JP2957383B2 - 回転式塗布装置 - Google Patents
回転式塗布装置Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示パネル用のガ
ラス基板、半導体ウエハ、半導体製造装置用のマスク基
板などの基板の表面に、遠心力を利用してフォトレジス
ト液などの塗布液を薄膜状に塗布するために、基板を水
平支持した状態で回転させる回転台と、この回転台上に
支持された基板の上面に塗布液を供給する塗布液供給手
段とを備えた回転式塗布装置に関する。
ラス基板、半導体ウエハ、半導体製造装置用のマスク基
板などの基板の表面に、遠心力を利用してフォトレジス
ト液などの塗布液を薄膜状に塗布するために、基板を水
平支持した状態で回転させる回転台と、この回転台上に
支持された基板の上面に塗布液を供給する塗布液供給手
段とを備えた回転式塗布装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】この種の回転式塗布装置としては、従
来、特開平２−２１９２１３号公報および特開平４−６
１９５５号公報に開示されているものが知られている。
これらの従来例によれば、基板を水平に支持して回転さ
せる回転台と、この回転台に支持された基板の上面と小
間隔をもって平行に配置されて回転台と一体に回転する
上部回転板とを有し、基板を回転台および上部回転板と
ともに回転させながら基板の上面の中央部に塗布液を供
給し、基板の回転による遠心力を利用して塗布液を基板
全面に拡散させて薄膜を形成するように構成されてい
る。
来、特開平２−２１９２１３号公報および特開平４−６
１９５５号公報に開示されているものが知られている。
これらの従来例によれば、基板を水平に支持して回転さ
せる回転台と、この回転台に支持された基板の上面と小
間隔をもって平行に配置されて回転台と一体に回転する
上部回転板とを有し、基板を回転台および上部回転板と
ともに回転させながら基板の上面の中央部に塗布液を供
給し、基板の回転による遠心力を利用して塗布液を基板
全面に拡散させて薄膜を形成するように構成されてい
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ような従来例の場合に、その回転塗布時に、回転台の上
面に塗布液の一部が飛散し、それがミストとなって付着
し、多数枚の基板に対して回転塗布動作を繰り返すうち
に、回転台の上面に付着した塗布液がパーティクル発生
の原因となってしまう。このような回転台の上面への塗
布液付着に起因するパーティクル発生についての対策
は、従来何等講じられていず、品質の低下を招く欠点が
あった。更に、回転台の上面に付着した塗布液のミスト
が固化しないうちに次の基板に対する回転塗布が行われ
た際に、付着したミストが再び飛散して基板を汚染する
欠点があった。
ような従来例の場合に、その回転塗布時に、回転台の上
面に塗布液の一部が飛散し、それがミストとなって付着
し、多数枚の基板に対して回転塗布動作を繰り返すうち
に、回転台の上面に付着した塗布液がパーティクル発生
の原因となってしまう。このような回転台の上面への塗
布液付着に起因するパーティクル発生についての対策
は、従来何等講じられていず、品質の低下を招く欠点が
あった。更に、回転台の上面に付着した塗布液のミスト
が固化しないうちに次の基板に対する回転塗布が行われ
た際に、付着したミストが再び飛散して基板を汚染する
欠点があった。
【０００４】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、本発明の回転式塗布装置は、回転台の
上面への塗布液付着に起因するパーティクルの発生を防
止できるようにすることを主目的とし、また、請求項１
に係る発明の回転式塗布装置は、回転台の上面の洗浄を
行うに際して、上部回転板を取り外しての洗浄をせずに
短時間で簡単容易に行えるようにするとともに、その洗
浄のための構成に起因する慣性増加を回避できるように
することを目的とし、また、請求項２に係る発明の回転
式塗布装置は、回転台の上面の洗浄をより一層簡単容易
に行えるようにすることを目的とし、更に、請求項３に
係る発明の回転式塗布装置は、回転台の上面の洗浄を簡
単な構成で行うことができるようにすることを目的とす
る。
たものであって、本発明の回転式塗布装置は、回転台の
上面への塗布液付着に起因するパーティクルの発生を防
止できるようにすることを主目的とし、また、請求項１
に係る発明の回転式塗布装置は、回転台の上面の洗浄を
行うに際して、上部回転板を取り外しての洗浄をせずに
短時間で簡単容易に行えるようにするとともに、その洗
浄のための構成に起因する慣性増加を回避できるように
することを目的とし、また、請求項２に係る発明の回転
式塗布装置は、回転台の上面の洗浄をより一層簡単容易
に行えるようにすることを目的とし、更に、請求項３に
係る発明の回転式塗布装置は、回転台の上面の洗浄を簡
単な構成で行うことができるようにすることを目的とす
