JP3145177B2 - スピン洗浄乾燥装置 - Google Patents
スピン洗浄乾燥装置Info
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- JP3145177B2 JP3145177B2 JP11960392A JP11960392A JP3145177B2 JP 3145177 B2 JP3145177 B2 JP 3145177B2 JP 11960392 A JP11960392 A JP 11960392A JP 11960392 A JP11960392 A JP 11960392A JP 3145177 B2 JP3145177 B2 JP 3145177B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、スピン洗浄乾燥装置に
関するものである。
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、液晶表示装置用ガラス基板を洗浄
する装置には、基板を回転させながら薬液により洗浄を
行う工程と、基板を高速回転させて乾燥を行う工程を持
ったスピン洗浄乾燥装置が用いられていた。
する装置には、基板を回転させながら薬液により洗浄を
行う工程と、基板を高速回転させて乾燥を行う工程を持
ったスピン洗浄乾燥装置が用いられていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】前記従来のスピン洗浄
乾燥装置にあっては、基板の乾燥工程において、回転終
了後の基板下面に、吹き飛ばされなかった水滴或いは周
りから飛散されずに残留した水滴が残る場合があり、シ
ミやヨゴレの原因となり、後工程に影響を及ぼす要因と
なっていた。
乾燥装置にあっては、基板の乾燥工程において、回転終
了後の基板下面に、吹き飛ばされなかった水滴或いは周
りから飛散されずに残留した水滴が残る場合があり、シ
ミやヨゴレの原因となり、後工程に影響を及ぼす要因と
なっていた。
【０００４】例として表１に従来のスピン洗浄乾燥を用
いて基板サイズ縦；横；厚みがそれぞれ、３００ｍｍ、
３００ｍｍ、１．１ｍｍのガラス基板を、洗浄乾燥した
場合の裏面での大きさ１ｍｍ2 の水滴が発生した比較を
示す。
いて基板サイズ縦；横；厚みがそれぞれ、３００ｍｍ、
３００ｍｍ、１．１ｍｍのガラス基板を、洗浄乾燥した
場合の裏面での大きさ１ｍｍ2 の水滴が発生した比較を
示す。
【表１】
【０００５】本発明は基板下面に残留する水滴をなく
し、効率よく乾燥することができる装置を提供しようと
するものである。
し、効率よく乾燥することができる装置を提供しようと
するものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は前記課題を解決
するために、筺体内に、多数のシャワーホールを設け、
上面に設けた複数個のスピンチャックで基板を保持する
シャワー板を、スピン駆動源で回転できるように設置
し、シャワー板の下面を小間隙をおいて囲繞するように
ステージを複数本のステージ保持棒で筺体に固定し、シ
ャワー板の上方に上部リンスノズルを下部に下部リンス
ノズルを設け、ステージにシャワー板のシャワーホール
から乾燥用気体を供給する下部ブロー導入管を取付け、
筺体の蓋に上部ブロー導入管を取付けたするスピン洗浄
乾燥装置を構成したものである。
するために、筺体内に、多数のシャワーホールを設け、
上面に設けた複数個のスピンチャックで基板を保持する
シャワー板を、スピン駆動源で回転できるように設置
し、シャワー板の下面を小間隙をおいて囲繞するように
ステージを複数本のステージ保持棒で筺体に固定し、シ
ャワー板の上方に上部リンスノズルを下部に下部リンス
ノズルを設け、ステージにシャワー板のシャワーホール
から乾燥用気体を供給する下部ブロー導入管を取付け、
筺体の蓋に上部ブロー導入管を取付けたするスピン洗浄
乾燥装置を構成したものである。
【０００７】
【作用】本発明は前記のように構成したもので、被洗浄
物である基板をスピンチャックで保持した後にスピン駆
動源でシャワー板を回転させ、上下部リンスノズルから
純水を吐出して洗浄し、洗浄後にスピン駆動源によりシ
ャワー板を高速回転させ、上部ブロー導入管から基板上
面に直接不活性ガスを当て、下部ブロー導管からはシャ
ワー板のシャワーホールから不活性ガスを基板の下面に
当てて乾燥する。
物である基板をスピンチャックで保持した後にスピン駆
動源でシャワー板を回転させ、上下部リンスノズルから
純水を吐出して洗浄し、洗浄後にスピン駆動源によりシ
ャワー板を高速回転させ、上部ブロー導入管から基板上
面に直接不活性ガスを当て、下部ブロー導管からはシャ
ワー板のシャワーホールから不活性ガスを基板の下面に
当てて乾燥する。
【０００８】
