JP3388628B2 - 回転式薬液処理装置 - Google Patents

回転式薬液処理装置

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JP3388628B2
JP3388628B2 JP05413594A JP5413594A JP3388628B2 JP 3388628 B2 JP3388628 B2 JP 3388628B2 JP 05413594 A JP05413594 A JP 05413594A JP 5413594 A JP5413594 A JP 5413594A JP 3388628 B2 JP3388628 B2 JP 3388628B2
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cup
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rotary
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康爾 上田
宏仁 佐合
英典 宮本
英也 小針
龍三 高月
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タツモ株式会社
東京応化工業株式会社
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    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C11/00Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
    • B05C11/02Apparatus for spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to a surface ; Controlling means therefor; Control of the thickness of a coating by spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to the coated surface
    • B05C11/08Spreading liquid or other fluent material by manipulating the work, e.g. tilting
    • HELECTRICITY
    • H01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
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    • H01L21/67028Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67051Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly spraying means, e.g. nozzles
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S134/00Cleaning and liquid contact with solids
    • Y10S134/902Semiconductor wafer

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体素子用のウェーハ
や液晶パネル用のガラス基板等の被処理物表面に膜形成
用の液を塗布したり、被処理物表面に付着している液を
回転によって除去したり、更には現像処理や湿式エッチ
ングを行う回転式薬液処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】ウェーハやガラス基板に薄膜形成用の塗
布液を塗布するため等に用いる回転式薬液処理装置とし
て、スピンナー式薬液処理装置と回転カップ式薬液処理
装置がある。スピンナー式薬液処理装置は、固定された
カップ内にスピンナーチャックを臨ませ、スピンナーチ
ャックに被処理物を固着し、スピンナーチャックと一体
的に被処理物を回転せしめ、この回転によって発生する
遠心力で被処理物表面に滴下した塗布液を均一に被処理
物表面に拡散するようにしている。
【0003】しかしながら、上述した薬液処理装置にあ