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】請求項１に係る発明の回
転式塗布装置は、上述のような目的を達成するために、
基板を水平支持した状態で回転させる回転台と、この回
転台上に支持された基板の上面に塗布液を供給する塗布
液供給手段とを備えた回転式塗布装置において、回転台
の上面に向けて洗浄液を噴射する回転台洗浄手段を備
え、この回転台洗浄手段を、中央に開口を有し、かつ、
回転台上に支持された基板の上面と所定の間隔をもって
平行に設けられるとともに前記回転台と一体に回転され
る上部回転板と、開口を開閉する蓋と、その蓋を開き位
置に変位した状態の開口を通じて回転台の上面に向けて
洗浄液を噴射するように固定支持部材に設けた洗浄ノズ
ルとから構成する。
転式塗布装置は、上述のような目的を達成するために、
基板を水平支持した状態で回転させる回転台と、この回
転台上に支持された基板の上面に塗布液を供給する塗布
液供給手段とを備えた回転式塗布装置において、回転台
の上面に向けて洗浄液を噴射する回転台洗浄手段を備
え、この回転台洗浄手段を、中央に開口を有し、かつ、
回転台上に支持された基板の上面と所定の間隔をもって
平行に設けられるとともに前記回転台と一体に回転され
る上部回転板と、開口を開閉する蓋と、その蓋を開き位
置に変位した状態の開口を通じて回転台の上面に向けて
洗浄液を噴射するように固定支持部材に設けた洗浄ノズ
ルとから構成する。
【０００６】
【０００７】また、請求項２に係る発明の回転式塗布装
置は、上述のような目的を達成するために、請求項１に
係る発明の回転式塗布装置における蓋を、固定支持部材
に取り付けた駆動開閉機構によって閉じ位置と開き位置
とに変位可能に設け、かつ、洗浄ノズルを、固定支持部
材に取り付けた駆動機構によって洗浄位置と非洗浄位置
とに変位可能に設けて構成する。
置は、上述のような目的を達成するために、請求項１に
係る発明の回転式塗布装置における蓋を、固定支持部材
に取り付けた駆動開閉機構によって閉じ位置と開き位置
とに変位可能に設け、かつ、洗浄ノズルを、固定支持部
材に取り付けた駆動機構によって洗浄位置と非洗浄位置
とに変位可能に設けて構成する。
【０００８】また、請求項３に係る発明の回転式塗布装
置は、上述のような目的を達成するために、基板を水平
支持した状態で回転させる回転台と、この回転台上に支
持された基板の上面に塗布液を供給する塗布液供給手段
とを備えた回転式塗布装置において、前記回転台の上面
に向けて洗浄液を噴射する回転台洗浄手段を備え、この
回転台洗浄手段を、回転台の回転軸を貫通して前記回転
台の上方に位置するように固定状態で洗浄ノズルを設
け、その洗浄ノズルにより前記回転台の上面に向けて洗
浄液を噴出するように構成する。
置は、上述のような目的を達成するために、基板を水平
支持した状態で回転させる回転台と、この回転台上に支
持された基板の上面に塗布液を供給する塗布液供給手段
とを備えた回転式塗布装置において、前記回転台の上面
に向けて洗浄液を噴射する回転台洗浄手段を備え、この
回転台洗浄手段を、回転台の回転軸を貫通して前記回転
台の上方に位置するように固定状態で洗浄ノズルを設
け、その洗浄ノズルにより前記回転台の上面に向けて洗
浄液を噴出するように構成する。
【０００９】
【作用】本発明の回転式塗布装置の構成によれば、基板
に対する所定の回転塗布を行った後、基板の無い状態に
してから洗浄液を回転台の上面に向けて噴射し、回転台
の上面に飛散して付着した塗布液を洗浄除去することが
できる。
に対する所定の回転塗布を行った後、基板の無い状態に
してから洗浄液を回転台の上面に向けて噴射し、回転台
の上面に飛散して付着した塗布液を洗浄除去することが
できる。
【００１０】特に、請求項１に係る発明の回転式塗布装
置の構成によれば、通常の、基板を回転しながら行う塗
布液の塗布は、蓋を閉じ位置に変位させて、従来同様に
基板上部での空気層の乱れを生じさせることなく行うこ
とができる。そして、所定の回転塗布を行った後には、
蓋を開き位置に変位し、開口を通じて洗浄ノズルから洗
浄液を噴出しながら上部回転板を回転台と共に回転駆動
することにより、洗浄ノズルから回転台の上面に噴出し
た洗浄液を回転台の上面に沿って遠心流動させ、先の回
転塗布処理中に回転台の上面に付着した塗布液を洗浄
し、その後の回転塗布処理を均一に、かつ汚染のない状
態で行うことができる。
置の構成によれば、通常の、基板を回転しながら行う塗
布液の塗布は、蓋を閉じ位置に変位させて、従来同様に
基板上部での空気層の乱れを生じさせることなく行うこ
とができる。そして、所定の回転塗布を行った後には、
蓋を開き位置に変位し、開口を通じて洗浄ノズルから洗
浄液を噴出しながら上部回転板を回転台と共に回転駆動
することにより、洗浄ノズルから回転台の上面に噴出し
た洗浄液を回転台の上面に沿って遠心流動させ、先の回
転塗布処理中に回転台の上面に付着した塗布液を洗浄
し、その後の回転塗布処理を均一に、かつ汚染のない状
態で行うことができる。
【００１１】また、請求項２に係る発明の回転式塗布装
置の構成によれば、蓋を駆動開閉機構により、そして、
洗浄ノズルを駆動機構によってそれぞれ駆動変位させ、
回転台の上面に対する洗浄を行うことができる。
置の構成によれば、蓋を駆動開閉機構により、そして、
洗浄ノズルを駆動機構によってそれぞれ駆動変位させ、
回転台の上面に対する洗浄を行うことができる。
【００１２】また、請求項３に係る発明の回転式塗布装
置の構成によれば、回転台の下方側から延ばして固定状
態で設けた洗浄ノズルにより、回転状態の回転台の上面
に洗浄液を噴出し、洗浄液を回転台の上面に沿って遠心
流動させ、回転台の上面を洗浄することができる。
置の構成によれば、回転台の下方側から延ばして固定状
態で設けた洗浄ノズルにより、回転状態の回転台の上面
に洗浄液を噴出し、洗浄液を回転台の上面に沿って遠心
流動させ、回転台の上面を洗浄することができる。
【００１３】
【実施例】次に、本発明の実施例を図面を用いて詳細に
説明する。
説明する。
【００１４】図１は本発明に係る回転式塗布装置の第１
実施例の全体の概略構成を示す縦断正面図であり、角型
基板１を載置する回転台２が鉛直方向の軸心Ｐ周りに水
平回転可能に設けられ、その回転台２の上方に、回転台
２と平行に上部回転板３が設けられるとともに、その上
部回転板３が回転台２に上部支持板４を介して一体的に
回転可能に取り付けられ、これら回転部材の下方及び周
辺部を外から囲むように廃液回収ケース５が設けられ、
前記回転台２に、縦向き回転軸としての出力軸６を介し
て電動モータ７が連結されている。
実施例の全体の概略構成を示す縦断正面図であり、角型
基板１を載置する回転台２が鉛直方向の軸心Ｐ周りに水
平回転可能に設けられ、その回転台２の上方に、回転台
２と平行に上部回転板３が設けられるとともに、その上
部回転板３が回転台２に上部支持板４を介して一体的に
回転可能に取り付けられ、これら回転部材の下方及び周
辺部を外から囲むように廃液回収ケース５が設けられ、
前記回転台２に、縦向き回転軸としての出力軸６を介し
て電動モータ７が連結されている。
【００１５】回転台２は、角型基板１の外形形状より充
分大きい外形円板として構成されていて、その上面に立
設した多数の基板支持ピン８…上に角型基板１が水平に
載置支持されるようになっている。また、図示しない
が、回転台２上には角型基板１の四隅それぞれに一対づ
つの位置決めピンが設けられていて、これら位置決めピ
ンによって角型基板１が回転台２と一体に水平回転され
るようになっている。
分大きい外形円板として構成されていて、その上面に立
設した多数の基板支持ピン８…上に角型基板１が水平に
載置支持されるようになっている。また、図示しない
が、回転台２上には角型基板１の四隅それぞれに一対づ
つの位置決めピンが設けられていて、これら位置決めピ
ンによって角型基板１が回転台２と一体に水平回転され
るようになっている。
【００１６】また、回転台２の外周上面には、回転台２
と同外径のスペーサリング９およびリングプレート１０
が同心円線上の場所に複数箇所で連結されるとともに、
このリングプレート１０に上部支持板４がノブボルト１
１を介して着脱自在に取り付けられ、上部支持板４を取
り外すことで、リングプレート１０の中央開口から基板
１を出し入れすることができるようになっている。
と同外径のスペーサリング９およびリングプレート１０
が同心円線上の場所に複数箇所で連結されるとともに、
このリングプレート１０に上部支持板４がノブボルト１
１を介して着脱自在に取り付けられ、上部支持板４を取
り外すことで、リングプレート１０の中央開口から基板
１を出し入れすることができるようになっている。
【００１７】前記上部回転板３は基板１の外形形状より
大径の円板に構成され、上部支持板４の下面にカラー１
２を介してボルト連結されている。廃液回収ケース５の
底部は絞り込まれ、その下端に廃液排出口１３が形成さ
れるとともに、周方向の複数箇所には塗布液から蒸発し
た溶剤ガスや塗布液ミストを排出する排気口１４が形成
されている。
大径の円板に構成され、上部支持板４の下面にカラー１
２を介してボルト連結されている。廃液回収ケース５の
底部は絞り込まれ、その下端に廃液排出口１３が形成さ
れるとともに、周方向の複数箇所には塗布液から蒸発し
た溶剤ガスや塗布液ミストを排出する排気口１４が形成
されている。
【００１８】前記廃液回収ケース５の上部に筒状カバー
１５が取り付けられ、その筒状カバー１５に固定支持部
材１６が着脱可能に取り付けられている。
１５が取り付けられ、その筒状カバー１５に固定支持部
材１６が着脱可能に取り付けられている。
【００１９】図２の要部の一部切欠拡大正面図、図３お
よび図４の要部の平面図、図５の要部の側面図に示すよ
うに、上部回転板３の中央には開口１９が形成され、こ
の開口１９の鉛直方向上方位置において、固定支持部材
１６の上方側支持プレート１６ａに駆動開閉機構として
の第１のエアシリンダ２０が取り付けられ、その第１の
エアシリンダ２０のシリンダロッド２０ａの先端にブロ
ック２１が取り付けられるとともに、ブロック２１に相
対昇降および相対回転可能に有底筒状の前記蓋１７が吊
り下げ保持されている。
よび図４の要部の平面図、図５の要部の側面図に示すよ
うに、上部回転板３の中央には開口１９が形成され、こ
の開口１９の鉛直方向上方位置において、固定支持部材
１６の上方側支持プレート１６ａに駆動開閉機構として
の第１のエアシリンダ２０が取り付けられ、その第１の
エアシリンダ２０のシリンダロッド２０ａの先端にブロ
ック２１が取り付けられるとともに、ブロック２１に相
対昇降および相対回転可能に有底筒状の前記蓋１７が吊
り下げ保持されている。
【００２０】また、ブロック２１の下面に第１の磁石２
２が付設され、一方、蓋１７の底面に、前記第１の磁石
２２と同極の第２の磁石２３が付設され、蓋１７を閉じ
位置に変位した状態で、ブロック２１を蓋１７と非接触
状態にしたときに、反発力によって蓋１７を閉じ位置に
維持できるようになっている。
２が付設され、一方、蓋１７の底面に、前記第１の磁石
２２と同極の第２の磁石２３が付設され、蓋１７を閉じ
位置に変位した状態で、ブロック２１を蓋１７と非接触
状態にしたときに、反発力によって蓋１７を閉じ位置に
維持できるようになっている。
【００２１】したがって、第１のエアシリンダ２０の短
縮により、蓋１７を開口１９の上方の開き位置に上昇変
位させ、一方、第１のエアシリンダ２０の伸長により、
蓋１７を下降して開口１９に嵌入する閉じ位置に変位
し、開口１９を閉じながら蓋１７のみを上部回転板３と
一体回転できるようになっている。
縮により、蓋１７を開口１９の上方の開き位置に上昇変
位させ、一方、第１のエアシリンダ２０の伸長により、
蓋１７を下降して開口１９に嵌入する閉じ位置に変位
し、開口１９を閉じながら蓋１７のみを上部回転板３と
一体回転できるようになっている。
【００２２】上方側支持プレート１６ａの第１のエアシ
リンダ２０の横側方に、鉛直方向の軸芯周りで90°の範
囲で回転可能な第２のエアシリンダ２４が設けられると
ともに、その第２のエアシリンダ２４のシリンダロッド
２４ａにスプライン軸２５が連結されている。スプライ
ン軸２５に昇降のみ可能にスプライン筒２６が取り付け
られるとともに、スプライン筒２６に回転のみ可能に回
転筒２７が取り付けられている。スプライン筒２６に洗
浄ノズル１８が一体的に取り付けられるとともに、上方
側支持プレート１６ａの第２のエアシリンダ２４の横側
方下側に設けられた第３のエアシリンダ２８のシリンダ
ロッド２８ａに回転筒２７が連結されている。図示しな
いが、洗浄ノズル１８には、洗浄液圧送機構に接続され
た配管が接続されている。上述の構成により、回転台２
の上面に向けて洗浄液を噴出する回転台洗浄手段が構成
されている。
リンダ２０の横側方に、鉛直方向の軸芯周りで90°の範
囲で回転可能な第２のエアシリンダ２４が設けられると
ともに、その第２のエアシリンダ２４のシリンダロッド
２４ａにスプライン軸２５が連結されている。スプライ
ン軸２５に昇降のみ可能にスプライン筒２６が取り付け
られるとともに、スプライン筒２６に回転のみ可能に回
転筒２７が取り付けられている。スプライン筒２６に洗
浄ノズル１８が一体的に取り付けられるとともに、上方
側支持プレート１６ａの第２のエアシリンダ２４の横側
方下側に設けられた第３のエアシリンダ２８のシリンダ
ロッド２８ａに回転筒２７が連結されている。図示しな
いが、洗浄ノズル１８には、洗浄液圧送機構に接続され
た配管が接続されている。上述の構成により、回転台２
の上面に向けて洗浄液を噴出する回転台洗浄手段が構成
されている。
【００２３】上記構成により、蓋１７が閉じ位置にある
非洗浄状態では、洗浄ノズル１８を開口１９の上方より
も外れた非洗浄位置に位置させておき、そして、蓋１７
が開き位置にある洗浄状態では、第２のエアシリンダ２
４により回転して洗浄ノズル１８を開口１９の上方箇所
に位置させた後に、第３のエアシリンダ２８を伸長して
洗浄ノズル１８を下降させ、その吹き出し口１８ａから
回転台２の上面に向けて洗浄液を噴出する洗浄位置に変
位できるようになっている。上記洗浄ノズル１８を洗浄
位置と非洗浄位置とに駆動変位させるための第２および
第３のエアシリンダ２４，２８から成る構成をして駆動
機構と総称する。
非洗浄状態では、洗浄ノズル１８を開口１９の上方より
も外れた非洗浄位置に位置させておき、そして、蓋１７
が開き位置にある洗浄状態では、第２のエアシリンダ２
４により回転して洗浄ノズル１８を開口１９の上方箇所
に位置させた後に、第３のエアシリンダ２８を伸長して
洗浄ノズル１８を下降させ、その吹き出し口１８ａから
回転台２の上面に向けて洗浄液を噴出する洗浄位置に変
位できるようになっている。上記洗浄ノズル１８を洗浄
位置と非洗浄位置とに駆動変位させるための第２および
第３のエアシリンダ２４，２８から成る構成をして駆動
機構と総称する。
【００２４】固定支持部材１６の下方側支持プレート１
６ｂは環状に形成され、その内周面側に寄った上面の周
方向所定の４箇所それぞれに、山形状の係合突起２９が
設けられ、一方、下方側支持プレート１６ｂよりも上方
に位置するように、上部支持板４に取付部材３０…を介
して環状プレート３１が取り付けられるとともに、その
環状プレート３１の周方向所定の４箇所それぞれに、係
合突起２９を嵌入する筒体３２が設けられ、前記上部回
転板３を着脱する際に、係合突起２９…を筒体３２…に
嵌入することにより、固定支持部材１６で吊り下げるこ
とができるように構成されている。
６ｂは環状に形成され、その内周面側に寄った上面の周
方向所定の４箇所それぞれに、山形状の係合突起２９が
設けられ、一方、下方側支持プレート１６ｂよりも上方
に位置するように、上部支持板４に取付部材３０…を介
して環状プレート３１が取り付けられるとともに、その
環状プレート３１の周方向所定の４箇所それぞれに、係
合突起２９を嵌入する筒体３２が設けられ、前記上部回
転板３を着脱する際に、係合突起２９…を筒体３２…に
嵌入することにより、固定支持部材１６で吊り下げるこ
とができるように構成されている。
【００２５】以上の構成により、先ず、塗布処理に際し
ては、固定支持部材１６を筒状カバー１５から取り外す
とともに上部支持板４を回転台２から取り外し、固定支
持部材１６で吊り下げて上部回転板３を上方に外して角
型基板１を回転台２の基板支持ピン８…上に所定の姿勢
で載置する。
ては、固定支持部材１６を筒状カバー１５から取り外す
とともに上部支持板４を回転台２から取り外し、固定支
持部材１６で吊り下げて上部回転板３を上方に外して角
型基板１を回転台２の基板支持ピン８…上に所定の姿勢
で載置する。
【００２６】次に、図示しない塗布液供給手段としての
塗布液供給ノズルを角型基板１の中央上方に移動させ、
所定量の塗布液を滴下供給する。その後、固定支持部材
１６で吊り下げて上部支持板４を搬入し、上部支持板４
をリングプレート１０上に、そして、固定支持部材１６
を筒状カバー１５上にそれぞれ取り付け、図６の要部の
正面図に示すように、第１のエアシリンダ２０を伸長し
て蓋１７を駆動変位し、上部回転板３の開口１９を閉じ
ておくとともに洗浄ノズル１８を非洗浄位置に変位して
おく。
塗布液供給ノズルを角型基板１の中央上方に移動させ、
所定量の塗布液を滴下供給する。その後、固定支持部材
１６で吊り下げて上部支持板４を搬入し、上部支持板４
をリングプレート１０上に、そして、固定支持部材１６
を筒状カバー１５上にそれぞれ取り付け、図６の要部の
正面図に示すように、第１のエアシリンダ２０を伸長し
て蓋１７を駆動変位し、上部回転板３の開口１９を閉じ
ておくとともに洗浄ノズル１８を非洗浄位置に変位して
おく。
【００２７】その後、電動モータ７を起動して回転台
２、上部支持板４、上部回転板３および角型基板１を一
体に水平回転させる。この回転によって角型基板１上の
塗布液は遠心力によって外方に拡散流動して角型基板１
上面に薄く塗布される。この場合、回転台２と上部回転
板３との間に形成された偏平な塗布処理空間Ｓの空気層
も一体に回転し、角型基板１上に気流が発生しない状態
で塗布液の拡散流動が行われる。
２、上部支持板４、上部回転板３および角型基板１を一
体に水平回転させる。この回転によって角型基板１上の
塗布液は遠心力によって外方に拡散流動して角型基板１
上面に薄く塗布される。この場合、回転台２と上部回転
板３との間に形成された偏平な塗布処理空間Ｓの空気層
も一体に回転し、角型基板１上に気流が発生しない状態
で塗布液の拡散流動が行われる。
【００２８】角型基板１上を流動して外周に到達した余
剰塗布液は角型基板１の周縁から流出し、塗布処理空間
Ｓの外周全域から飛散してゆく。そして、飛散した塗布
液はスペーサリング９の上下に形成されている間隙を通
って廃液回収ケース５内に流出して回収される。
剰塗布液は角型基板１の周縁から流出し、塗布処理空間
Ｓの外周全域から飛散してゆく。そして、飛散した塗布
液はスペーサリング９の上下に形成されている間隙を通
って廃液回収ケース５内に流出して回収される。
【００２９】所定回数の回転塗布処理が行われると、固
定支持部材１６を筒状カバー１５から取り外すとともに
上部支持板４を回転台２から取り外し、固定支持部材１
６で吊り下げて上部回転板３を上方に外して角型基板１
を取り出してから、上部支持板４をリングプレート１０
上に、そして、固定支持部材１６を筒状カバー１５上に
それぞれ取り付け、その後に、第１のエアシリンダ２０
を短縮して蓋１７を開き位置に駆動変位する。
定支持部材１６を筒状カバー１５から取り外すとともに
上部支持板４を回転台２から取り外し、固定支持部材１
６で吊り下げて上部回転板３を上方に外して角型基板１
を取り出してから、上部支持板４をリングプレート１０
上に、そして、固定支持部材１６を筒状カバー１５上に
それぞれ取り付け、その後に、第１のエアシリンダ２０
を短縮して蓋１７を開き位置に駆動変位する。
【００３０】しかる後、第２のエアシリンダ２４を作動
して洗浄ノズル１８を開口１９の上方位置まで回転変位
し、その状態から第３のエアシリンダ２８を伸長して洗
浄ノズル１８を下降させ、開口１９を通じて、図５に示
すように、上部回転板３の下方の洗浄位置まで変位す
る。その状態で、電動モータ７を起動して回転台２、上
部支持板４、上部回転板３を一体に水平回転させなが
ら、洗浄ノズル１８から回転台２の上面に洗浄液を噴出
供給し、遠心力を利用して、回転台２の上面に付着した
塗布液のミストを洗浄除去する。
して洗浄ノズル１８を開口１９の上方位置まで回転変位
し、その状態から第３のエアシリンダ２８を伸長して洗
浄ノズル１８を下降させ、開口１９を通じて、図５に示
すように、上部回転板３の下方の洗浄位置まで変位す
る。その状態で、電動モータ７を起動して回転台２、上
部支持板４、上部回転板３を一体に水平回転させなが
ら、洗浄ノズル１８から回転台２の上面に洗浄液を噴出
供給し、遠心力を利用して、回転台２の上面に付着した
塗布液のミストを洗浄除去する。
【００３１】図７は、本発明に係る回転式塗布装置の第
２実施例を示す全体概略正面図であり、第１実施例と異
なるところは次の通りである。回転台２の回転軸２ａの
下端と電動モータ３３の駆動軸３３ａの上端とがベルト
式伝動機構３４を介して連動連結されるとともに、回転
台２の回転軸２ａに、その回転軸芯を通る貫通孔３５が
形成され、その貫通孔３５内に、上端に洗浄ノズル３６
を取り付けた洗浄液パイプ３７が挿入されるとともに、
洗浄ノズル３６が回転台２の上方に位置されて固定状態
で設けられ、回転台２の上面に向けて洗浄液を噴出する
ように回転台洗浄手段が構成されている。他の構成は第
１実施例と同様であり、同一図番を付すことにより、そ
の説明を省略する。
２実施例を示す全体概略正面図であり、第１実施例と異
なるところは次の通りである。回転台２の回転軸２ａの
下端と電動モータ３３の駆動軸３３ａの上端とがベルト
式伝動機構３４を介して連動連結されるとともに、回転
台２の回転軸２ａに、その回転軸芯を通る貫通孔３５が
形成され、その貫通孔３５内に、上端に洗浄ノズル３６
を取り付けた洗浄液パイプ３７が挿入されるとともに、
洗浄ノズル３６が回転台２の上方に位置されて固定状態
で設けられ、回転台２の上面に向けて洗浄液を噴出する
ように回転台洗浄手段が構成されている。他の構成は第
１実施例と同様であり、同一図番を付すことにより、そ
の説明を省略する。
【００３２】
【００３３】本発明としては、角型基板１に限らず円形
基板の回転式塗布装置にも適用できる。
基板の回転式塗布装置にも適用できる。
【００３４】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の回転式塗布装置によれば、基板に対する所定の回転塗
布に起因して回転台の上面に付着した塗布液を洗浄除去
するから、回転台の上面への塗布液付着に起因するパー
ティクルの発生、ならびに、付着ミストの再飛散による
基板の汚染を防止でき、基板の処理品質の低下を回避で
きる。
の回転式塗布装置によれば、基板に対する所定の回転塗
布に起因して回転台の上面に付着した塗布液を洗浄除去
するから、回転台の上面への塗布液付着に起因するパー
ティクルの発生、ならびに、付着ミストの再飛散による
基板の汚染を防止でき、基板の処理品質の低下を回避で
きる。
【００３５】特に、請求項１に係る発明の回転式塗布装
置によれば、上部回転板に設けた開口を通じて洗浄ノズ
ルから回転台の上面に洗浄液を噴出することにより、回
転台の上面に付着した塗布液を洗浄するから、回転台の
上面に対する洗浄を、上部回転板を取り外しての洗浄を
せずに短時間で簡単容易に行うことができ、基板に対し
て、均一な膜厚で、かつ汚染のない塗布処理を効率的に
行うことができる。
置によれば、上部回転板に設けた開口を通じて洗浄ノズ
ルから回転台の上面に洗浄液を噴出することにより、回
転台の上面に付着した塗布液を洗浄するから、回転台の
上面に対する洗浄を、上部回転板を取り外しての洗浄を
せずに短時間で簡単容易に行うことができ、基板に対し
て、均一な膜厚で、かつ汚染のない塗布処理を効率的に
行うことができる。
【００３６】しかも、洗浄ノズルを固定支持部材に設
け、基板に対して塗布液を塗布するときに洗浄ノズルを
上部回転板と一体回転させないから、回転台の上面に対
する洗浄構成に起因して重量が大になって回転慣性を増
加してしまうといったことを回避でき、基板に対して塗
布液を塗布するときに早期に高速回転状態に立ち上げる
ことができ、塗布処理に支障をきたすことが無い。
け、基板に対して塗布液を塗布するときに洗浄ノズルを
上部回転板と一体回転させないから、回転台の上面に対
する洗浄構成に起因して重量が大になって回転慣性を増
加してしまうといったことを回避でき、基板に対して塗
布液を塗布するときに早期に高速回転状態に立ち上げる
ことができ、塗布処理に支障をきたすことが無い。
【００３７】また、請求項２に係る発明の回転式塗布装
置によれば、蓋および洗浄ノズルのいずれをも駆動変位
させて回転台の上面に対する洗浄を行うから、人為的な
操作でもって蓋や洗浄ノズルを変位させる場合に比べ、
回転台の洗浄をより一層簡単容易に行うことができる。
置によれば、蓋および洗浄ノズルのいずれをも駆動変位
させて回転台の上面に対する洗浄を行うから、人為的な
操作でもって蓋や洗浄ノズルを変位させる場合に比べ、
回転台の洗浄をより一層簡単容易に行うことができる。
【００３８】また、請求項３に係る発明の回転式塗布装
置によれば、回転台の回転軸を貫通させて回転台の下方
側から延ばして設けた洗浄ノズルにより、回転台の上面
に洗浄液を噴出して洗浄するから、上部回転板の上方に
設ける場合に比べ、洗浄液の漏れによる基板の汚染など
を考慮せずに済み、構成的に簡単にできる利点がある。
置によれば、回転台の回転軸を貫通させて回転台の下方
側から延ばして設けた洗浄ノズルにより、回転台の上面
に洗浄液を噴出して洗浄するから、上部回転板の上方に
設ける場合に比べ、洗浄液の漏れによる基板の汚染など
を考慮せずに済み、構成的に簡単にできる利点がある。
【図１】本発明に係る回転式塗布装置の第１実施例の全
体の概略構成を示す縦断正面図である。
体の概略構成を示す縦断正面図である。
【図２】要部の拡大正面図である。
【図３】要部の平面図である。
【図４】要部の平面図である。
【図５】要部の側面図である。
【図６】回転塗布状態を示す要部の正面図である。
【図７】本発明に係る回転式塗布装置の第２実施例を示
す全体概略正面図である。
す全体概略正面図である。
１…角型基板 ２…回転台 ２ａ…回転台の回転軸 ３…上部回転板 １６…固定支持部材 １７…蓋 １８…洗浄ノズル １９…開口 ２０…駆動開閉機構としての第１のエアシリンダ ２４…駆動機構を構成する第２のエアシリンダ ２８…駆動機構を構成する第３のエアシリンダ ３６…洗浄ノズル ３９…洗浄ノズル
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) H01L 21/027 G03F 7/16 502
Claims (3)
- 【請求項１】 基板を水平支持した状態で回転させる回
転台と、この回転台上に支持された基板の上面に塗布液
を供給する塗布液供給手段とを備えた回転式塗布装置に
おいて、 前記回転台の上面に向けて洗浄液を噴射する回転台洗浄
手段を備え、 この回転台洗浄手段が、 中央に開口を有し、かつ、回転台上に支持された基板の
上面と所定の間隔をもって平行に設けられるとともに前
記回転台と一体に回転される上部回転板と、 前記開口を開閉する蓋と、 前記蓋を開き位置に変位した状態の前記開口を通じて前
記回転台の上面に向けて洗浄液を噴射するように固定支
持部材に設けた洗浄ノズルと、 から構成されたものである ことを特徴とする回転式塗布
装置。 - 【請求項２】 請求項１に記載の蓋を、固定支持部材に
取り付けた駆動開閉機構によって閉じ位置と開き位置と
に変位可能に設け、かつ、洗浄ノズルを、固定支持部材
に取り付けた駆動機構によって洗浄位置と非洗浄位置と
に変位可能に設けたものである回転式塗布装置。 - 【請求項３】 基板を水平支持した状態で回転させる回
転台と、この回転台上に支持された基板の上面に塗布液
を供給する塗布液供給手段とを備えた回転式塗布装置に
おいて、 前記回転台の上面に向けて洗浄液を噴射する回転台洗浄
手段を備え、 この回転台洗浄手段が、 回転台の回転軸を貫通して前記回転台の上方に位置する
ように固定状態で洗浄ノズルを設け、その洗浄ノズルに
より前記回転台の上面に向けて洗浄液を噴出する もので
ある回転式塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15156793A JP2957383B2 (ja) | 1993-05-27 | 1993-05-27 | 回転式塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15156793A JP2957383B2 (ja) | 1993-05-27 | 1993-05-27 | 回転式塗布装置 |
Related Child Applications (3)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11025635A Division JP3086446B2 (ja) | 1999-02-03 | 1999-02-03 | 回転式塗布装置および回転式塗布方法 |
| JP11029777A Division JP3103346B2 (ja) | 1999-02-08 | 1999-02-08 | 回転式塗布装置および回転式塗布方法 |
| JP11030258A Division JP3133735B2 (ja) | 1999-02-08 | 1999-02-08 | 回転式塗布装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06338447A JPH06338447A (ja) | 1994-12-06 |
| JP2957383B2 true JP2957383B2 (ja) | 1999-10-04 |
Family
ID=15521357
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15156793A Expired - Lifetime JP2957383B2 (ja) | 1993-05-27 | 1993-05-27 | 回転式塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2957383B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9449807B2 (en) | 2012-08-09 | 2016-09-20 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate processing apparatus and substrate processing method |
| US9555437B2 (en) | 2012-08-31 | 2017-01-31 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate processing apparatus |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4727080B2 (ja) * | 2001-07-27 | 2011-07-20 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | スピン処理装置 |
| CN106180041A (zh) * | 2016-08-02 | 2016-12-07 | 徐海慧 | 一种墙板旋转清洗装置 |
| CN108637028B (zh) * | 2018-07-17 | 2024-03-29 | 重庆亨科机械有限公司 | 变速箱齿轮冷挤压加工用装置 |
| CN115870163B (zh) * | 2022-12-06 | 2023-07-18 | 广东欣桐科技股份有限公司 | 一种电路板智能点胶机 |
-
1993
- 1993-05-27 JP JP15156793A patent/JP2957383B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9449807B2 (en) | 2012-08-09 | 2016-09-20 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate processing apparatus and substrate processing method |
| US10204777B2 (en) | 2012-08-09 | 2019-02-12 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate processing apparatus and substrate processing method |
| US9555437B2 (en) | 2012-08-31 | 2017-01-31 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate processing apparatus |
| US10026627B2 (en) | 2012-08-31 | 2018-07-17 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate processing apparatus |
| US10707097B2 (en) | 2012-08-31 | 2020-07-07 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate processing apparatus |
| US10707096B2 (en) | 2012-08-31 | 2020-07-07 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate processing apparatus |
| US10734252B2 (en) | 2012-08-31 | 2020-08-04 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate processing apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06338447A (ja) | 1994-12-06 |
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