【実施例】本発明の実施例を図面に基づいて詳細に説明
する。筺体１の内部をスピンカップ２で仕切って水滴を
受けるように形成する。そして、筺体１の底にスピン駆
動源３を設置し、その一部をスピンカップ２を貫通さ
せ、軸４にシャワー板５を固定する。このシャワー板５
は径が４００ｍｍで厚さ５ｍｍの円形板で、図２に示す
ように多数のシャワーホール６，６…を放射状に設け、
更に上面４個所に基板７を保持するスピンチャック８，
８，…を設けている。又、シャワー板５の下面には小間
隙をおいてシャワー板５を囲繞するようにステージ９を
設け、スプンカップ２を貫通した複数本のステージ保持
棒１０，１０で筺体１の底に支持されている。
する。筺体１の内部をスピンカップ２で仕切って水滴を
受けるように形成する。そして、筺体１の底にスピン駆
動源３を設置し、その一部をスピンカップ２を貫通さ
せ、軸４にシャワー板５を固定する。このシャワー板５
は径が４００ｍｍで厚さ５ｍｍの円形板で、図２に示す
ように多数のシャワーホール６，６…を放射状に設け、
更に上面４個所に基板７を保持するスピンチャック８，
８，…を設けている。又、シャワー板５の下面には小間
隙をおいてシャワー板５を囲繞するようにステージ９を
設け、スプンカップ２を貫通した複数本のステージ保持
棒１０，１０で筺体１の底に支持されている。
【０００９】更に筺体１のスプンカップ２より上側の側
壁にリンスノズル駆動部１１を設け、これに上部リンス
ノズル１２を回動自在に取付、上部リンスノズル１２の
角度を変化させることにより基板７上へのシャワー位置
を変化させるようになっている。
壁にリンスノズル駆動部１１を設け、これに上部リンス
ノズル１２を回動自在に取付、上部リンスノズル１２の
角度を変化させることにより基板７上へのシャワー位置
を変化させるようになっている。
【００１０】又、筺体１の底にはスピンカップ２を貫通
して基板７の下面に薬液等をシャワーする下部リンスノ
ズル１３を設置している。又、前記ステージ９に下部ブ
ロー導入管１４を取付け、乾燥用の気体を基板７の下面
に供給するようになっている。上部ブロー導入管１５は
昇降できるようになっている蓋１６に取付けられてい
る。尚図１中１７はスピンカップ２に取付けられた排液
管である。
して基板７の下面に薬液等をシャワーする下部リンスノ
ズル１３を設置している。又、前記ステージ９に下部ブ
ロー導入管１４を取付け、乾燥用の気体を基板７の下面
に供給するようになっている。上部ブロー導入管１５は
昇降できるようになっている蓋１６に取付けられてい
る。尚図１中１７はスピンカップ２に取付けられた排液
管である。
【００１１】本実施例は前記のように構成したもので、
ガラス基板７は縦、横、厚みがそれぞれ３００ｍｍ，３
００ｍｍ，１．１ｍｍであり、シャワー板５上のスピン
チャック８，８，…固定保持されている。そして、スピ
ン駆動源３によりシャワー板５を５００〜１５００ｒｐ
ｍで回転させる。この回転中にリンスノズル駆動部１１
により上部により上部リンスノズル１２を回転させて所
望位置で停止させ、１０ｃｃ／ｍｉｎ〜３００ｃｃ／ｍ
ｉｎの流量で純水を噴出させてガラス基板７の上面を洗
浄する。
ガラス基板７は縦、横、厚みがそれぞれ３００ｍｍ，３
００ｍｍ，１．１ｍｍであり、シャワー板５上のスピン
チャック８，８，…固定保持されている。そして、スピ
ン駆動源３によりシャワー板５を５００〜１５００ｒｐ
ｍで回転させる。この回転中にリンスノズル駆動部１１
により上部により上部リンスノズル１２を回転させて所
望位置で停止させ、１０ｃｃ／ｍｉｎ〜３００ｃｃ／ｍ
ｉｎの流量で純水を噴出させてガラス基板７の上面を洗
浄する。
【００１２】一方、下部リンスノズル１３からガラス基
板７の下面に向かって、１０ｃｃ／／ｍｉｎ〜３００ｃ
ｃ／ｍｉｎの流量で純水を噴出させて下面を洗浄する。
尚、上下部リンスノズル１２，１３からの純水の噴出時
間は３ｓｅｃ〜１８０ｓｅｃであり洗浄後の水はスピン
カップ２で受け、排液管１７で外部に排出される。
板７の下面に向かって、１０ｃｃ／／ｍｉｎ〜３００ｃ
ｃ／ｍｉｎの流量で純水を噴出させて下面を洗浄する。
尚、上下部リンスノズル１２，１３からの純水の噴出時
間は３ｓｅｃ〜１８０ｓｅｃであり洗浄後の水はスピン
カップ２で受け、排液管１７で外部に排出される。
【００１３】洗浄後は純水の吹出しを停止させスピン駆
動源３を１，０００〜５，０００ｒｐｍの高速回転に切
替え、ガラス基板７を高速回転させる。この高速回転中
に上部ブロー導入管１５と下部ブロー導入管１４からシ
ャワー板５の多数のシャワーホール６，６，…を介して
窒素或はアルゴン等の不活性の気体をガラス基板７の上
下面に当て乾燥を行う。この乾燥時間は３ｓｅｃ〜１８
０ｓｅｃである。
動源３を１，０００〜５，０００ｒｐｍの高速回転に切
替え、ガラス基板７を高速回転させる。この高速回転中
に上部ブロー導入管１５と下部ブロー導入管１４からシ