ってはカップが固定で、スピンナーチャックが回転する
ため、カップ内に乱流が生じ、均一な塗布が困難で微細
な塵が付着し歩留まり低下を招く。
【0004】そこで、塗布雰囲気に乱流を起こさない装
置として特開平3−293056号に回転カップ式薬液
処理装置(塗布装置)が提案されている。この回転カッ
プ式薬液処理装置は、固定されたアウターカップ内にイ
ンナーカップを配置し、このインナーカップ内に被処理
物をセットするとともにインナーカップの上面開口を蓋
体で閉塞した状態でインナーカップを回転せしめるよう
にしたものである。
【0005】上述したスピンナー式或いは回転カップ式
いずれの回転式薬液処理装置にあっても、被処理物の裏
面に廻り込んだりカップ内面に付着した塗布液等をその
ままにしておくと、乾燥し塵埃となり後工程において被
処理物表面に付着することがある。
【0006】そこで、スピンナー式の装置にあっては、
スピンナーの周縁から洗浄液を被処理物裏面に向けて噴
出する構造のものが提案され、回転カップ式の装置にあ
っては、蓋体を上方に逃した状態でインナーカップ内に
移動式の洗浄ノズルを臨ませ、インナーカップ内に洗浄
液を滴下するとともにインナーカップを回転せしめるよ
うにしている。
【0007】また、スピンナー式或いは回転カップ式い
ずれの回転式薬液処理装置も、真空チャックによって被
処理物を吸引固定するのが一般的であるが、真空チャッ
クによって被処理物を吸引固着する場合、吸着面に温度
差が生じたり、更には吸着面に付着した微細なゴミが被
処理物に転写され、製品に悪影響を及ぼす不利がある。
特にこの不利は大寸法のガラス基板を処理する場合に顕
著となる。
【0008】そこで、真空チャックによらない固着手段
として、被処理物の周縁をスピンナー上面に設けたピン
等の係止部材にて保持し、スピンナー或いはインナーカ
ップと一体的に被処理物を回転せしめる手段が提案され
ている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】上述したスピンナー式
或いは回転カップ式いずれの回転式薬液処理装置も、装
置自体の洗浄及び被処理物裏面の洗浄に課題を有してい
る。即ち、移動式の洗浄ノズルを用いた回転カップ式薬
液処理装置にあっては、インナーカップ内面は洗浄でき
ても蓋体下面は洗浄できず、このため蓋体下面について
は手作業で洗浄しており、自動化の妨げとなっている。
【0010】そこで、インナーカップの底面から洗浄液
を噴出するようにすれば蓋体下面を洗浄することができ
るが、インナーカップは高速で回転する部材であるの
で、このインナーカップから洗浄液を噴出させる場合に
は、インナーカップと洗浄液供給部とを継ぐ部分のシー
ルが困難になる。
【0011】一方、真空チャックによらない固着手段に
て被処理物を回転せしめる場合にも、被処理物の裏面に
廻り込んだ塗布液を洗浄する必要があるが、真空チャッ
クに設けた洗浄機構をそのまま適用することはできな
い。
【0012】つまり、真空チャックにて被処理物を固着
する場合には、被処理物よりも小径の真空チャックの一
部に外側に向かう洗浄液噴出口を設けるようにしている
が、係止部材で被処理物の外周を保持する固着手段を採
用した場合には、洗浄液噴出口の位置も効果的な位置を
選択する必要がある。
【0013】この場合の洗浄液噴出口の最も効果的な位
置として、真空チャックを用いた装置にあっては洗浄液
噴出口を設けることのできなかった位置であったスピン
ナー或いはインナーカップの中心部が考えられる。しか
しながら前記同様、回転部分と洗浄液供給部とを継ぐ部
分のシールが困難になる。
【0014】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決すべく本
願の回転式薬液処理装置のうち回転カップ式装置に関す
る発明は、インナーカップの外側に回転するインナーカ
ップからのドレインを受けるアウターカップを配置した
回転式薬液処理装置において、前記インナーカップの回
転中心に上下方向に貫通する中空孔を設け、この中空孔
内に、固定ブロックに取り付けられた洗浄液ノズルを中
空孔内周面との間に隙間を形成するように挿入した。
【0015】また、本願の回転式薬液処理装置のうちス
ピンナー式装置に関する発明は、固定したカップ内にス
ピンナーを配置し、このスピンナーに板状被処理物の下
面をスピンナー上面から離した状態で保持する係止部材
を設けた回転式薬液処理装置において、前記スピンナー
の中心には上下方向に貫通する中空孔が設けられ、この
中空孔内に固定ブロックに取り付けられた洗浄液ノズル
が中空孔内周面との間に隙間を形成した。
【0016】ここで、上記発明において、洗浄液ノズル
外周面と中空孔内周面との間の隙間は廃液用またはガス
供給用通路とすることができ、また被処理物を固着する
チャックとして吸引チャックを備えたものにおいては、
前記隙間をパイプ等の隔壁部材によって外側隙間と内側
隙間に分け、外側隙間を吸引チャックの吸引孔につなが
る通路とすることができる。
【0017】更に、前記中空孔の上端部形状としてはテ
ーパ孔とし、洗浄液ノズルとしては前記テーパ孔に洗浄
液を噴出する横孔或いは蓋体下面に洗浄液を広げて噴出
する斜め孔等を形成したもの、更には扇状のものとして
もよい。
【0018】
【作用】回転カップ式薬液処理装置の蓋体を洗浄する場
合には被処理物をセットせずに蓋体を閉じ、この状態で
インナーカップを回転するとともに洗浄液ノズルから洗
浄液を噴出して、蓋体下面及びインナーカップ内面を洗
浄する。
【0019】また、回転カップ式薬液処理装置或いはス
ピンナー式薬液処理装置において、被処理物裏面を洗浄
する場合には、被処理物をインナーカップまたはスピン
ナーに設けた係止部材上にセットし、次いでインナーカ
ップまたはスピンナーを回転するとともに洗浄液ノズル
から洗浄液を噴出して、被処理物下面を洗浄する。この
洗浄は被処理物上面に塗布液を塗布するのと同時に行っ
てもよいし、塗布とは別に行ってもよい。
【0020】
【実施例】以下に本発明の実施例を添付図面に基づいて
説明する。ここで、図1は本発明に係る回転式薬液処理
装置のうち回転カップ式薬液処理装置の断面図、図2は
同回転カップ式薬液処理装置の吸引チャックの部分の拡
大断面図、図3は同回転カップ式薬液処理装置のスピン
ナー軸の下部分の拡大断面図、図4はスピンナー軸の内
部構造を示す拡大横断面図である。
【0021】回転カップ式薬液処理装置は支柱1に支持
されるベース2上に環状のアウターカップ3を固定し、
このアウターカップ3内側にベアリング4を介してイン
ナーカップ5を回転自在に配置している。このインナー
カップ5は図示しないモータの駆動力をタイミングベル
ト6を介してインナーカップ5下部の筒体5aに伝達す
ることで回転せしめられる。
【0022】またインナーカップ5の中央部には吸引チ
ャック7が設けられている。この吸引チャック7の回転
中心には下方に伸びる中空のスピンナー軸8が取り付け
られ、この中空のスピンナー軸8下端は図示しないシリ
ンダユニット等により前記支柱1に対して昇降動する昇
降体9にベアリング10を介して回転自在に支持されて
いる。
【0023】このように吸引チャック7はスピンナー軸
8を介して昇降体9に支持されているので、昇降体9が
上昇すると吸引チャック7はインナーカップ5底面より
も上昇し、この上昇した位置で吸引チャック7上面に半
導体ウェーハ等の被処理物Wがセットされ、また昇降体
9が下降することで吸引チャック7も下降し、吸引チャ
ック7の上面とインナーカップ5底面とが略面一とな
る。また吸引チャック7は下降することでインナーカッ
プ5と凹凸係合し、インナーカップ5の回転が吸引チャ
ック7に伝達される。
【0024】また、前記昇降体9の下面にはブロック1
1が取り付けられ、このブロック11に固定された洗浄
液ノズル12が前記スピンナー軸8の内周面である中空
孔13内に挿入され、洗浄液ノズル12の上端部は吸引
チャック7に形成された上方に広がるテーパ孔14内に
臨んでいる。
【0025】また、洗浄液ノズル12の外周面と中空孔
13内周面との間に形成される環状の隙間は隔壁部材で
あるパイプ15にて環状の外側隙間16と内側隙間17
に分けられ、外側隙間16はその上端部及び下端部がシ
ール材18,19にて気密に封止され、封止された外側
隙間16はその下部においてチューブ20を介して真空
引き装置につながり、また上部において吸引チャック7
に形成した吸引孔21が連通している。
【0026】ここで、前記吸引孔21は上方が径方向外
側になるように傾斜している。これはインナーカップ5
とともに吸引チャック7が回転した際に吸引孔21内に
入り込んだ洗浄液を遠心力でもって外側に排出するため
である。同様の理由から、吸引チャック7の上端外周部
とインナーカップ5との合せ部22も上方に向って外側
に広がる形状としている。
【0027】また、前記固定ブロック11には前記内側
隙間17につながる孔23,24が形成され、孔23に
は洗浄液の回収管25がコネクタ26によって接続さ
れ、孔24には窒素ガスなどの雰囲気ガスを噴出するノ
ズル27がコネクタ28によって接続されている。
【0028】一方、インナーカップ5の外周部にはアウ
ターカップ3の回収通路30に開口する排液兼排気孔3
1が形成され、また任意の動きが可能なアーム32の先
端にアウターカップ3の蓋体33が取り付けられ、この
蓋体33の中央部に形成した開口34にインナーカップ
5の蓋体35のフランジ付きの軸部36が昇降自在に保
持されている。
【0029】以上において、被処理物W表面に被膜形成
用の塗布液を塗布するには、アーム32を移動させてア
ウターカップ3及びインナーカップ5の蓋体33,35
を外し、吸引チャック7を昇降体9を上昇させてインナ
ーカップ5上面より持ち上げた状態で、吸引チャック7
上に被処理物Wをセットし、チューブ20、外側隙間1
6及び吸引孔21を介して被処理物Wを吸引チャック7
上に吸引固定し、吸引チャック7を下降させて吸引チャ
ック7とインナーカップ5とを凹凸係合させ、次いで、
被処理物W上面中央に塗布液を滴下し、蓋体33,35
でアウターカップ3及びインナーカップ5の上面開口を
閉じるとともにインナーカップ5を回転せしめる。
【0030】すると、インナーカップ5と被処理物Wを
吸引固定した吸引チャック7とが一体的に回転し、遠心
力によって滴下された塗布液が被処理物W上面に均一に
拡散せしめられる。また、遠心力によってインナーカッ
プ5内の気体は排液兼排気孔31からアウターカップ3
の回収通路30に排出されてインナーカップ5内は減圧
されるので、塗布液中に溶存していたガスも塗布液中か
ら除去される。
【0031】一方、蓋体を洗浄する場合には、被処理物
Wをセットせずに蓋体33,35を閉じ、この状態でイ
ンナーカップ5を回転するとともに洗浄液ノズル12か
ら洗浄液を噴出して、インナーカップ5の蓋体35下面
及びインナーカップ5内面を洗浄する。
【0032】図5はスピンナー軸の別実施例を示す図4
と同様の図であり、この実施例にあってはパイプによっ
て外側隙間と内側隙間とを画成せず、スピンナー軸8を
厚肉とし、この厚肉スピンナー軸8内に前記外側隙間1
6に相当する孔37を形成している。
【0033】また、図6、図7及び図8は洗浄液ノズル
の別実施例を示す図であり、図6に示す洗浄液ノズル1
2は吸引チャック7のテーパ孔14に向けて洗浄液を噴
出する横孔12aと真上に向けて洗浄液を噴出する縦孔
12bを形成している。このような構成とすることで、
洗浄液が上方だけでなく側方にも広がり吸引チャック7
及びインナーカップ5内面が効果的に洗浄される。
【0034】また、図7に示す洗浄液ノズル12は前記
横孔12aの他に斜め孔12cを形成し、更に図8に示
す洗浄液ノズル12はノズル上端部の形状をテーパ孔に
沿って扇状とし、洗浄の孔12dを形成している。この
ような構成とすることで、寸法の大きな蓋体であっても
確実に下面を洗浄することができる。
【0035】図9は別実施例に係る回転式薬液処理装置
の断面図、図10は図9のA方向矢示図であり、この実
施例にあっては、被処理物として液晶パネル用のガラス
基板Wに薬液を塗布する塗布装置を示している。尚、前
記実施例と同一の部材については同一の符号を付して説
明を省略する。
【0036】この別実施例に係る塗布装置は吸引チャッ
クの代わりに、インナーカップ5底面にガラス基板Wの
コーナー部を係止する一対の段付き突起40を4ケ所設
け、これら段付き突起40にてガラス基板Wをインナー
カップ5上面から浮かせた状態で保持し、この状態で回
転せしめるようにしている。
【0037】そして、この実施例にあっては吸引チャッ
クを用いないため、吸引用の隙間(前記実施例の外側隙
間)は不要のため、スピンナー軸8の内側には洗浄ノズ
ル12のみを隙間41を介して配置している。
【0038】以上において、この実施例も蓋体の洗浄を
行う場合には、被処理物Wをセットせずに蓋体33,3
5を閉じ、この状態でインナーカップ5を回転するとと
もに洗浄液ノズル12から洗浄液を噴出して、インナー
カップ5の蓋体35下面及びインナーカップ5内面を洗
浄するのであるが、この実施例にあっては被処理物Wを
セットした状態で被処理物W下面とインナーカップ5底
面との間には隙間が形成されるため、被処理物W下面を
洗浄することも可能である。
【0039】吸引チャックを備えた従来の裏面(下面)
洗浄機構にあっては、吸引チャックよりも外側に洗浄ノ
ズルを設けなければならなかったが、本実施例によれば
洗浄ノズルを被処理物Wの下面中央に位置させることが
できるので、被処理物の裏面中央付近まで回り込んだ薬
液を洗浄することが可能になった。
【0040】図11は本発明に係る回転式薬液処理装置
のうちスピンナー式薬液処理装置の断面図であり、スピ
ンナー式薬液処理装置はベース51上に環状の固定カッ
プ52を固定し、この固定カップ52内側にベアリング
53を介してスピンナー54を回転自在に配置してい
る。このスピンナー54は図示しないモータの駆動力を
タイミングベルト55を介して伝達することで回転せし
められる。
【0041】また、カップ52内でスピンナー54の外
側には塗布液や洗浄液の回収通路56が形成され、この
回収通路56内に排出された塗布液や洗浄液をドレンパ
イプ57から取り出すようにしている。また、固定カッ
プ52の上部開口は着脱自在な蓋体58にて閉塞され
る。
【0042】一方、スピンナー54の上面にはガラス基
板等の被処理物Wを保持する係止部材である段付き突起
59を複数本植設している。この段付き突起59は前記
段付き突起40と構成作用とも同じである。
【0043】一方、スピンナー54の回転中心には上下
方向に貫通する中空孔60が形成され、またベース51
の下面から延びるブラケット61に固定ブロック62を
取り付け、この固定ブロック62に洗浄液ノズル63が
固定され、この洗浄液ノズル63が前記中空孔60内に
挿入され、洗浄液ノズル63の上端部が臨む中空孔60
の上端部は上方に広がるテーパ孔60aとなっている。
【0044】また、洗浄液ノズル63の外周面と中空孔
60の内周面との間には環状の隙間64が形成され、更
に前記固定ブロック62にはこの隙間64につながる洗
浄液の回収管65及び窒素ガス等の雰囲気ガスを噴出す
るノズル66が取り付けられている。尚、洗浄液ノズル
63の先端部の形状については前記した図6乃至図8の
ものを採用することができる。
【0045】以上において、被処理物W下面を洗浄する
場合には、被処理物Wをセットした状態でスピンナー5
4を回転するとともに洗浄液ノズル63から洗浄液を噴
出して、被処理物Wの下面全面を洗浄する。
【0046】尚、実施例にあっては本発明に係る回転式
薬液処理装置を塗布装置として説明したが、回転によっ
て被処理物表面に付着した液体を除去する乾燥装置とし
て用いることもできる。
【0047】
【発明の効果】以上に説明したように本発明によれば、
回転カップ式薬液処理装置のインナーカップの回転中心
に、またはスピンナー式薬液処理装置のスピンナーの回
転中心に、上下方向に貫通する中空孔を設け、この中空
孔内に中空孔の内周面との間に隙間をもって洗浄液ノズ
ルを挿入することで、インナーカップ或いはスピンナー
とともに洗浄液ノズルを回転させる必要がないようにし
たので、可動部分で洗浄液のシールをしなくて済み、洗
浄液の漏れ防止が確実に行える。
【0048】また、洗浄液ノズル外周と中空孔の内周面
との間の隙間を廃液用またはガス供給用通路とすること
で、余分な洗浄液の回収或いはカップ内への窒素ガス等
の供給を特別な構造を付加することなく行える。
【0049】また、回転式薬液処理装置として吸引チャ
ックを備えたものについては、洗浄液ノズルと中空孔内
周面との間に形成された隙間をパイプによって外側隙間
と内側隙間に分け、外側隙間を吸引チャックの吸引孔に
つながる吸引通路とすることで、必要な構造を集約して
配設することができる。
【0050】更に、中空孔の上端部の形状を上方に広が
るテーパ孔とし、洗浄液ノズルの上端部に前記テーパ孔
に向けて洗浄液を噴出する横孔を形成することで、効率
よく洗浄液を分散することができ、また洗浄液ノズルの
上端部に斜めの噴出孔を形成することで、更には洗浄液
ノズルの上端部形状を扇状とすることで、大径の蓋体下
面であっても満遍なく洗浄することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る回転式薬液処理装置のうち回転カ
ップ式薬液処理装置の断面図
【図2】同回転カップ式薬液処理装置の吸引チャックの
部分の拡大断面図
【図3】同回転カップ式薬液処理装置のスピンナー軸の
下部分の拡大断面図
【図4】スピンナー軸の内部構造を示す拡大横断面図
【図5】スピンナー軸の別実施例を示す図4と同様の図
【図6】洗浄液ノズルの別実施例を示す図
【図7】洗浄液ノズルの別実施例を示す図
【図8】洗浄液ノズルの別実施例を示す図
【図9】別実施例に係る回転カップ式薬液処理装置の断
面図
【図10】図9のA方向矢示図
【図11】本発明に係る回転式薬液処理装置のうちスピ
ンナー式薬液処理装置の断面図
【符号の説明】
3…アウターカップ、5…インナーカップ、7…吸引チ
ャック、8…スピンナー軸、9…昇降体、11…固定ブ
ロック、12,63…洗浄液ノズル、12a,12b,
12c…ノズル穴、13,60…中空孔、14,60a
…テーパ孔、15…隔壁部材(パイプ)、16…外側隙
間、17…内側隙間、33…アウターカップ用蓋体、3
5…インナーカップ用蓋体、40,59…係止部材、4
1、64…隙間、52…固定カップ、54…スピンナ
ー、W…被処理物。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小針 英也 神奈川県川崎市中原区中丸子150番地 東京応化工業株式会社内 (72)発明者 上田 康爾 神奈川県川崎市中原区中丸子150番地 東京応化工業株式会社内 (72)発明者 宮本 英典 神奈川県川崎市中原区中丸子150番地 東京応化工業株式会社内 (72)発明者 高月 龍三 岡山県井原市木之子町6186番地 タツモ 株式会社内 (56)参考文献 特開 平3−145715(JP,A) 特開 平5−185011(JP,A) 特開 平4−53224(JP,A) 特開 昭58−111320(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B05C 11/08 G03F 7/16 H01L 21/027 H01L 21/306 H01L 21/68

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 インナーカップの外側に回転するインナ
    ーカップからのドレインを受けるアウターカップを配置
    した回転式薬液処理装置において、前記インナーカップ
    の中央には板状被処理物とインナーカップとを一体的に
    回転させるための吸引チャックが設けられ、この吸引チ
    ャックを貫通して中空孔が設けられ、この中空孔に固定
    ブロックに取り付けられた洗浄液ノズルが中空孔内周面
    との間に隙間を形成して挿入され、また前記洗浄液ノズ
    ルと中空孔内周面との間に形成された隙間は隔壁部材に
    よって外側隙間と内側隙間に分けられ、外側隙間は吸引
    チャックの吸引孔につながる吸引通路とされ、内側隙間
    は廃液用またはガス供給用通路とされていることを特徴
    とする回転式薬液処理装置。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の回転式薬液処理装置に
    おいて、前記インナーカップ上面に板状被処理物の下面
    をインナーカップ上面から離した状態で保持する係止部
    材を設けていることを特徴とする回転式薬液処理装置。
  3. 【請求項3】 固定したカップ内にスピンナーを配置
    し、このスピンナーに板状被処理物の下面をスピンナー
    上面から離した状態で保持する係止部材を設けた回転式
    薬液処理装置において、前記スピンナーの中心には上下
    方向に貫通する中空孔が設けられ、この中空孔内に固定
    ブロックに取り付けられた洗浄液ノズルが中空孔内周面
    との間に隙間を形成して挿入され、また前記洗浄液ノズ
    ルと中空孔内周面との間に形成された隙間は隔壁部材に
    よって外側隙間と内側隙間に分けられ、外側隙間は吸引
    チャックの吸引孔につながる吸引通路とされ、内側隙間
    は廃液用またはガス供給用通路とされていることを特徴
    とする回転式薬液処理装置。
  4. 【請求項4】 請求項1乃至請求項に記載の回転式薬
    液処理装置において、前記洗浄液ノズルの上端部が臨む
    中空孔の上端部の形状は上方に広がるテーパ孔とされ、
    また洗浄液ノズルの上端部には前記テーパ孔に向けて洗
    浄液を噴出する横孔が形成されていることを特徴とする
    回転式薬液処理装置。
  5. 【請求項5】 請求項1乃至請求項に記載の回転式薬
    液処理装置において、前記洗浄液ノズルの上端部には被
    処理物下面に向けて斜めに洗浄液を噴出する斜め孔が形
    成されていることを特徴とする回転式薬液処理装置。
  6. 【請求項6】 請求項1乃至請求項に記載の回転式薬
    液処理装置において、前記洗浄液ノズルの上端部が臨む
    中空孔の上端部の形状は上方に広がるテーパ孔とされ、
    また洗浄液ノズルの上端部の形状はテーパ孔に沿って扇
    状に広がっていることを特徴とする回転式薬液処理装
    置。
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