JP3113167B2 - スピン式洗浄装置 - Google Patents
スピン式洗浄装置Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体製造に使用される
シリコンウエハーの洗浄、液晶製造に使用されるガラス
基板の洗浄、電子部品に使用される高分子基板の洗浄及
び複合部材張り合わせ基板の洗浄等に適用でき、ゴミに
よる製品不良の低減を図ることができるスピン式洗浄装
置に関する。
シリコンウエハーの洗浄、液晶製造に使用されるガラス
基板の洗浄、電子部品に使用される高分子基板の洗浄及
び複合部材張り合わせ基板の洗浄等に適用でき、ゴミに
よる製品不良の低減を図ることができるスピン式洗浄装
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、液晶ディスプレイの製造工程
は、アモルファスシリコン等を形成する化学的気相成長
法（ＣＶＤ）による薄膜成膜工程と、導体電極を形成す
るスパッタリング法による薄膜成膜工程と、パターンニ
ングを形成するフォトリソグラフィー法とエッチング法
との組み合わせによるパターンニング工程とからなる。
各工程で良品率に影響を及ぼす最大因子はゴミによる微
小欠陥とであると考えられる。すなわち、ゴミは成膜欠
陥、エッチング不良を誘因し、最終的に検査工程におい
て特性不良をもたらす。
は、アモルファスシリコン等を形成する化学的気相成長
法（ＣＶＤ）による薄膜成膜工程と、導体電極を形成す
るスパッタリング法による薄膜成膜工程と、パターンニ
ングを形成するフォトリソグラフィー法とエッチング法
との組み合わせによるパターンニング工程とからなる。
各工程で良品率に影響を及ぼす最大因子はゴミによる微
小欠陥とであると考えられる。すなわち、ゴミは成膜欠
陥、エッチング不良を誘因し、最終的に検査工程におい
て特性不良をもたらす。
【０００３】ゴミによる特性不良を低減すべく、外部か
らのゴミの進入を防止するシールドと、内部からのゴミ
の発生を防止する空調設備とを備えたクリーンルームに
て液晶ディスプレイを製造している。しかしながら、ク
リーンルームだけでは高度技術を要求する液晶基板を製
造する上で、高品質と高良品率を維持するのは困難であ
る。
らのゴミの進入を防止するシールドと、内部からのゴミ
の発生を防止する空調設備とを備えたクリーンルームに
て液晶ディスプレイを製造している。しかしながら、ク
リーンルームだけでは高度技術を要求する液晶基板を製
造する上で、高品質と高良品率を維持するのは困難であ
る。
【０００４】そこで、各工程の前後に基板を洗浄し、基
板上のゴミを除去する洗浄工程を追加することがある。
洗浄方式には、スピン洗浄、シャワー洗浄、ブラシ洗
浄、超音波洗浄等がある。その中で、スピン洗浄は洗浄
工程と乾燥工程とを高速で行い、薬液の使用も行えると
いう利点を持ち合わせている。
板上のゴミを除去する洗浄工程を追加することがある。
洗浄方式には、スピン洗浄、シャワー洗浄、ブラシ洗
浄、超音波洗浄等がある。その中で、スピン洗浄は洗浄
工程と乾燥工程とを高速で行い、薬液の使用も行えると
いう利点を持ち合わせている。
【０００５】図４は従来のスピン式洗浄装置を示す構成
図である。図４に示すように、従来のスピン式洗浄装置
は、基板２２を真空吸着により水平に固定する円盤状の
台座２３と、台座回転軸２４を介して前記台座２３を基
板２２と一体的に回転させる回転機構（図示せず）と、
基板２２を洗浄するための洗浄液及び洗浄気体を基板上
に吐出するノズル（図示せず）と、基板２２及び台座２
３と接触せず、洗浄液が装置外へ飛散するのを防止する
ために台座２３を内包するように固定された孤型の隔壁
２１と、基板２２を搬入搬出するための搬送装置（図示
せず）とから構成されている。なお、台座２３はその台
座回転軸２４が垂直となるように設置されている。
図である。図４に示すように、従来のスピン式洗浄装置
は、基板２２を真空吸着により水平に固定する円盤状の
台座２３と、台座回転軸２４を介して前記台座２３を基
板２２と一体的に回転させる回転機構（図示せず）と、
基板２２を洗浄するための洗浄液及び洗浄気体を基板上
に吐出するノズル（図示せず）と、基板２２及び台座２
３と接触せず、洗浄液が装置外へ飛散するのを防止する
ために台座２３を内包するように固定された孤型の隔壁
２１と、基板２２を搬入搬出するための搬送装置（図示
せず）とから構成されている。なお、台座２３はその台
座回転軸２４が垂直となるように設置されている。
【０００６】上記従来のスピン式洗浄装置を用いた場合
の洗浄工程は以下のとおりである。すなわち、（イ）搬
送装置により基板を装置内に搬入し、基板の中心を回転
機構の中心に設置する第一工程、（ロ）大気圧に比して
減圧した真空圧空気で台座に基板を真空吸着させて固定
する第二工程、（ハ）基板が台座に固定された状態で回
転機構により両者を一体的に回転する第三工程、（ニ）
回転している基板面に洗浄ノズルから洗浄液及び洗浄空
気を供給する第四工程、（ホ）台座を内包するように固
定された隔壁で洗浄液、洗浄空気の飛散を防止する第五
工程、（ヘ）洗浄液、洗浄空気の供給を停止し、回転動
作を行っている基板上の液体を遠心力により基板から離
脱する第六工程、（ト）基板の回転動作を停止する第七
工程、（チ）台座内の真空圧力を大気圧に復圧させて、
台座に対する基板の固定を解除する第八工程、（リ）搬
送装置により基板を装置外へ搬出する第九工程からな
る。
の洗浄工程は以下のとおりである。すなわち、（イ）搬
送装置により基板を装置内に搬入し、基板の中心を回転
機構の中心に設置する第一工程、（ロ）大気圧に比して
減圧した真空圧空気で台座に基板を真空吸着させて固定
する第二工程、（ハ）基板が台座に固定された状態で回
転機構により両者を一体的に回転する第三工程、（ニ）
回転している基板面に洗浄ノズルから洗浄液及び洗浄空
気を供給する第四工程、（ホ）台座を内包するように固
定された隔壁で洗浄液、洗浄空気の飛散を防止する第五
工程、（ヘ）洗浄液、洗浄空気の供給を停止し、回転動
作を行っている基板上の液体を遠心力により基板から離
脱する第六工程、（ト）基板の回転動作を停止する第七
工程、（チ）台座内の真空圧力を大気圧に復圧させて、
台座に対する基板の固定を解除する第八工程、（リ）搬
送装置により基板を装置外へ搬出する第九工程からな
る。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のスピン式洗浄装置では、洗浄液が遠心力により基板
から離脱して隔壁と衝突した後に再び基板に飛散すると
いう二次汚染及び空気汚染による二次汚染が発生する虞
れがあるという問題がある。その理由は、一般に洗浄工
程の前後において、基板上に付着しているゴミの個数に
減少傾向が見られるにも拘わらず、その一方で増加傾向
が見られるといった特異な現象が現れるからである。
来のスピン式洗浄装置では、洗浄液が遠心力により基板
から離脱して隔壁と衝突した後に再び基板に飛散すると
いう二次汚染及び空気汚染による二次汚染が発生する虞
れがあるという問題がある。その理由は、一般に洗浄工
程の前後において、基板上に付着しているゴミの個数に
減少傾向が見られるにも拘わらず、その一方で増加傾向
が見られるといった特異な現象が現れるからである。
【０００８】本発明は、上記問題点を解決するためにな
されたものであり、洗浄液が遠心力により基板から離脱
して隔壁と衝突した後に基板及び空気に飛散するといっ
た二次汚染を低減し、良品率の向上をはかることができ
るスピン式洗浄装置を提供することを目的とする。
されたものであり、洗浄液が遠心力により基板から離脱
して隔壁と衝突した後に基板及び空気に飛散するといっ
た二次汚染を低減し、良品率の向上をはかることができ
るスピン式洗浄装置を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、基板
を水平に固定する固定装置と、該固定装置を基板と共に
回転させる回転機構と、基板を洗浄するための洗浄液及
び洗浄気体を基板上に吐出するノズルと、洗浄液の飛散
を防止するために前記固定装置を内包するように設けら
れた隔壁と、基板を搬入搬出するための搬送装置とを備
えたスピン式洗浄装置において、前記回転機構は前記隔
壁を前記固定装置と同軸で回転させることを特徴とする
スピン式洗浄装置である。
を水平に固定する固定装置と、該固定装置を基板と共に
回転させる回転機構と、基板を洗浄するための洗浄液及
び洗浄気体を基板上に吐出するノズルと、洗浄液の飛散
を防止するために前記固定装置を内包するように設けら
れた隔壁と、基板を搬入搬出するための搬送装置とを備
えたスピン式洗浄装置において、前記回転機構は前記隔
壁を前記固定装置と同軸で回転させることを特徴とする
スピン式洗浄装置である。
【００１０】請求項２の発明は、基板を水平に固定する
固定装置と、該固定装置を基板と共に回転させる回転機
構と、基板を洗浄するための洗浄液及び洗浄気体を基板
上に吐出するノズルと、洗浄液の飛散を防止するために
前記固定装置を内包するように設けられた隔壁と、基板
を搬入搬出するための搬送装置とを備えたスピン式洗浄
装置であって、さらに前記隔壁内部に洗浄液を流出する
独立した流出機構を設けたことを特徴とするスピン式洗
浄装置である。
固定装置と、該固定装置を基板と共に回転させる回転機
構と、基板を洗浄するための洗浄液及び洗浄気体を基板
上に吐出するノズルと、洗浄液の飛散を防止するために
前記固定装置を内包するように設けられた隔壁と、基板
を搬入搬出するための搬送装置とを備えたスピン式洗浄
装置であって、さらに前記隔壁内部に洗浄液を流出する
独立した流出機構を設けたことを特徴とするスピン式洗
浄装置である。
【００１１】請求項３の発明は、基板を水平に固定する
固定装置と、該固定装置を基板と共に回転させる回転機
構と、基板を洗浄するための洗浄液及び洗浄気体を基板
上に吐出するノズルと、洗浄液の飛散を防止するために
前記固定装置を内包するように設けられた隔壁と、基板
を搬入搬出するための搬送装置とを備えたスピン式洗浄
装置であって、さらに前記隔壁内部に洗浄液と洗浄気体
とを吸引する独立した吸引機構を設けたことを特徴とす
るスピン式洗浄装置である。
固定装置と、該固定装置を基板と共に回転させる回転機
構と、基板を洗浄するための洗浄液及び洗浄気体を基板
上に吐出するノズルと、洗浄液の飛散を防止するために
前記固定装置を内包するように設けられた隔壁と、基板
を搬入搬出するための搬送装置とを備えたスピン式洗浄
装置であって、さらに前記隔壁内部に洗浄液と洗浄気体
とを吸引する独立した吸引機構を設けたことを特徴とす
るスピン式洗浄装置である。
【００１２】
【作用】請求項１のスピン式洗浄装置によれば、洗浄液
の飛散を防止するために基板を水平に固定する固定装置
を内包するように設けられた隔壁が、回転機構により該
固定装置と同軸で回転させられるので、基板の回転によ
る回転力と遠心力とを併せ持つ汚染した洗浄液が隔壁に
衝突する際の運動学的相対エネルギーが低下する。
の飛散を防止するために基板を水平に固定する固定装置
を内包するように設けられた隔壁が、回転機構により該
固定装置と同軸で回転させられるので、基板の回転によ
る回転力と遠心力とを併せ持つ汚染した洗浄液が隔壁に
衝突する際の運動学的相対エネルギーが低下する。
【００１３】請求項２のスピン式洗浄装置によれば、洗
浄液の飛散を防止するために基板を水平に固定する固定
装置を内包するように設けられた隔壁の内部に、洗浄液
を流出する独立した流出機構が設けられているので、該
流出機構から流出された洗浄液は、隔壁に衝突する基板
からの洗浄液の緩衝物質としての役割を果たす。
浄液の飛散を防止するために基板を水平に固定する固定
装置を内包するように設けられた隔壁の内部に、洗浄液
を流出する独立した流出機構が設けられているので、該
流出機構から流出された洗浄液は、隔壁に衝突する基板
からの洗浄液の緩衝物質としての役割を果たす。
【００１４】請求項３のスピン式洗浄装置によれば、洗
浄液の飛散を防止するために基板を水平に固定する固定
装置を内包するように設けられた隔壁の内部に、洗浄液
と洗浄気体とを吸引する独立した吸引機構が設けられて
いるので、装置雰囲気を汚染する基板を洗浄した後の洗
浄液及び洗浄気体が該吸引機構により強制的に吸引さ
れ、回収される。
浄液の飛散を防止するために基板を水平に固定する固定
装置を内包するように設けられた隔壁の内部に、洗浄液
と洗浄気体とを吸引する独立した吸引機構が設けられて
いるので、装置雰囲気を汚染する基板を洗浄した後の洗
浄液及び洗浄気体が該吸引機構により強制的に吸引さ
れ、回収される。
【００１５】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細
に説明する。図１（ａ）は本発明にかかるスピン式洗浄
装置の第一実施例を示す概略平面図であり、（ｂ）は概
略正面図である。図１に示すように、第一実施例のスピ
ン式洗浄装置は、基板２を真空吸着により水平に固定す
る円盤状の台座３と、台座回転軸４を介して台座３を基
板２と一体的に回転させる回転機構（図示せず）と、基
板２を洗浄するための洗浄液及び洗浄気体を基板上に吐
出するノズル（図示せず）と、基板２及び台座３と接触
せず、洗浄液が装置外へ飛散するのを防止するために台
座３を内包するように設けられた孤型の隔壁１と、基板
２を搬入搬出するための搬送装置（図示せず）とから構
成されている。なお、台座３はその台座回転軸４が垂直
となるように設置されている。さらに、回転機構は台座
回転軸４と隔壁回転軸５とを一体的に回転させ、これに
より、隔壁１は台座３と同軸で回転する。したがって、
基板２から隔壁１へ向かう汚染された洗浄液の角速度
と、隔壁１の角速度とを等しくすれば、汚染された洗浄
液と隔壁１との衝突エネルギーを最小限にすることがで
きる。
に説明する。図１（ａ）は本発明にかかるスピン式洗浄
装置の第一実施例を示す概略平面図であり、（ｂ）は概
略正面図である。図１に示すように、第一実施例のスピ
ン式洗浄装置は、基板２を真空吸着により水平に固定す
る円盤状の台座３と、台座回転軸４を介して台座３を基
板２と一体的に回転させる回転機構（図示せず）と、基
板２を洗浄するための洗浄液及び洗浄気体を基板上に吐
出するノズル（図示せず）と、基板２及び台座３と接触
せず、洗浄液が装置外へ飛散するのを防止するために台
座３を内包するように設けられた孤型の隔壁１と、基板
２を搬入搬出するための搬送装置（図示せず）とから構
成されている。なお、台座３はその台座回転軸４が垂直
となるように設置されている。さらに、回転機構は台座
回転軸４と隔壁回転軸５とを一体的に回転させ、これに
より、隔壁１は台座３と同軸で回転する。したがって、
基板２から隔壁１へ向かう汚染された洗浄液の角速度
と、隔壁１の角速度とを等しくすれば、汚染された洗浄
液と隔壁１との衝突エネルギーを最小限にすることがで
きる。
【００１６】上記スピン式洗浄装置による基板の洗浄工
程は、受け入れ時点、成膜工程前、パターニング形成工
程前、エッチング工程後及び払い出し前に行われる。こ
れにより、搬送中の基板に付着したパーティクル（ゴ
ミ）を除去し、あるいは成膜工程、エッチング工程にて
発生して基板に付着したパーティクルを除去することが
できる。製造工程において最も良品率に関与するのはパ
ーティクルの発生を抑える技術と、パーティクルの除去
技術である。したがって、上記スピン式洗浄装置を用い
て行われる基板の洗浄は、パーティクルの除去に非常に
効果的であり、良品率の向上に多大な貢献をもたらす。
程は、受け入れ時点、成膜工程前、パターニング形成工
程前、エッチング工程後及び払い出し前に行われる。こ
れにより、搬送中の基板に付着したパーティクル（ゴ
ミ）を除去し、あるいは成膜工程、エッチング工程にて
発生して基板に付着したパーティクルを除去することが
できる。製造工程において最も良品率に関与するのはパ
ーティクルの発生を抑える技術と、パーティクルの除去
技術である。したがって、上記スピン式洗浄装置を用い
て行われる基板の洗浄は、パーティクルの除去に非常に
効果的であり、良品率の向上に多大な貢献をもたらす。
【００１７】また、洗浄方法は薬液を使用する湿式洗浄
（ウェット洗浄）と、薬液を使用しない乾式洗浄（ドラ
イ洗浄）とに分類される。本発明における洗浄はウェッ
ト洗浄に相当する。ウェット洗浄に使用される薬液とし
ては、純水、有機溶剤、界面活性剤、酸及びアルカリが
選択される。さらにウェット洗浄には、薬液による化学
反応力だけで行うもの、遠心力を付加するもの、超音波
振動を付加するもの、薬液をノズルから高速噴射させる
もの、ブラシによる物理力を付加するものがあり、組み
合わせは様々である。本発明のように、薬液と遠心力と
を利用するスピン式洗浄装置は乾燥工程の時間短縮が図
れる点で優れている。一方、ドライ洗浄は超音波振動、
高速エアーによる吹き付け、反応性ガス、紫外線を使用
して行われる。ドライ洗浄は薬液の乾燥時間を必要とせ
ず、工程時間の短縮が期待されているが、現在のところ
主流にはなり得ていない。
（ウェット洗浄）と、薬液を使用しない乾式洗浄（ドラ
イ洗浄）とに分類される。本発明における洗浄はウェッ
ト洗浄に相当する。ウェット洗浄に使用される薬液とし
ては、純水、有機溶剤、界面活性剤、酸及びアルカリが
選択される。さらにウェット洗浄には、薬液による化学
反応力だけで行うもの、遠心力を付加するもの、超音波
振動を付加するもの、薬液をノズルから高速噴射させる
もの、ブラシによる物理力を付加するものがあり、組み
合わせは様々である。本発明のように、薬液と遠心力と
を利用するスピン式洗浄装置は乾燥工程の時間短縮が図
れる点で優れている。一方、ドライ洗浄は超音波振動、
高速エアーによる吹き付け、反応性ガス、紫外線を使用
して行われる。ドライ洗浄は薬液の乾燥時間を必要とせ
ず、工程時間の短縮が期待されているが、現在のところ
主流にはなり得ていない。
【００１８】図２（ａ）は本発明にかかるスピン式洗浄
装置の第二実施例を示す概略平面図であり、（ｂ）は概
略正面図である。図２に示すように、第二実施例のスピ
ン式洗浄装置は、基板２を真空吸着により水平に固定す
る円盤状の台座３と、台座回転軸４を介して台座３を基
板２と一体的に回転させる回転機構（図示せず）と、基
板２を洗浄するための洗浄液及び洗浄気体を基板上に吐
出するノズル（図示せず）と、基板２及び台座３と接触
せず、洗浄液が装置外へ飛散するのを防止するために台
座３を内包するように設けられた孤型の隔壁６と、基板
２を搬入搬出するための搬送装置（図示せず）と、隔壁
６の内部に設けられた隔壁用洗浄液を射出する射出ノズ
ル７とから構成されている。なお、台座３はその台座回
転軸４が垂直となるように設置されている。本実施例の
スピン式洗浄装置による基板の洗浄工程については、上
記第一実施例で説明したとおりである。
装置の第二実施例を示す概略平面図であり、（ｂ）は概
略正面図である。図２に示すように、第二実施例のスピ
ン式洗浄装置は、基板２を真空吸着により水平に固定す
る円盤状の台座３と、台座回転軸４を介して台座３を基
板２と一体的に回転させる回転機構（図示せず）と、基
板２を洗浄するための洗浄液及び洗浄気体を基板上に吐
出するノズル（図示せず）と、基板２及び台座３と接触
せず、洗浄液が装置外へ飛散するのを防止するために台
座３を内包するように設けられた孤型の隔壁６と、基板
２を搬入搬出するための搬送装置（図示せず）と、隔壁
６の内部に設けられた隔壁用洗浄液を射出する射出ノズ
ル７とから構成されている。なお、台座３はその台座回
転軸４が垂直となるように設置されている。本実施例の
スピン式洗浄装置による基板の洗浄工程については、上
記第一実施例で説明したとおりである。
【００１９】図３（ａ）は本発明にかかるスピン式洗浄
装置の第三実施例を示す概略平面図であり、（ｂ）は概
略正面図である。図３に示すように、第三実施例のスピ
ン式洗浄装置は、基板２を真空吸着により水平に固定す
る円盤状の台座３と、台座回転軸４を介して台座３を基
板２と一体的に回転させる回転機構（図示せず）と、基
板２を洗浄するための洗浄液及び洗浄気体を基板上に吐
出するノズル（図示せず）と、基板２及び台座３と接触
せず、洗浄液が装置外へ飛散するのを防止するために台
座３を内包するように設けられた孤型の隔壁６と、基板
２を搬入搬出するための搬送装置（図示せず）と、隔壁
６の内部に設けられ、かつ、隔壁６に到達した汚染洗浄
液及び汚染洗浄気体を強制的に吸引する吸引ノズル８と
から構成されている。なお、台座３はその台座回転軸４
が垂直となるように設置されている。本実施例のスピン
式洗浄装置による基板の洗浄工程については、上記第一
実施例で説明したとおりである。
装置の第三実施例を示す概略平面図であり、（ｂ）は概
略正面図である。図３に示すように、第三実施例のスピ
ン式洗浄装置は、基板２を真空吸着により水平に固定す
る円盤状の台座３と、台座回転軸４を介して台座３を基
板２と一体的に回転させる回転機構（図示せず）と、基
板２を洗浄するための洗浄液及び洗浄気体を基板上に吐
出するノズル（図示せず）と、基板２及び台座３と接触
せず、洗浄液が装置外へ飛散するのを防止するために台
座３を内包するように設けられた孤型の隔壁６と、基板
２を搬入搬出するための搬送装置（図示せず）と、隔壁
６の内部に設けられ、かつ、隔壁６に到達した汚染洗浄
液及び汚染洗浄気体を強制的に吸引する吸引ノズル８と
から構成されている。なお、台座３はその台座回転軸４
が垂直となるように設置されている。本実施例のスピン
式洗浄装置による基板の洗浄工程については、上記第一
実施例で説明したとおりである。
【００２０】なお、上記実施例において、本発明にかか
る三種のスピン式洗浄装置をそれぞれ個別に説明した
が、これらのスピン式洗浄装置は単独においてもゴミの
低減に効果的であり、洗浄性能を向上させるが、これら
のスピン式洗浄装置を組み合わせることによってさらに
洗浄性能を向上させることが可能である。また、本発明
にかかるスピン式洗浄装置はスピン式コーティング装置
等にも応用でき、基板は半導体、導体、絶縁体を問わず
いかなるものも使用でき、薄膜成膜工程の歩留まり向上
に有効な技術である。
る三種のスピン式洗浄装置をそれぞれ個別に説明した
が、これらのスピン式洗浄装置は単独においてもゴミの
低減に効果的であり、洗浄性能を向上させるが、これら
のスピン式洗浄装置を組み合わせることによってさらに
洗浄性能を向上させることが可能である。また、本発明
にかかるスピン式洗浄装置はスピン式コーティング装置
等にも応用でき、基板は半導体、導体、絶縁体を問わず
いかなるものも使用でき、薄膜成膜工程の歩留まり向上
に有効な技術である。
【００２１】
【発明の効果】請求項１のスピン式洗浄装置によれば、
洗浄液の飛散を防止するために固定装置を内包するよう
に設けられた隔壁を、回転機構により該固定装置と同軸
で回転させることにより、汚染された洗浄液と隔壁の衝
突エネルギーを低減することができるので、汚染された
洗浄液が隔壁に衝突して基板上に飛散するという二次汚
染を抑制することができる。また、このように隔壁を回
転させることにより、粘性流体である気体は隔壁周辺部
にて隔壁の回転運動に引きずられるように運動する。従
って、基板の中心から隔壁方向を考えた場合、基板の回
転中心の気体圧力より隔壁周辺の気体圧力は低いため
に、基板の回転中心から隔壁方向へ洗浄気体は加速され
る。その結果、隔壁周辺部の気体は基板側へ向かうこと
ができず、隔壁からの二次汚染を減少させることができ
る。
洗浄液の飛散を防止するために固定装置を内包するよう
に設けられた隔壁を、回転機構により該固定装置と同軸
で回転させることにより、汚染された洗浄液と隔壁の衝
突エネルギーを低減することができるので、汚染された
洗浄液が隔壁に衝突して基板上に飛散するという二次汚
染を抑制することができる。また、このように隔壁を回
転させることにより、粘性流体である気体は隔壁周辺部
にて隔壁の回転運動に引きずられるように運動する。従
って、基板の中心から隔壁方向を考えた場合、基板の回
転中心の気体圧力より隔壁周辺の気体圧力は低いため
に、基板の回転中心から隔壁方向へ洗浄気体は加速され
る。その結果、隔壁周辺部の気体は基板側へ向かうこと
ができず、隔壁からの二次汚染を減少させることができ
る。
【００２２】請求項２のスピン式洗浄装置によれば、洗
浄液の飛散を防止するために固定装置を内包するように
設けられた隔壁の内部に、隔壁用洗浄液を流出する独立
した流出機構を設けることにより、隔壁用洗浄液は基板
からの汚染された洗浄液が隔壁に衝突する際の衝突エネ
ルギーを分散し、隔壁からの汚染洗浄液の跳ね返りを防
止することができ、二次汚染の減少を図ることができ
る。さらに隔壁用洗浄液は隔壁の汚れを防止するため、
さらに二次汚染を減少させることができる。
浄液の飛散を防止するために固定装置を内包するように
設けられた隔壁の内部に、隔壁用洗浄液を流出する独立
した流出機構を設けることにより、隔壁用洗浄液は基板
からの汚染された洗浄液が隔壁に衝突する際の衝突エネ
ルギーを分散し、隔壁からの汚染洗浄液の跳ね返りを防
止することができ、二次汚染の減少を図ることができ
る。さらに隔壁用洗浄液は隔壁の汚れを防止するため、
さらに二次汚染を減少させることができる。
【００２３】請求項３のスピン式洗浄装置によれば、洗
浄液の飛散を防止するために固定装置を内包するように
設けられた隔壁の内部に、隔壁に集まった洗浄液と洗浄
気体とを吸引する独立した吸引機構を設けることによ
り、汚染洗浄液及び汚染洗浄気体を該吸引機構により強
制的に回収し、環境大気の汚染を防止し、二次汚染の低
減を図ることができる。すなわち、汚染洗浄液中のゴミ
が大気中のゴミに比して多い場合、汚染洗浄液を装置近
辺に放置する時間に比例して環境大気の汚染濃度が上昇
するので、汚染洗浄液を上記手段で短時間に回収するこ
とにより二次汚染の減少を図ることができ、良品率は向
上する。
浄液の飛散を防止するために固定装置を内包するように
設けられた隔壁の内部に、隔壁に集まった洗浄液と洗浄
気体とを吸引する独立した吸引機構を設けることによ
り、汚染洗浄液及び汚染洗浄気体を該吸引機構により強
制的に回収し、環境大気の汚染を防止し、二次汚染の低
減を図ることができる。すなわち、汚染洗浄液中のゴミ
が大気中のゴミに比して多い場合、汚染洗浄液を装置近
辺に放置する時間に比例して環境大気の汚染濃度が上昇
するので、汚染洗浄液を上記手段で短時間に回収するこ
とにより二次汚染の減少を図ることができ、良品率は向
上する。
【図１】（ａ）は本発明にかかるスピン式洗浄装置の第
一実施例を示す概略平面図であり、（ｂ）は概略正面図
である。
一実施例を示す概略平面図であり、（ｂ）は概略正面図
である。
【図２】（ａ）は本発明にかかるスピン式洗浄装置の第
二実施例を示す概略平面図であり、（ｂ）は概略正面図
である。
二実施例を示す概略平面図であり、（ｂ）は概略正面図
である。
【図３】（ａ）は本発明にかかるスピン式洗浄装置の第
三実施例を示す概略平面図であり、（ｂ）は概略正面図
である。
三実施例を示す概略平面図であり、（ｂ）は概略正面図
である。
【図４】（ａ）は従来のスピン式洗浄装置を示す概略平
面図であり、（ｂ）は概略正面図である。
面図であり、（ｂ）は概略正面図である。
１ 隔壁 ２ 基板 ３ 台座 ４ 台座回転軸 ５ 隔壁回転軸
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ // Ｈ０５Ｋ 3/26 Ｈ０５Ｋ 3/26 Ａ (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B08B 3/02 B08B 5/02 - 5/04 G02F 1/13 H01L 21/304 H05K 3/26
Claims (3)
- 【請求項１】 基板を水平に固定する固定装置と、該固
定装置を基板と共に回転させる回転機構と、基板を洗浄
するための洗浄液及び洗浄気体を基板上に吐出するノズ
ルと、洗浄液の飛散を防止するために前記固定装置を内
包するように設けられた隔壁と、基板を搬入搬出するた
めの搬送装置とを備えたスピン式洗浄装置において、前
記回転機構は前記隔壁を前記固定装置と同軸で回転させ
ることを特徴とするスピン式洗浄装置。 - 【請求項２】 基板を水平に固定する固定装置と、該固
定装置を基板と共に回転させる回転機構と、基板を洗浄
するための洗浄液及び洗浄気体を基板上に吐出するノズ
ルと、洗浄液の飛散を防止するために前記固定装置を内
包するように設けられた隔壁と、基板を搬入搬出するた
めの搬送装置とを備えたスピン式洗浄装置であって、さ
らに前記隔壁内部に洗浄液を流出する独立した流出機構
を設けたことを特徴とするスピン式洗浄装置。 - 【請求項３】 基板を水平に固定する固定装置と、該固
定装置を基板と共に回転させる回転機構と、基板を洗浄
するための洗浄液及び洗浄気体を基板上に吐出するノズ
ルと、洗浄液の飛散を防止するために前記固定装置を内
包するように設けられた隔壁と、基板を搬入搬出するた
めの搬送装置とを備えたスピン式洗浄装置であって、さ
らに前記隔壁内部に洗浄液と洗浄気体とを吸引する独立
した吸引機構を設けたことを特徴とするスピン式洗浄装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07063755A JP3113167B2 (ja) | 1995-03-23 | 1995-03-23 | スピン式洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07063755A JP3113167B2 (ja) | 1995-03-23 | 1995-03-23 | スピン式洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08257511A JPH08257511A (ja) | 1996-10-08 |
| JP3113167B2 true JP3113167B2 (ja) | 2000-11-27 |
Family
ID=13238536
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP07063755A Expired - Fee Related JP3113167B2 (ja) | 1995-03-23 | 1995-03-23 | スピン式洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3113167B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103091090B (zh) * | 2013-01-09 | 2015-03-25 | 昆山鸿志犀自动化机电设备有限公司 | 带清扫机构的键帽拉拔力测试装置 |
| DE102015221646A1 (de) * | 2015-11-04 | 2017-05-04 | Gebr. Schmid Gmbh | Behandlungsfluid-Absaugvorrichtung und diese enthaltende Ätzvorrichtung |
-
1995
- 1995-03-23 JP JP07063755A patent/JP3113167B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08257511A (ja) | 1996-10-08 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |