動面が半導体ウェハよりも大きくなっている点に差異がある。
【0036】
図7および図8に示すように、この超音波洗浄装置は、超音波洗浄装置本体1の洗浄液供給口18から供給された純水等からなる洗浄液が超音波振動子4により超音波振動が印加されて基板20の表面に照射される。そして、基板20の裏面は、例えば4本の前記保持ピン3bで支持されており、前記基板20の周縁端部20bの少なくとも3ヶ所がチャック部材2で係合保持され、保持台3を矢印X方向に図示せぬモーターなどの駆動手段により回転駆動することによって基板20の表面全体を洗浄することができる。
【0037】
一方、この超音波洗浄装置は、基板20が前記保持ピン3bにより保持台3の上面から所定距離離間配置されているため基板20の裏側に空間が生じ、基板20の裏面洗浄用の洗浄液噴出口12を設けることにより表面とあわせて裏面も同時に洗浄することが可能となっている。
【0038】
しかして、第1および第2実施例による超音波洗浄装置は、基板20の周縁端部20bの少なくとも3ヶ所をチャック部材2で固定する構成となっているため、保持手段としてのチャック部材2が基板20の表面の上方に凸状に突出することになる。このチャック部材2による突出部は、基板20の表面から略8mm〜10mm程度の高さとなる。
【0039】
しかしながら、基板20の表面に対して超音波振動を確実に伝達し、かつ十分な洗浄力を得るためには、表面張力の作用によって洗浄液を基板20の表面上に保持する保持力が得られるように超音波洗浄装置本体1を基板20の表面全体にわたって十分な距離接近させるのが望ましい。したがって、図10に示すような従来の超音波洗浄装置130では、超音波洗浄装置本体111を被洗浄物117の表面から略3mm〜5mm上方に設置している。被洗浄物を吸着プレート上に真空吸着して洗浄する構成のものも同様である。
【0040】
そこで、図7に示すように、第1実施例としての超音波洗浄装置本体1の長手方向の幅をチャック部材2をさけて小さくすれば、従来通り基板20の表面から略3mm〜5mm上方に設置することが可能となるが、超音波洗浄装置本体1の長手方向の幅を小さくすると、同時に超音波振動子4の長手方向の幅も相対的に小さくなるので、基板20の表面全体を洗浄することができなくなり有効洗浄面積が小さくなってしまう。しかも、基板20の外周部に洗浄できない部分が生じて完全に洗浄することができず、また洗浄部分と非洗浄部分との識別をすることも困難となる。
【0041】
そこで、図8に示すように、超音波振動子4の長手方向の幅が基板20の外径よりも大きくなるようにすると、チャック部材2の凸状の突出部をさけて基板20の表面から10mm以上上方に設置する必要がある。
【0042】
しかしながら、図9に示すように超音波洗浄装置本体1の超音波振動子4から放射される超音波の強度は、被洗浄物である基板20の表面との距離が10mmを越えると急激に低下し始め、洗浄効果が低下する。
【0043】
図9は流量12リットル/分、発振器出力600W(ワット)、測定点D点の位置にセンサを配置し、超音波洗浄装置の下面とセンサとの距離を図示のように5mm、10mm・・・というように離間したときの超音波の音圧、この場合電圧(V)に変換して測定した値を図示したものである。
【0044】
図9から明らかなように、超音波洗浄装置と被洗浄物とが一定の距離以上離間すると超音波の出力も急激に低下することがわかる。したがって、斜線で示す範囲内の超音波洗浄力を備えた超音波洗浄装置が望まれる。
【0045】
かかる観点からみて、本発明者は図7および図8に示す超音波洗浄装置に改良を加え十分な超音波洗浄力を備えた超音波洗浄装置を発明した。
【0046】
以下に、本発明による第3実施例としての超音波洗浄装置15を図1乃至図6を参照して説明する。なお、図7および図8に示す超音波洗浄装置と同一の構成および機能を有する部分には同一の符号を付している。
【0047】
図1および図2に示すように、カバー15aおよび下台15bを有する超音波洗浄装置15は、超音波洗浄装置本体1と、半導体ウェハなどの被洗浄物としての基板20を固定保持する保持台3と、保持台3上に設けた基板支持手段としての複数の針状の保持ピン3bと、保持手段としてのフック状のチャック部材2とを備えている。
【0048】
前記保持台3、保持ピン3b、チャック部材2により固定手段を構成する。
【0049】
図2および図4に示すように、保持台3は円盤状でなり、周縁部が洗浄液の飛散を防止する凸部3aになっている。この凸部3aは、基板20の表面より少なくとも高く形成されている。この凸部3aの内周側に洗浄中もしくは洗浄後の洗浄液を排出する洗浄液排出ダクト25がこの場合2ヶ所に設けられている。この洗浄液排出ダクト25は、2ヶ所でなくともよく、少なくとも1ヶ所以上適宜設ければよい。
【0050】
前記保持台3上の基板支持手段としての保持ピン3bは針状の部材からなり、基板20の裏面を汚染しないように一点で支持している。図4に示す実施例では、保持ピン3bは等間隔で4ヶ所に配設されている。また、保持手段としてのチャック部材2は、基板20の円周に沿って等間隔で4ヶ所に配設されている。図3に示すように、前記チャック部材2は、図示せぬ開閉機構により開閉可能になっており、開状態で基板20を上方より受け入れて基板20が前記保持ピン3b上に載置されると閉じて図6に示す基板20の周縁端部20bを係合保持して固定する。前記保持ピン3bおよびチャック部材2は、少なくとも3ヶ所以上設ければよい。
【0051】
また、図1および図2に示すように、軸13は、一端が保持台3の裏側中心に連結され、他端は駆動手段(図示せず)に連結されており、この駆動手段により軸13は、正逆回転可能(図1および図2では矢印X方向に回転する)となっている。この回転は、約1800〜2000r.p.m(リボリューションパーミニッツ)となっている。また、前記軸13の回転中心には、基板20の裏面を洗浄するための洗浄液を供給する洗浄液供給路24が形成され、保持台3の中心を貫通して保持台3の上面の回転中心に裏面用洗浄液噴出口12が配設されている。
【0052】
一方、超音波洗浄装置15の上部に設けられた略半球状のカバー15aは、略円筒状の下台15bと開閉可能に接続固定されており、内側面に一対の支持部材16を介して超音波洗浄装置本体1を垂下状に取り付け固定している。前記カバー15aは、被洗浄物の洗浄時に洗浄液の飛散を防ぎ、かつ外部からの不純物の進入を防ぐものである。
【0053】
図2に示すように、超音波洗浄装置15の超音波洗浄装置本体1は、薄板長方形状のステンレスなどからなる上側ケース1a、および断面略凹状でかつ長手状の振動板1bと、この振動板1bの凹部内に配設した超音波振動子4と、この振動板1bと対向し、超音波振動子5の面に対して角度θ(0<θ<10°)傾斜して設けられた反射板1c等で構成されてなり、超音波振動子4の図1に示す長手方向の幅は、基板20のパターン形成面20aよりも大なる径方向長さを有し、基板表面を全面にわたって洗浄が可能である。また、超音波振動子4の長手方向の幅は基板20のパターン形成面20aの全範囲に超音波振動が伝達可能であればよいため基板20の直径より大きい径方向長さを有するものであってもよく、また、基板20が矩形形状のものであれば、長手方向の幅で構成すればよい(短手方向、長手方向が同一長さである場合にはいずれでもよい)。また、図6に示すように、基板20である半導体ウエハは、一部にオリフラ面をもっているが、前記径方向長さは、このオリフラ面以外の外周面での径方向長さとすればよい。
【0054】
図2および図4に示すように、前記上側ケース1aおよび振動板1bと前記反射板1bはパッキン9を介して複数のボルト10とナット11により密閉状態に締結固定されている。そして、超音波振動子4は、ケーブル6を介して上側ケース1a上に設けたコネクタ5と接続され、このコネクタ5はケーブル7を介して超音波発振器8と接続されている。この超音波発振器8は、超音波振動子4を超音波信号で駆動する。また、超音波発振器8は、500KHz以上の超音波信号を用いることが可能であり、本実施例では950KHzの超音波信号の駆動周波数で超音波振動子4を駆動するハイメガソニック対応の装置となっている。
【0055】
図1および図4に示すように、超音波洗浄装置本体1の長手方向の端面の一方には洗浄液供給口18が設けられ、この洗浄液供給口18から純水などの洗浄液23を給液する。そして、図2にも示すように、反射板1cは、中央に長手状にかつ下方に突出して形成された洗浄液導出部22と、この洗浄液導出部22の中央に形成されたスリット14とを有している。
【0056】
また、図1および図3に示すように、前記洗浄液導出部22の長手方向の両端部には、凹部22aが形成されている。前記洗浄液導出部22の凹部(切り欠き凹部)22aは、チャック部材2の凸部に対応した深さ、並びに径方向および周方向の幅に対応した切り欠きとなっている。
【0057】
チャック部材2が基板20の表面上部に略8mm〜10mm程度の凸部であれば、前記切り欠き凹部22aの深さdは、略5mm程度で形成すればよい。従って、超音波振動子4および洗浄液導出部22の長手方向の幅(長さ)が基板20の直径よりも大きい場合であっても基板20の表面から上方略3mm〜5mmの距離内に超音波洗浄装置本体1を配置可能な構成となっている。
【0058】
また、洗浄液導出部22の凹部22aの基板20の径方向における長さxは、図6に示す基板20のパターン形成面20aよりも外側に形成する必要がある。すなわち、パターン形成面20aは、基板20の周縁端部20bの少なくとも内側に形成されているので、この周縁端部20bの範囲若しくはこの周縁端部20bからパターン形成面20aの最外周部近傍までの範囲で洗浄液導出部22の一部を切り欠いて形成する。
【0059】
また、基板20の周方向の洗浄液導出部22の凹部22aの幅は、洗浄液導出部22の幅の方がチャック部材2よりも大きくなっているので、洗浄液導出部22の幅を切り欠けばチャック部材2とは非接触となる。基板20を係合保持するチャック部材2の大きさは、洗浄を行う観点からは極力小さな部材で構成する必要があるからである。
【0060】
前記構成によって、超音波洗浄装置本体1を被洗浄物である基板20の表面に対して高洗浄効果が期待できる理想的な近接距離に配置することが可能となり、チャック部材2に接触することなく、しかもチャック部材2を含めた被洗浄物の周縁端部20bも同時に洗浄が可能となるため、被洗浄物表面に対する洗浄効果が維持できるだけでなく、装置全体の高洗浄度を維持することが可能である。
【0061】
次に、本発明による超音波洗浄装置15の動作について説明する。
【0062】
図5に示すように、被洗浄物としての基板20の供給時は、超音波洗浄装置15のカバー15aは、図示せぬ開閉機構により支軸28を中心として自動的に約90度開き、このカバー15aに支持部材16で垂下状に取り付けられた超音波洗浄装置本体1も一体に退避する。
【0063】
基板20は、搬送機構30により搬送されて保持台3上の保持ピン3b上に載置される。これに先立って、保持台3上に設けられたチャック部材2(本実施例では4箇所)は、図示せぬ開閉機構により開かれて基板20を受け入れる。
【0064】
前記保持台3上への基板20の供給並びに搬出を行う搬送機構30は、アーム状の部材の先端に設けられたフック状の爪部30aで基板20を1枚づつ把持して搬送する。
【0065】
前記保持台3の保持ピン3b(本実施例では4本)上に基板20が載置されると、図3および図4に示すように、前記チャック部材2が閉じて基板20の周縁端部20bを係合保持して固定する。
【0066】
前記基板20が固定されると、図1に示すように、前記カバー15aが図示せぬ開閉機構により自動的に閉じられる。
【0067】
超音波洗浄装置15の運転が開始されると、洗浄液供給口18から純水などの洗浄液23が超音波洗浄装置本体1内に供給されて満たされ、前記洗浄液23が洗浄液噴出口21から基板20上に噴出する。このとき超音波振動子4は、超音波発振器8からの超音波信号(この場合950KHz)により駆動され、超音波が振動板1bを介して超音波洗浄装置本体1の底面である反射板1cに向けて放射される。
【0068】
反射板1cは所定角度θ(0<θ<10°)だけ傾斜しているため、反射板1cにより反射した超音波17aおよび17bは、反射を繰り返しつつ最終的に洗浄液噴出口21に収束して超音波導出部22に導かれ、スリット14から保持台3に固定されて回転している基板20上に強力な超音波洗浄液を照射して表面を洗浄する。この洗浄中、保持台3の凸部3aは、洗浄液23が遠心力により飛散するのを防ぐ堰として作用し、洗浄液23を洗浄液排出ダクト25に有効に導き、洗浄中並びに洗浄後、洗浄液排出口26を経て超音波洗浄装置15の外部に排出する。
【0069】
また、保持台3の上面中心に設けられた裏面用洗浄液噴出口12からも基板20の裏面に洗浄液が放射される。このとき、超音波洗浄装置本体1から基板20の表面に対して照射される強力な超音波は、基板20の裏面にも伝播するため基板20の裏面に対しても超音波洗浄による洗浄が可能となり、基板20の裏面の洗浄も同時に行うことができると共に、基板20の表面に付着した汚れが飛散して裏面に再付着することも防止できる。この基板20の裏面への洗浄液の放射は、表面の洗浄液の照射とは異なり、基板20の裏面に洗浄液がある程度満遍なく照射されていれば所望の洗浄効果、すなわち基板20の表面に付着した汚れ等の再付着の防止等の洗浄効果を得ることができる。従って、洗浄液の使用液量も基板表面のものに比べて少なくてよい。
【0070】
基板20の両面の洗浄が終了すると、超音波洗浄装置本体1および裏面用洗浄液噴出口12からの洗浄液の噴出を停止する。そして、洗浄液の噴出を停止した後も保持台3を所定時間回転し続け、基板20の両面に残った洗浄液を飛散させて乾燥する。
【0071】
基板20の洗浄が完了すると、図5に示すように、再び超音波洗浄装置15のカバー15aおよびチャック部材2が開かれ、搬送機構30によって洗浄済みの基板20が把持されて搬出される。そして、新たな被洗浄物としての基板20を受け入れて同様の動作を繰り返す。
【0072】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明による超音波洗浄装置によれば、特に高速回転型の枚葉式超音波洗浄装置において、被洗浄物の表面に対する洗浄効果を低下させずに裏面の洗浄も同時に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による第3実施例としての超音波洗浄装置15の全体を示す一部断面を含む側面図である。
【図2】本発明による超音波洗浄装置15を正面からみた断面図である。
【図3】図1および図2に示す超音波洗浄装置15の一部拡大図である。
【図4】図2に示す状態の超音波洗浄装置15の平面図である。
【図5】図1に示す超音波洗浄装置15の動作を示す図である。
【図6】被洗浄物としての半導体ウェハを示す図である。
【図7】本発明による超音波洗浄装置の第1実施例としての一部断面を含む側面図である。
【図8】本発明による超音波洗浄装置の第2実施例としての一部断面を含む側面図である。
【図9】超音波の強度と距離との関係を示す図である。
【図10】従来の超音波洗浄装置本体111を含む超音波洗浄装置130の正面図である。
【図11】従来の超音波洗浄装置本体111を底面からみた図である。
【符号の説明】
1 超音波洗浄装置本体
1a 上側ケース
1b 振動板
1c 反射板
2 チャック部材
3 保持台
3b 保持ピン
4 超音波振動子
8 超音波発振器
12 裏面用洗浄液噴出口
15 超音波洗浄装置
15a カバー
17a 超音波
17b 超音波
20 基板
20a 基板のパターン形成面
20b 基板の周縁端部
21 洗浄液噴出口
22 洗浄液導出部
22a 洗浄液導出部の凹部
23 洗浄液
Claims (7)
- 被洗浄物を固定保持する保持台と、
前記保持台上に設けられ、搬送手段により1枚づつ搬送される被洗浄物を前記保持台上面より一定距離離間した位置で支持する基板支持手段と、
前記基板支持手段上に載置された被洗浄物の端部を係合保持する保持手段と、
前記保持台を回転駆動する駆動手段と、
前記保持台の上方に配置されて前記被洗浄物に対して超音波洗浄を行う超音波洗浄装置本体とを備え、
前記超音波洗浄装置本体は、
前記被洗浄物のパターン形成面よりも少なくとも長手方向の長さが大である超音波振動子と、
前記超音波振動子の面に対して所定の角度傾斜して設けられた反射板と、
前記反射板の中央に長手状でかつ下方に突出して形成され、少なくとも長手方向の長さが前記被洗浄物よりも大である洗浄液導出部と、
前記洗浄液導出部の中央に長手状に形成されたスリットとを備え、
前記洗浄液導出部の長手方向両端部には、前記被洗浄物に対して前記洗浄液導出部が所定距離接近したとき、深さ並びに径方向および周方向の幅が前記保持手段に対応して非接触でかつ被洗浄物の端部からの長さが前記被洗浄物のパターン形成面よりも外側となる切り欠き凹部を設けてなること
を特徴とする超音波洗浄装置。 - 前記基板支持手段は、前記保持台上の少なくとも3箇所以上の保持ピンでなることを特徴とする請求項1記載の超音波洗浄装置。
- 前記保持手段は、前記被洗浄物の端部を少なくとも3箇所以上係合保持可能でかつ開閉可能なチャック部材でなることを特徴とする請求項1記載の超音波洗浄装置。
- 前記保持台は、前記基板支持手段上に載置された被洗浄物の裏面に対して洗浄液を噴射して洗浄を行う洗浄液噴出口を設けてなることを特徴とする請求項1記載の超音波洗浄装置。
- 前記保持台は、周縁部に所定の高さの凸部を設けたことを特徴とする請求項1又は請求項4記載の超音波洗浄装置。
- 前記超音波洗浄装置本体は、被洗浄物を搬送する搬送手段の搬送経路から退避可能な構成としたことを特徴とする請求項1記載の超音波洗浄装置。
- 前記超音波振動子は、500KHz以上の超音波駆動周波数で駆動されてなることを特徴とする請求項1記載の超音波洗浄装置。
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