JP2021185602A - 基板洗浄装置および基板洗浄方法 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、一実施形態に係る基板処理装置の概略上面図である。本基板処理装置は、直径300mmあるいは450mmの半導体ウエハ、フラットパネル、CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)やCCD(Charge Coupled Device)などのイメージセンサ、MRAM(Magnetoresistive Random Access Memory)における磁性膜の製造工程
において、種々の基板を処理するものである。また、基板の形状は円形に限られず、矩形形状(角形状)や、多角形形状のものであってもよい。なお、本明細書において、基板の「エッジ」とは基板表面の外周付近の平坦部を指し、より詳細には、基板の縁から所定距離内の平坦部と考えることができる。また、本明細書において、基板の「ベベル」とはエッジより外側の基板表面から角度を有する曲面部あるいは面取り部、および側面部のことを指す。
乾燥装置5から取り出された乾燥後の基板を搬送機構6bから受け取ったりする。
チャック爪411は、洗浄対象である基板Wの外周端部(エッジ部分)を把持して基板Wを保持するように設けられた保持部材である。本実施形態では、チャック爪411が4つ設けられており、隣り合うチャック爪411同士の間には、基板Wを搬送するロボットハンド(不図示)の動きを阻害しない間隔が設けられている。チャック爪411は、基板Wの面を水平にして保持できるように、それぞれ回転駆動軸412に接続されている。本実施形態では、基板Wの表面WAが上向きとなるように、基板Wがチャック爪411に保持される。
また、この回転カップは、図示しない洗浄ユニット上部のFFUからユニット内に供給されるダウンフローの気流が回転カップに設けられた孔を通過して下方に逃げるように構成されていてもよい。このように構成することで、洗浄液や超音波洗浄液が飛散するのをより確実に防止できる。
12,13の内部にそれぞれ配置された振動子15,16によって超音波が与えられて超音波洗浄液となって、ノズル12,13の先端から噴射される。ノズル12,13は、噴射方向を任意に調整できるように筐体11に保持されるのが望ましい。
ン倒壊のおそれを抑制しながら、基板に対する付着力が異なる異物をより効果的に除去できる。また、この場合の流量調整機構としては、それぞれのノズルに接続される管に設けられ開度が調整可能とされたバルブ機構が考えられる。
上述した第1の実施形態は、2つのノズル12,13から基板Wの表面に超音波洗浄液を噴射するものであった。次に説明する第2の実施形態は、2つのノズル12,13から基板Wの表面および裏面にそれぞれ超音波洗浄液を噴射するものである。以下、第1の実施形態との相違点を中心に説明する。
図9Aに示すように、ノズル12,13は基板Wのそれぞれ表面および裏面のエッジ部分に超音波洗浄液を噴射してもよい。より詳しくは、ノズル12は、超音波洗浄液が基板Wの表面のエッジ部分に着液し、その後、基板Wの表面上で超音波洗浄液が着液点から中心に向かうような方向に超音波洗浄液を噴射する。一方、ノズル13は、超音波洗浄液が基板Wの裏面のエッジ部分に着液し、かつ、基板Wの裏面上でエッジ部分から中心に向かう方向に超音波洗浄液を噴射する。これにより、基板Wのエッジ部分から中心までを洗浄できる。
超音波洗浄液が残るのを抑制できるためである。
ルを洗浄できる。
次に説明する第3の実施形態は超音波洗浄液にマイクロバブルを導入するものであり、第1の実施形態および/または第2の実施形態と組み合わせることができる。
このように、第3の実施形態では、超音波洗浄液に気体を溶存させるため、さらに洗浄力が向上する。特に、キャビテーションを利用した超音波洗浄は、溶存気体を含む液体に超音波を作用させることによる物理洗浄であるため、高濃度の気体が溶存した超音波洗浄液は洗浄力が極めて高くなる。
41 基板回転機構
42 ペン洗浄機構
43 超音波洗浄液供給装置
431 ヘッド
432 アーム
433 アーム旋回軸
51 スピンドル
11 筐体
12,13 ノズル
14 流路
15,16 振動子
21 マイクロバブル供給機構
22 フィルタ
Claims (18)
- 洗浄液にマイクロバブルを導入するマイクロバブル供給機構と、
前記マイクロバブルが導入された洗浄液に超音波を付与して超音波洗浄液を生成する振動子と、
基板の所定面に向かって前記超音波洗浄液を噴射するノズルと、
前記ノズルと前記マイクロバブル供給機構との間に設置され、前記マイクロバブル供給機構により導入された前記マイクロバブルのうち所定の大きさのマイクロバブルを除去するように構成されたフィルタと、を備えた、基板洗浄装置。 - 前記フィルタのメッシュサイズは、100nm以下とされた、請求項1に記載の基板洗浄装置。
- 前記フィルタのメッシュサイズは、10nm以下とされた、請求項1に記載の基板洗浄装置。
- 前記ノズルは第1ノズルおよび第2ノズルからなり、
前記第1ノズルおよび前記第2ノズルのそれぞれから噴出される超音波洗浄液の温度が互いに異なるように構成された、請求項1に記載の基板洗浄装置。 - 前記ノズルは第1ノズルおよび第2ノズルからなり、
前記第1ノズルおよび前記第2ノズルのそれぞれから噴出される超音波洗浄液の流量が互いに異なるように、前記第1ノズルに接続される管および前記第2ノズルに接続される管のそれぞれに流量調整機構を備えた、請求項1に記載の基板洗浄装置。 - 前記ノズルは第1ノズルおよび第2ノズルからなり、
前記第1ノズルおよび前記第2ノズルのそれぞれから噴出される超音波洗浄液の種類が互いに異なるように構成された、請求項1に記載の基板洗浄装置。 - 前記振動子は、基板上の除去対象となる異物の大きさに対応するような周波数を超音波洗浄液に付与するように構成されている、請求項1乃至6のいずれかに記載の基板洗浄装置。
- 基板を保持し回転させる基板回転機構と、
ペン洗浄機構と、
超音波洗浄液供給装置と、
を備えた、基板洗浄装置であって、
前記超音波洗浄液供給装置は、
洗浄液にマイクロバブルを導入するマイクロバブル供給機構と、
該マイクロバブルが導入された前記洗浄液に超音波を付与して超音波洗浄液を生成する振動子と、
前記基板回転機構により回転する基板の所定面に向かって該超音波洗浄液を噴射するノズルと、を備えた、基板洗浄装置。 - 前記ペン洗浄機構は、第1アームおよび前記第1アームの一端側に支持されるペン洗浄具を備え、
前記ペン洗浄具は、前記第1アームの他端を中心として、前記基板の中心と前記基板の外側の退避位置との間の範囲を揺動可能に前記第1アームによって支持されており、
前記超音波洗浄液供給装置は、第2アーム、上端に前記第2アームの一端が取り付けられるアーム旋回軸、および前記第2アームの他端に位置するとともに前記基板の中心と前記基板の外側の退避位置との間の範囲を揺動しながら超音波洗浄液を前記基板に供給可能にされたヘッドを備え、
前記第1アームと前記第2アームとは、前記基板を挟んで互いに反対側に配置された、
請求項8に記載の基板洗浄装置。 - 前記基板の表面側に洗浄液を供給する洗浄液ノズルおよび前記基板の表面側にリンス液を供給する第1リンス液ノズルを備えた、請求項1乃至9のいずれかに記載の基板洗浄装置。
- 前記基板の裏面側に洗浄液を供給する洗浄液ノズルおよび前記基板の裏面側にリンス液を供給する第2リンス液ノズルを備えた、請求項10に記載の基板洗浄装置。
- 基板を保持し回転させる基板回転機構と、
ロール洗浄機構と、
超音波洗浄液供給装置と、
を備えた基板洗浄装置であって、
前記超音波洗浄液供給装置は、
洗浄液にマイクロバブルを導入するマイクロバブル供給機構と、
該マイクロバブルが導入された前記洗浄液に超音波を付与して超音波洗浄液を生成する振動子と、
前記基板回転機構により回転する基板の所定面に向かって該超音波洗浄液を噴射するノズルと、
を備えた、基板洗浄装置。 - 前記超音波洗浄液供給装置は、前記ノズルと前記マイクロバブル供給機構との間に設置され、前記マイクロバブル供給機構により導入された前記マイクロバブルのうち所定の大きさのマイクロバブルを除去するように構成されたフィルタを備えた、
請求項8乃至12のいずれかに記載の基板洗浄装置。 - 前記マイクロバブル供給機構は、
水素、オゾン、二酸化炭素のいずれかから選択された気体をマイクロバブルとして導入するようにされ、
溶存マイクロバブルによる超音波洗浄液の洗浄力低下効果を抑制するように前記気体の溶存濃度を制御するように構成された、
請求項1乃至13のいずれかに記載の基板洗浄装置。 - 前記ノズルは第1ノズルおよび第2ノズルからなる、
請求項1乃至14のいずれかに記載の基板洗浄装置。 - 基板を研磨する基板研磨装置と、研磨後の基板を洗浄する複数の基板洗浄装置と、洗浄後の基板を乾燥させる基板乾燥装置と、を備えた基板処理装置であって、
前記複数の基板洗浄装置の1つとして、請求項1乃至15のいずれかに記載の基板洗浄装置を含む、基板処理装置。 - 洗浄液に水素、オゾン、二酸化炭素のいずれかから選択された気体をマイクロバブルとして導入するマイクロバブル導入工程と、
前記マイクロバブル導入工程後の洗浄液に溶存するマイクロバブルのうち所定の大きさのマイクロバブルをフィルタで除去する工程と、
前記フィルタを通過させた洗浄液に超音波を付与して超音波洗浄液を生成する超音波洗浄液生成工程と、
基板の所定面に向かって前記超音波洗浄液をノズルから噴射する噴射工程と、
を備えた基板洗浄方法。 - 前記マイクロバブル導入工程において、溶存マイクロバブルによる超音波洗浄液の洗浄力低下効果を抑制するように前記気体の前記洗浄液への溶存濃度を制御する、請求項17に記載の基板洗浄方法。
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