ャワー板５の多数のシャワーホール６，６，…を介して
窒素或はアルゴン等の不活性の気体をガラス基板７の上
下面に当て乾燥を行う。この乾燥時間は３ｓｅｃ〜１８
０ｓｅｃである。
【００１４】前記実施例により洗浄乾燥を行った場合の
裏面での大きさ１ｍｍ2 の水滴が発生した比率を表２に
示す。
裏面での大きさ１ｍｍ2 の水滴が発生した比率を表２に
示す。
【表２】 表１と表２とを比較すると水滴の発生率が１／１０程度
に減少しており残留した水滴によるシミやヨゴレ等の後
工程での問題が改善された。尚、前記実施例においては
ガラス基板について説明したが、シリコンウエハにも実
施することができるものであり、シャワー板の孔の配置
も放射状だけではなく、任意の配置を行うことができる
ものである。
に減少しており残留した水滴によるシミやヨゴレ等の後
工程での問題が改善された。尚、前記実施例においては
ガラス基板について説明したが、シリコンウエハにも実
施することができるものであり、シャワー板の孔の配置
も放射状だけではなく、任意の配置を行うことができる
ものである。
【００１５】
【発明の効果】本発明においては被洗浄物の基板の裏面
に残留する水滴が従来に比し１／１０程度に減少させる
ことができ、後工程でのシミやヨゴレを防止することが
できる。
に残留する水滴が従来に比し１／１０程度に減少させる
ことができ、後工程でのシミやヨゴレを防止することが
できる。
【００１６】
【図１】本発明に係るスピン洗浄乾燥装置の一実施例の
蓋を上昇させた断面図。
蓋を上昇させた断面図。
【図２】シャワー板と下部リンスノズルとの配置を示す
平面図。
平面図。
１ 筺体 ２ スピンカップ ３ スピン駆動源 ４ 軸 ５ シャワー板 ６ シャワーホール ７ 基板 ８ スピンチャック ９ ステージ １０ ステージ保持棒 １１ リンスノズル駆動源 １２ 上部リンスノズル １３ 下部リンスノズル １４ 下部ブロー導入管 １５ 上部ブロー導入管 １６ 蓋 １７ 排液管
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/304 651 F26B 5/08 F26B 9/06
Claims (1)
- 【請求項１】 筺体内に、多数のシャワーホールを設
け、上面に設けた複数個のスピンチャックで基板を保持
するシャワー板をスピン駆動源で回転できるように設置
し、シャワー板の下面を小間隙をおいて囲繞するように
ステージを複数本のステージ保持棒で筺体に固定し、シ
ャワー板の上方に上部リンスノズルを下部に下部リンス
ノズルを設け、ステージにシャワー板のシャワーホール
から乾燥用気体を供給する下部ブロー導入管を取付け、
筺体の蓋に上部ブロー導入管を取付けたことを特徴とす
るスピン洗浄乾燥装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11960392A JP3145177B2 (ja) | 1992-04-14 | 1992-04-14 | スピン洗浄乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11960392A JP3145177B2 (ja) | 1992-04-14 | 1992-04-14 | スピン洗浄乾燥装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05291229A JPH05291229A (ja) | 1993-11-05 |
| JP3145177B2 true JP3145177B2 (ja) | 2001-03-12 |
Family
ID=14765486
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11960392A Expired - Fee Related JP3145177B2 (ja) | 1992-04-14 | 1992-04-14 | スピン洗浄乾燥装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3145177B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112161431A (zh) * | 2020-08-29 | 2021-01-01 | 江苏晶品新能源科技有限公司 | 一种大容量单晶硅片快速烘干系统 |
-
1992
- 1992-04-14 JP JP11960392A patent/JP3145177B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05291229A (ja) | 1993-11-05 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |