JP2906783B2 - 処理装置 - Google Patents
処理装置Info
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- JP2906783B2 JP2906783B2 JP30245191A JP30245191A JP2906783B2 JP 2906783 B2 JP2906783 B2 JP 2906783B2 JP 30245191 A JP30245191 A JP 30245191A JP 30245191 A JP30245191 A JP 30245191A JP 2906783 B2 JP2906783 B2 JP 2906783B2
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- processing apparatus
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般、ＬＣＤ（液晶ディスプレイ）装置
の製造工程においては、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ
Ｏｘｃｉｄｅ）薄膜や電極パターン等の微細パターン
を形成するために、フォトレジスト塗布工程から露光・
現像に至る一連の写真製版工程を含むリソグラフィ技術
が用いられている。そして、フォトレジストを塗布する
コーティング装置としては、例えば図４に示す装置が知
られている。
の製造工程においては、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ
Ｏｘｃｉｄｅ）薄膜や電極パターン等の微細パターン
を形成するために、フォトレジスト塗布工程から露光・
現像に至る一連の写真製版工程を含むリソグラフィ技術
が用いられている。そして、フォトレジストを塗布する
コーティング装置としては、例えば図４に示す装置が知
られている。
【０００３】図５は従来のコーティング装置の概略斜視
図を示し、長方形乃至矩形状に成形された比較的大面積
のＬＣＤ基板２は、中央部に回転可能に設けられたチャ
ッキング４の上端部に真空チャックにより吸引保持され
ており、この基板２は、その上部開口部が円形になされ
た内側容器６の開口部近傍に収容されて、フォトレジス
トを遠心力を利用して拡散塗布する際に、上記基板２と
一体的に回転し得るように構成されている。このように
矩形状のＬＣＤ基板を回転コーティングすると、この矩
形状の基板の内接円に相当する部分には非常に優れた厚
さの均一な膜を形成するが、それ以外の周辺部には不均
一膜を形成する傾向となり、この不均一性をなくすため
に回転時に生じる気流の乱れを極力低減させる目的で、
上記のように内側容器６を基板２と伴に回転させるので
ある。また、内側容器６内の雰囲気はその下部より吸引
排気されている。そして、この内側容器６の外側には、
上方を開放してこの全体を被うように外側容器８が固定
させて設けられている。また、他の従来装置として特開
昭５７−６３１６６号公報に示すように、被処理体基板
よりも面積の大きい回転ヘッドを設けると共に、この上
面に凹部状の基板収容部を形成して、回転塗布時に正方
形または矩形状基板の上面に空気の乱流が発生すること
を防止した装置が知られている。
図を示し、長方形乃至矩形状に成形された比較的大面積
のＬＣＤ基板２は、中央部に回転可能に設けられたチャ
ッキング４の上端部に真空チャックにより吸引保持され
ており、この基板２は、その上部開口部が円形になされ
た内側容器６の開口部近傍に収容されて、フォトレジス
トを遠心力を利用して拡散塗布する際に、上記基板２と
一体的に回転し得るように構成されている。このように
矩形状のＬＣＤ基板を回転コーティングすると、この矩
形状の基板の内接円に相当する部分には非常に優れた厚
さの均一な膜を形成するが、それ以外の周辺部には不均
一膜を形成する傾向となり、この不均一性をなくすため
に回転時に生じる気流の乱れを極力低減させる目的で、
上記のように内側容器６を基板２と伴に回転させるので
ある。また、内側容器６内の雰囲気はその下部より吸引
排気されている。そして、この内側容器６の外側には、
上方を開放してこの全体を被うように外側容器８が固定
させて設けられている。また、他の従来装置として特開
昭５７−６３１６６号公報に示すように、被処理体基板
よりも面積の大きい回転ヘッドを設けると共に、この上
面に凹部状の基板収容部を形成して、回転塗布時に正方
形または矩形状基板の上面に空気の乱流が発生すること
を防止した装置が知られている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記した図
５に示す従来のコーティング装置にあっては、回転時に
生じる気流の乱れを抑制するために内側容器６とＬＣＤ
基板２とを一体的に回転させるようにしているにもかか
わらず、ＬＣＤ基板２が矩形状であるのに対して内側容
器６の開口部形状が円形であるので、この基板２の周縁
部と内側容器６の開口端部との間の距離が基板２の周縁
部の個々のポイントで異なり、これがために回転時に気
流の乱れが生じてフォトレジストのはね返り、すなわち
スプラッシュバックが誘発され、歩留りが低下するとい
う改善点を有していた。
５に示す従来のコーティング装置にあっては、回転時に
生じる気流の乱れを抑制するために内側容器６とＬＣＤ
基板２とを一体的に回転させるようにしているにもかか
わらず、ＬＣＤ基板２が矩形状であるのに対して内側容
器６の開口部形状が円形であるので、この基板２の周縁
部と内側容器６の開口端部との間の距離が基板２の周縁
部の個々のポイントで異なり、これがために回転時に気
流の乱れが生じてフォトレジストのはね返り、すなわち
スプラッシュバックが誘発され、歩留りが低下するとい
う改善点を有していた。
【０００５】上記したフォトレジストのスプラッシュバ
ックの問題は、ＬＣＤ基板２の寸法が小さい場合にはほ
とんど目立たず問題とはならなかったが、技術革新と伴
にＬＣＤ基板が例えば縦横３００×４００ｍｍと大型化
してきた状況下においては、無視し得なくなり、上記し
た問題点の解決が強く望まれている。また、上記公報に
示される従来装置にあっては、被処理体の上面が回転ヘ
ッドの上面からほとんど突出していないとはいえ、この
装置の周辺部の気流の変化による影響を受けてしまい、
完全に乱流の発生を阻止することは困難である。本発明
は、以上のような問題点に着目し、これを有効に解決す
べく創案されたものである。本発明の目的は、回転塗布
時における気流の乱れを抑制して処理液を均一の厚さに
塗布することができる処理装置を提供することにある。
ックの問題は、ＬＣＤ基板２の寸法が小さい場合にはほ
とんど目立たず問題とはならなかったが、技術革新と伴
にＬＣＤ基板が例えば縦横３００×４００ｍｍと大型化
してきた状況下においては、無視し得なくなり、上記し
た問題点の解決が強く望まれている。また、上記公報に
示される従来装置にあっては、被処理体の上面が回転ヘ
ッドの上面からほとんど突出していないとはいえ、この
装置の周辺部の気流の変化による影響を受けてしまい、
完全に乱流の発生を阻止することは困難である。本発明
は、以上のような問題点に着目し、これを有効に解決す
べく創案されたものである。本発明の目的は、回転塗布
時における気流の乱れを抑制して処理液を均一の厚さに
塗布することができる処理装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記問題点を
解決するために、円形以外の多角形状に成形された平板
状の被処理体を回転可能に保持する回転保持手段と、前
記回転保持手段により保持された前記被処理体の表面に
処理液を供給する処理液供給手段と、前記回転保持手段
に保持された前記被処理体を収容しつつ、この被処理体
の周縁部との間の距離がその外周方向に沿って実質的に
同一になる開口端部を有して前記被処理体と一体的に回
転する回転容器と、前記回転容器内の雰囲気を排気する
排気手段とを備えるように構成したものである。
解決するために、円形以外の多角形状に成形された平板
状の被処理体を回転可能に保持する回転保持手段と、前
記回転保持手段により保持された前記被処理体の表面に
処理液を供給する処理液供給手段と、前記回転保持手段
に保持された前記被処理体を収容しつつ、この被処理体
の周縁部との間の距離がその外周方向に沿って実質的に
同一になる開口端部を有して前記被処理体と一体的に回
転する回転容器と、前記回転容器内の雰囲気を排気する
排気手段とを備えるように構成したものである。
【０００７】
【作用】本発明は、以上のように構成したので、多角形
状に成形された平板状の被処理体は回転保持手段に保持
され、この状態で被処理体は回転容器内で一体的に回転
しつつ被処理液供給手段から供給された被処理液を遠心
力により拡散させて基板表面に処理液を塗布する。この
回転塗布時に回転容器内はその下部より排気手段により
吸引排気され、そして、回転容器の開口部の形状は基板
の形状より僅かに大きい相似形状になされているので、
上記被処理体の周縁部と回転容器の開口端部との間の距
離は被処理体の周縁部のどのポイントにおいてもほぼ同
じに設定されており、従って、これらの回転時に気流に
乱れがほとんど生じることがなく、処理液のはね返りを
抑制することが可能となる。
状に成形された平板状の被処理体は回転保持手段に保持
され、この状態で被処理体は回転容器内で一体的に回転
しつつ被処理液供給手段から供給された被処理液を遠心
力により拡散させて基板表面に処理液を塗布する。この
回転塗布時に回転容器内はその下部より排気手段により
吸引排気され、そして、回転容器の開口部の形状は基板
の形状より僅かに大きい相似形状になされているので、
上記被処理体の周縁部と回転容器の開口端部との間の距
離は被処理体の周縁部のどのポイントにおいてもほぼ同
じに設定されており、従って、これらの回転時に気流に
乱れがほとんど生じることがなく、処理液のはね返りを
抑制することが可能となる。
【０００８】
【実施例】以下に、本発明に係る処理装置の一実施例を
添付図面に基づいて詳述する。図１は本発明に係る処理
装置を示す部分破断平面図、図２は図１に示す装置の断
面図、図３は図１に示す装置の概略斜視図、図４はフォ
トレジスト塗布装置等が搭載された処理装置集合ユニッ
トを示す斜視図である。図示するように本実施例におい
ては処理装置としてフォトレジスト塗布装置１０が示さ
れており、円形以外の多角形状に成形された平板状の被
処理体として４角形状のＬＣＤ基板１２に処理液として
フォトレジストを塗布する場合について説明する。図４
に示すようにこのフォトレジスト塗布装置１０は、全体
が開閉可能なケースに被われて処理装置集合ユニット７
０に搭載されており、この集合ユニット７０には他の関
連装置として、キャリアステーション７２側より被処理
体としてのＬＣＤ基板をブラシ洗浄するための一対のブ
ラシスクラバ７４、７４、このブラシ洗浄の後に高圧ジ
ェット水により洗浄を施すための一対の高圧ジェット洗
浄機７６、７６、ＬＣＤ基板を加熱するために複数のホ
ットプレート機７８、ＬＣＤ基板にフォトレジストを塗
布する前にこれを疎水化処理するアドヒュージョン処理
機８０及びフォトレジスト塗布後のエッジ部の不要なフ
ォトレジストを除去するエッジリムーバ８２等が設けら
れている。上記各装置間にＬＣＤ基板を搬送して受け渡
しを行うために、この集合ユニット７０の中央部には、
爪を有した一対のメインアーム８４、８４がユニット長
手方向に沿って移動可能に設けられている。このフォト
レジスト塗布装置１０は、上記ＬＣＤ基板１２を回転可
能に保持する回転保持手段１４と、上記基板１２の表面
にフォトレジストを供給する処理液供給手段１６と、上
記基板１２を収容しつつこれと一体的に回転する回転容
器１８と、この回転容器１８内の雰囲気を排気する排気
手段２０とにより主に構成されている。
添付図面に基づいて詳述する。図１は本発明に係る処理
装置を示す部分破断平面図、図２は図１に示す装置の断
面図、図３は図１に示す装置の概略斜視図、図４はフォ
トレジスト塗布装置等が搭載された処理装置集合ユニッ
トを示す斜視図である。図示するように本実施例におい
ては処理装置としてフォトレジスト塗布装置１０が示さ
れており、円形以外の多角形状に成形された平板状の被
処理体として４角形状のＬＣＤ基板１２に処理液として
フォトレジストを塗布する場合について説明する。図４
に示すようにこのフォトレジスト塗布装置１０は、全体
が開閉可能なケースに被われて処理装置集合ユニット７
０に搭載されており、この集合ユニット７０には他の関
連装置として、キャリアステーション７２側より被処理
体としてのＬＣＤ基板をブラシ洗浄するための一対のブ
ラシスクラバ７４、７４、このブラシ洗浄の後に高圧ジ
ェット水により洗浄を施すための一対の高圧ジェット洗
浄機７６、７６、ＬＣＤ基板を加熱するために複数のホ
ットプレート機７８、ＬＣＤ基板にフォトレジストを塗
布する前にこれを疎水化処理するアドヒュージョン処理
機８０及びフォトレジスト塗布後のエッジ部の不要なフ
ォトレジストを除去するエッジリムーバ８２等が設けら
れている。上記各装置間にＬＣＤ基板を搬送して受け渡
しを行うために、この集合ユニット７０の中央部には、
爪を有した一対のメインアーム８４、８４がユニット長
手方向に沿って移動可能に設けられている。このフォト
レジスト塗布装置１０は、上記ＬＣＤ基板１２を回転可
能に保持する回転保持手段１４と、上記基板１２の表面
にフォトレジストを供給する処理液供給手段１６と、上
記基板１２を収容しつつこれと一体的に回転する回転容
器１８と、この回転容器１８内の雰囲気を排気する排気
手段２０とにより主に構成されている。
【０００９】具体的には、上記回転保持手段１４は真空
チャックにより上記基板１２を吸引保持するチャッキン
グ２２を有しており、このチャッキング２２は軸受２４
により回転可能に支持された回転軸２６の先端部に取付
けられている。この回転軸２６は、図示しないタイミン
グベルト等を介してモータに連結されると共に、上下方
向にアップダウン可能になされており、アップした時に
上記基板１２の受け渡しを行うことになる。このチャッ
キング２２に吸引保持される基板１２は、前述のように
４角形乃至矩形状に成形されており、例えば縦横３００
×４００ｍｍ程度の比較的大きな面積を有する。そし
て、上記チャッキング２２の中心点の上方に処理液とし
てフォトレジストを基板上に供給する上記処理液供給手
段１６が、横方向へ移動可能に設けられる。
チャックにより上記基板１２を吸引保持するチャッキン
グ２２を有しており、このチャッキング２２は軸受２４
により回転可能に支持された回転軸２６の先端部に取付
けられている。この回転軸２６は、図示しないタイミン
グベルト等を介してモータに連結されると共に、上下方
向にアップダウン可能になされており、アップした時に
上記基板１２の受け渡しを行うことになる。このチャッ
キング２２に吸引保持される基板１２は、前述のように
４角形乃至矩形状に成形されており、例えば縦横３００
×４００ｍｍ程度の比較的大きな面積を有する。そし
て、上記チャッキング２２の中心点の上方に処理液とし
てフォトレジストを基板上に供給する上記処理液供給手
段１６が、横方向へ移動可能に設けられる。
【００１０】また、上記チャッキング２２の下部の回転
軸２６には、上記基板１２の下面全体をこれより僅かに
離間させて被うように円板上のカバー部材２８が取付け
固定されており、その周縁部は下方向に屈曲されて気体
案内壁３０を構成している。更に、上記回転容器１８
は、上方が開口された有底円筒体状の容器のように成形
されており、その内部に上記基板１２、チャッキング２
２及びカバー部材２８を収容すると共に、その底部３２
の中心部は上記回転軸２６を貫通させて取付け固定され
ており、上記基板１２等と一体的に回転し得るように構
成されている。この回転容器１８の上部開口部３４の形
状は、上記矩形状の基板１２よりも僅かに大きい相似形
の矩形状になされており、従って、基板１２の周縁部と
回転容器１８の開口端部１８ａとの間の距離は基板周縁
部の各ポイントにおいてほとんど全て実質的に同一にな
るように設定されている。
軸２６には、上記基板１２の下面全体をこれより僅かに
離間させて被うように円板上のカバー部材２８が取付け
固定されており、その周縁部は下方向に屈曲されて気体
案内壁３０を構成している。更に、上記回転容器１８
は、上方が開口された有底円筒体状の容器のように成形
されており、その内部に上記基板１２、チャッキング２
２及びカバー部材２８を収容すると共に、その底部３２
の中心部は上記回転軸２６を貫通させて取付け固定され
ており、上記基板１２等と一体的に回転し得るように構
成されている。この回転容器１８の上部開口部３４の形
状は、上記矩形状の基板１２よりも僅かに大きい相似形
の矩形状になされており、従って、基板１２の周縁部と
回転容器１８の開口端部１８ａとの間の距離は基板周縁
部の各ポイントにおいてほとんど全て実質的に同一にな
るように設定されている。
【００１１】具体的には、上記チャッキング２２への基
板装着時においては、基板１２は回転容器１８の開口端
部１８ａより僅かに下方に位置するように設置され、本
実施例においてはこの開口部１８ａと基板周縁部との間
の水平距離Ｌ２は６ｍｍ程度、また垂直距離Ｌ３は７ｍ
ｍ程度となるように基板の全周に渡って略同一値となる
ように設定される。また、この回転容器１８の底部３２
の周辺部には、回転により振り切られたフォトレジスト
のドレン及び回転容器１８内の雰囲気を通過させるため
の通気孔３６がその周方向に沿って所定の間隔を隔てて
多数形成されている。更に、このように形成された回転
容器１８の全体は、上部が開口された有底筒体状の外側
固定容器３８により適宜距離だけ離間させて被われてお
り、その中心部は軸受ケース４０に固定されている。
板装着時においては、基板１２は回転容器１８の開口端
部１８ａより僅かに下方に位置するように設置され、本
実施例においてはこの開口部１８ａと基板周縁部との間
の水平距離Ｌ２は６ｍｍ程度、また垂直距離Ｌ３は７ｍ
ｍ程度となるように基板の全周に渡って略同一値となる
ように設定される。また、この回転容器１８の底部３２
の周辺部には、回転により振り切られたフォトレジスト
のドレン及び回転容器１８内の雰囲気を通過させるため
の通気孔３６がその周方向に沿って所定の間隔を隔てて
多数形成されている。更に、このように形成された回転
容器１８の全体は、上部が開口された有底筒体状の外側
固定容器３８により適宜距離だけ離間させて被われてお
り、その中心部は軸受ケース４０に固定されている。
【００１２】この外側固定容器３８の上部開口部４２
は、上記回転容器１８の開口部３４よりも大きくなされ
た円形状に成形されている。また、この外側固定容器３
８の底部４４であって、上記回転容器１８の底部の通気
孔３６の下方に対応する部分には、断面凹状に成形され
たドレン溜め４６がその周方向に沿って形成されてい
る。そして、このドレン溜め４６には、本実施例におい
ては２つのドレン抜き口４８が形成されると共にこれら
ドレン抜き口４８にはドレン管５０が接続されており、
振り切られたフォトレジストのドレンを排出し得るよう
に構成されている。更に、上記ドレン溜め４６の内側の
底部４４には、本実施例にあっては２つの排気口５２が
回転軸２６に対して点対称で設けられると共に、これら
排気口５２には図示しない真空ポンプを介設した排気管
５４が接続されており、上記回転容器１８内の雰囲気を
底部３２に設けた通気孔３６を介して装置外へ吸引排出
し得るように構成されている。
は、上記回転容器１８の開口部３４よりも大きくなされ
た円形状に成形されている。また、この外側固定容器３
８の底部４４であって、上記回転容器１８の底部の通気
孔３６の下方に対応する部分には、断面凹状に成形され
たドレン溜め４６がその周方向に沿って形成されてい
る。そして、このドレン溜め４６には、本実施例におい
ては２つのドレン抜き口４８が形成されると共にこれら
ドレン抜き口４８にはドレン管５０が接続されており、
振り切られたフォトレジストのドレンを排出し得るよう
に構成されている。更に、上記ドレン溜め４６の内側の
底部４４には、本実施例にあっては２つの排気口５２が
回転軸２６に対して点対称で設けられると共に、これら
排気口５２には図示しない真空ポンプを介設した排気管
５４が接続されており、上記回転容器１８内の雰囲気を
底部３２に設けた通気孔３６を介して装置外へ吸引排出
し得るように構成されている。
【００１３】次に、以上のように構成された本実施例の
動作について説明する。まず、前段の工程で処理された
ＬＣＤ基板１２は、処理装置集合ユニット７０のキャリ
アステーション７２からメインアーム８４により保持さ
れてブラシスクラバ７４内へ搬入され、この中でブラシ
洗浄を行う。更に、この基板は高圧ジェット洗浄機７６
にて高圧ジェット水により洗浄され、ホットプレート機
７８により乾燥される。その後、基板はアドヒュージョ
ン処理機８０にて疎水化処理が施された後に、本発明に
係るフォトレジスト塗布装置１０へ導入される。まず、
回転保持手段１４のチャッキング２２を上方へ移動させ
た状態で図示しないアームのような自動搬送装置により
ＬＣＤ基板１２を上記チャッキング２２上に載置し、こ
れを吸引保持する。そして、このチャッキング２２を図
示するように所定の位置まで降下させる。次に、回転軸
２６を回転することにより、これに固定されている回転
容器１８とチャッキング２２に吸引されているＬＣＤ基
板１２とを一体的に回転すると共に、この基板１２上に
処理液供給手段１６から所定量のフォトレジスト５を吐
出供給してこれを遠心力により基板１２の表面全体に渡
って拡散させ、フォトレジストの薄膜を塗布する。
動作について説明する。まず、前段の工程で処理された
ＬＣＤ基板１２は、処理装置集合ユニット７０のキャリ
アステーション７２からメインアーム８４により保持さ
れてブラシスクラバ７４内へ搬入され、この中でブラシ
洗浄を行う。更に、この基板は高圧ジェット洗浄機７６
にて高圧ジェット水により洗浄され、ホットプレート機
７８により乾燥される。その後、基板はアドヒュージョ
ン処理機８０にて疎水化処理が施された後に、本発明に
係るフォトレジスト塗布装置１０へ導入される。まず、
回転保持手段１４のチャッキング２２を上方へ移動させ
た状態で図示しないアームのような自動搬送装置により
ＬＣＤ基板１２を上記チャッキング２２上に載置し、こ
れを吸引保持する。そして、このチャッキング２２を図
示するように所定の位置まで降下させる。次に、回転軸
２６を回転することにより、これに固定されている回転
容器１８とチャッキング２２に吸引されているＬＣＤ基
板１２とを一体的に回転すると共に、この基板１２上に
処理液供給手段１６から所定量のフォトレジスト５を吐
出供給してこれを遠心力により基板１２の表面全体に渡
って拡散させ、フォトレジストの薄膜を塗布する。
【００１４】一方、この間にすでに排気手段２０は駆動
されて上記回転容器１８の回転時におけるこの中の雰囲
気は矢印５５に示すように回転容器の底部３２に設けた
多数の通気孔３６及び排気管５４を介して排出されてお
り、従って、回転容器１８の開口部３４から容器１８内
に流入する空気は回転する基板１２の中心からこの全周
縁部に向けて流れて行く。特に、本実施例おいては、Ｌ
ＣＤ基板１２の周縁部と回転容器１８の開口端部１８ａ
との間の距離が、基板１２の周縁部の全周に渡って略同
一になされているので、気流は回転する基板１２の中心
部から周縁部へ放射状に流れて行き、しかもこの開口端
部１８ａと基板周縁部との間の間隙を通って排出される
気流には乱れが生ずることなく層流となって排気される
ことになる。従って、基板１２の周縁部にて気流の乱れ
が生じないので、フォトレジストのはね返り、すなわち
スプラッシュバックも発生することがなく基板１２の４
角近傍においても均一厚さの薄膜を形成することが可能
となる。従って、ミストの発生を抑制することができ、
歩留りが低下することを阻止することが可能となる。
されて上記回転容器１８の回転時におけるこの中の雰囲
気は矢印５５に示すように回転容器の底部３２に設けた
多数の通気孔３６及び排気管５４を介して排出されてお
り、従って、回転容器１８の開口部３４から容器１８内
に流入する空気は回転する基板１２の中心からこの全周
縁部に向けて流れて行く。特に、本実施例おいては、Ｌ
ＣＤ基板１２の周縁部と回転容器１８の開口端部１８ａ
との間の距離が、基板１２の周縁部の全周に渡って略同
一になされているので、気流は回転する基板１２の中心
部から周縁部へ放射状に流れて行き、しかもこの開口端
部１８ａと基板周縁部との間の間隙を通って排出される
気流には乱れが生ずることなく層流となって排気される
ことになる。従って、基板１２の周縁部にて気流の乱れ
が生じないので、フォトレジストのはね返り、すなわち
スプラッシュバックも発生することがなく基板１２の４
角近傍においても均一厚さの薄膜を形成することが可能
となる。従って、ミストの発生を抑制することができ、
歩留りが低下することを阻止することが可能となる。
【００１５】特に、本実施例においては、ＬＣＤ基板１
２を１５００ｒｐｍの速度で回転した状態でドライアイ
スによる煙で気流の流れを観察したところ、気流は基板
１２から周縁部に向けて放射状に真っすぐに流れて行
き、乱流が全く生じなかったし、また、スプラッシュバ
ックによるフォトレジストのはね返りも観察されなかっ
た。また、回転容器１８内の雰囲気が通過する通気孔３
６は、この底部３２の周方向に沿って均一に設けてある
ので、回転容器１８内の雰囲気は均一に外側固定容器３
８側へ排出され、この点よりも排出される気流に乱れを
生ずることを防止することができる。また、基板１２の
回転により振り切られたフォトレジストは回転容器１８
の側壁を流下して上記通気孔３６を介して外側固定容器
３８の凹部状のドレン溜め４６に溜り、このドレンはド
レン管５０を介して抜き取られることになる。
２を１５００ｒｐｍの速度で回転した状態でドライアイ
スによる煙で気流の流れを観察したところ、気流は基板
１２から周縁部に向けて放射状に真っすぐに流れて行
き、乱流が全く生じなかったし、また、スプラッシュバ
ックによるフォトレジストのはね返りも観察されなかっ
た。また、回転容器１８内の雰囲気が通過する通気孔３
６は、この底部３２の周方向に沿って均一に設けてある
ので、回転容器１８内の雰囲気は均一に外側固定容器３
８側へ排出され、この点よりも排出される気流に乱れを
生ずることを防止することができる。また、基板１２の
回転により振り切られたフォトレジストは回転容器１８
の側壁を流下して上記通気孔３６を介して外側固定容器
３８の凹部状のドレン溜め４６に溜り、このドレンはド
レン管５０を介して抜き取られることになる。
【００１６】上記実施例にあっては、基板１２の周縁部
と回転容器１８の開口端部４２との間の距離を水平距離
６ｍｍ、垂直距離７ｍｍに設定したが、この値に限定さ
れず、基板１２の大きさ、或いは基板１２の回転速度等
に応じて適宜変更し得るのは勿論である。また、基板１
２の形状も４角形に限定されず、３角形、５角形等の円
形以外の多角形に全て適用することができる。また更
に、上記実施例にあっては、本発明をフォトレジスト塗
布装置に適用した場合について説明したが、基板に処理
液を塗布するような構造であればどのような装置にも適
用することができる。
と回転容器１８の開口端部４２との間の距離を水平距離
６ｍｍ、垂直距離７ｍｍに設定したが、この値に限定さ
れず、基板１２の大きさ、或いは基板１２の回転速度等
に応じて適宜変更し得るのは勿論である。また、基板１
２の形状も４角形に限定されず、３角形、５角形等の円
形以外の多角形に全て適用することができる。また更
に、上記実施例にあっては、本発明をフォトレジスト塗
布装置に適用した場合について説明したが、基板に処理
液を塗布するような構造であればどのような装置にも適
用することができる。
【００１７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば次
のような優れた作用効果を発揮することができる。被処
理体の周縁部と回転容器の開口端部との間の距離をその
周方向に沿って同一になるように設定したので、排気さ
れる気流に乱れが発生することを確実に阻止することが
できる。従って、気流の乱れによる処理液のはね返りが
なく、スプラッシュバックの発生を抑制して歩留りを大
幅に向上させることができる。また、排気手段により、
回転容器の下部よりその内部雰囲気を排気することによ
り、スプラッシュバックの発生を一層抑制することがで
きる。更に、回転容器の開口部の形状を被処理体の形状
よりも僅かに大きい相似形状とすることにより、乱流の
発生を一層抑制することができ、この点よりもフォトレ
ジストのはね返りを一層抑制することができる。また、
被処理体を装着した時には、これが回転容器の開口端部
よりも僅かに下方に位置するので、この点よりもスプラ
ッシュバックの発生を抑制することができる。更に、回
転容器の底部の周辺部に多数の通気孔を形成することに
より、容器内雰囲気をその周辺部より均一に排気するこ
とができ、乱流が発生することを抑制することができ
る。また、通気孔に対応する外側固定容器の底部にドレ
ン溜めを設けてその内側に排気口を設けることにより、
排出気体中からドレンを効率的に除去することができ
る。
のような優れた作用効果を発揮することができる。被処
理体の周縁部と回転容器の開口端部との間の距離をその
周方向に沿って同一になるように設定したので、排気さ
れる気流に乱れが発生することを確実に阻止することが
できる。従って、気流の乱れによる処理液のはね返りが
なく、スプラッシュバックの発生を抑制して歩留りを大
幅に向上させることができる。また、排気手段により、
回転容器の下部よりその内部雰囲気を排気することによ
り、スプラッシュバックの発生を一層抑制することがで
きる。更に、回転容器の開口部の形状を被処理体の形状
よりも僅かに大きい相似形状とすることにより、乱流の
発生を一層抑制することができ、この点よりもフォトレ
ジストのはね返りを一層抑制することができる。また、
被処理体を装着した時には、これが回転容器の開口端部
よりも僅かに下方に位置するので、この点よりもスプラ
ッシュバックの発生を抑制することができる。更に、回
転容器の底部の周辺部に多数の通気孔を形成することに
より、容器内雰囲気をその周辺部より均一に排気するこ
とができ、乱流が発生することを抑制することができ
る。また、通気孔に対応する外側固定容器の底部にドレ
ン溜めを設けてその内側に排気口を設けることにより、
排出気体中からドレンを効率的に除去することができ
る。
【図１】本発明に係る処理装置を示す部分破断平面図で
ある。
ある。
【図２】図１に示す装置の断面図である。
【図３】図１に示す装置の概略斜視図である。
【図４】フォトレジスト塗布装置等が搭載された処理装
置集合ユニットを示す斜視図である。
置集合ユニットを示す斜視図である。
【図５】従来の処理装置を示す概略斜視図である。
２，１２ ＬＣＤ基板（被処理体） ５ フォトレジスト（処理液） １０ フォトレジスト塗布装置（処理装置） １４ 回転保持手段 １６ 処理液供給装置 １８ 回転容器 １８ａ 開口端部 ２０ 排気手段 ３６ 通気孔 ３８ 外側固定容器 ４６ ドレン溜め ５０ ドレン管 ５４ 排気管 ７０ 処理装置集合ユニット ７４ ブラシスクラバ ７６ 高圧ジェット洗浄機 ７８ ホットプレート機 ８０ アドヒュージョン処理機
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) H01L 21/027
Claims (8)
- 【請求項１】 平板状の被処理体を回転可能に保持する
回転保持手段と、前記回転保持手段により保持された前
記被処理体の表面に処理液を供給する処理液供給手段
と、前記回転保持手段に保持された前記被処理体を収容
しつつ、この被処理体の周縁部との間の距離がその外周
方向に沿って実質的に同一になる開口端部を有して前記
被処理体と一体的に回転する回転容器と、前記回転容器
内の雰囲気を排気する排気手段とを備えるように構成し
たことを特徴とする処理装置。 - 【請求項２】 前記排気手段は、前記回転容器内の下部
よりその雰囲気を吸引排気することを特徴とする請求項
１記載の処理装置。 - 【請求項３】 前記回転容器の開口部の形状は、前記被
処理体の形状よりも僅かに大きい相似形状になされてい
ることを特徴とする請求項１または２記載の処理装置。 - 【請求項４】 前記回転保持手段は、真空引きにより前
記被処理体を吸着保持するチャッキングを有しているこ
とを特徴とする請求項１乃至３記載の処理装置。 - 【請求項５】 前記チャッキングは、上下方向にアップ
ダウン可能になされた回転軸に設けられていることを特
徴とする請求項４記載の処理装置。 - 【請求項６】 装着時の前記被処理体は、前記回転容器
の開口端部よりも僅かに下方に位置するように設定され
ていることを特徴とする請求項１乃至５記載の処理装
置。 - 【請求項７】 前記回転容器の底部の周辺部には、多数
の通気孔を形成していることを特徴とする請求項１乃至
６記載の処理装置。 - 【請求項８】 前記回転容器を囲んで設けられた外側固
定容器と、この外側固定容器の底部であって前記通気孔
に対応する部分に設けられたドレン溜めと、このドレン
溜めよりも内側の外側固定容器底部に設けた排気口とを
備えるように構成したことを特徴とする請求項７記載の
処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30245191A JP2906783B2 (ja) | 1991-10-22 | 1991-10-22 | 処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30245191A JP2906783B2 (ja) | 1991-10-22 | 1991-10-22 | 処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05114554A JPH05114554A (ja) | 1993-05-07 |
| JP2906783B2 true JP2906783B2 (ja) | 1999-06-21 |
Family
ID=17909097
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30245191A Expired - Fee Related JP2906783B2 (ja) | 1991-10-22 | 1991-10-22 | 処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2906783B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7531039B2 (en) | 2002-09-25 | 2009-05-12 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Substrate processing apparatus and substrate processing system |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3470890B2 (ja) * | 1993-08-31 | 2003-11-25 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 処理液塗布装置及び方法 |
| US5591264A (en) * | 1994-03-22 | 1997-01-07 | Sony Corporation | Spin coating device |
| JP3194071B2 (ja) * | 1995-03-15 | 2001-07-30 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布膜形成方法及びその装置 |
-
1991
- 1991-10-22 JP JP30245191A patent/JP2906783B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7531039B2 (en) | 2002-09-25 | 2009-05-12 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Substrate processing apparatus and substrate processing system |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05114554A (ja) | 1993-05-07 |
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