JP2003043439A - 液晶表示装置の基板の洗滌装置及びその洗滌方法 - Google Patents

液晶表示装置の基板の洗滌装置及びその洗滌方法

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板を洗滌及び乾燥させることにおいて、排
気圧の調節を円滑に実行させることができる液晶表示装
置の基板の洗滌装置及び方法を提供する。 【解決手段】 基板を回転させる回転装置が配置された
スピンドライ用のカップと、スピンドライ用のカップの
外郭に設置されて、空気と共に前記回転される基板から
排出される異物が吸入される空気吸入管と、空気吸入管
から吸入された空気及び異物を外部に排気させるトラッ
プと、トラップに設置されてトラップ内の排気圧を調節
する排気圧調節部と、トラップに設置されて回転される
基板から排出される化学薬品や水分を外部に排出させる
ドレンを備える。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置の基板
の洗滌装置及び方法に関するものであり、より詳細には
基板を洗滌及び乾燥させることにおいて、基板の洗滌時
に排気圧の調節を円滑に実行させることができる液晶表
示装置の基板の洗滌装置及びこれを利用した基板の洗滌
方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般に、液晶表示装置の製造工程は成膜
とフォトリソグラフィによって下部ガラス基板に微細な
パターンを形成するアレイ工程と、前記下部ガラス基板
とカラーフィルター基板である上部ガラス基板を付着し
て液晶を注入するセル工程がある。ここで、洗滌工程は
このような諸工程で基板上の有害異物を除去するための
工程であり、全工程の約２０ないし３０％を占めて、各
工程で除去しなければならない異物の種類も微細である
が異なるために洗滌装置の構成も若干は異にする。
【０００３】このような洗滌装置には基板をカセット単
位で処理するバッチ方式と、基板を１枚ずつ洗浄する枚
葉方式があるが、前記枚葉方式は基板を数個ずつ搬送し
てブラシや超音波などを使用して洗滌し、エアーナイフ
またはスピンドライを使用して乾燥させるものであり、
基板の大型化に有利な方式である。
【０００４】図１は従来技術による基板の洗滌装置及び
方法を説明するための図面であり、スピンドライユニッ
トを具備した基板の洗滌装置の概略的な断面図である。
【０００５】従来のスピンドライユニット１０は、図１
に図示されたように、基板１４を回転させる回転装置１
２が配置されたスピンドライ用のカップ１５と、スピン
ドライ用のカップ１５の下端に設置されて回転される基
板１４から排出される異物及び化学薬品または水分が外
部に排出される排気ダクト１８と、排気ダクト１８に設
置されて排気量を調節するための排気ダンパーで構成さ
れる。
【０００６】以下で前記構成されたスピンドライユニッ
トが具備された基板の洗滌装置及び方法を説明する。ま
ず、所定の回転装置１２上に基板１４が置かれて回転す
るようになれば前記基板１４上の異物が遠心力及び空気
の流れにより常にオープンされている排気ダンパー１６
を通じて排気ダクト１８に排出される。
【０００７】図２は従来技術による液晶表示装置の基板
の洗滌装置において、その使用例を図示した図面であ
る。具体的な使用例は図２に図示されたように、基板の
洗滌装備は総９個であり、各装備当たりスピンドライユ
ニットが３個が連結されていて、スピンドライユニット
の総数は２７個である。前記２７個のスピンドライユニ
ットはメインダクト２０に皆連結されて各スピンドライ
ユニットから排出される排気が前記メインダクト２０を
通じて外部大気に排出される。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来のスピン
ドライユニットを使用する液晶表示装置の基板の洗滌装
置及び方法は次のような問題点がある。
【０００９】最近、液晶パネルが大型化されながらそれ
によってスピンドライユニットの回転速度が速くなるこ
とによって基板上の異物が非常に大きい遠心力を受ける
ようになって、異物が上昇気流に乗ってスピンドライユ
ニットの壁にぶつかって再び基板上に戻ってくる比率が
大きくなる。これを解決するためには外部からの空気吸
入量が多くなければならず、この結果、基板の洗滌時に
多くの量の排気が必要になる。逆に、排気量が不足する
ようになれば、すなわち、各ユニットの排気圧が不足す
るようになれば、詳述したように基板のスピンドライ工
程時に遠心力による上昇気流のために工程上の不良発生
可能性が高まるようになるという問題点がある。
【００１０】したがって、本発明は前記従来技術の問題
点を解決するために案出されたものであり、スピンドラ
イユニットのノーマルオープンモードをシグナル変更及
びレシピー変更を通じてノーマルクローズモードに変え
て少ない量の排気量を使用しても装備内のダウンフロー
を強化して原価低減及び工程マージン向上を図ることが
できる液晶表示装置の基板の洗滌装置を提供することを
目的とする。
【００１１】本発明の他の目的はスピンドライユニット
のノーマルオープンモードをシグナル変更及びレシピー
変更を通じてノーマルクローズモードに変えて少ない量
の排気量を使用しても装備内のダウンフローを強化して
原価低減及び工程マージンの向上を図ることができる液
晶表示装置の基板の洗滌方法を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
の本発明による液晶表示装置の基板の洗滌装置は、基板
を回転させる回転装置が配置されたスピンドライ用のカ
ップと、スピンドライ用のカップの外郭に設置され、空
気と共に前記回転される基板から排出される異物が吸入
される空気吸入管と、空気吸入管から吸入された空気及
び異物を外部に排気させるトラップと、トラップに設置
されてトラップ内の排気圧を調節する排気圧調節部と、
トラップに設置されて回転される基板から排出される化
学薬品や水分を外部に排出させるドレンを含むことを特
徴とする。
【００１３】前記特徴を有した液晶表示装置の基板の洗
滌装置及び方法は、請求項１の基板の洗滌装置を提供す
る段階と、回転装置に基板をロードする段階と、マニュ
アルダンパーを手動操作で閉鎖し、基板が前記回転装置
にロードされて洗滌工程が実行される場合にオートダン
パーを自動操作でオープンさせる段階を含むことを特徴
とする。
【００１４】以上のような本発明の内容は、次に参照す
る本発明の実施の形態に対する以下の説明から明確にな
るであろう。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、本発明による液晶表示装置
の基板の洗滌装置及び方法を、添付した図面を参照して
詳細に説明する。図３は本発明による基板の洗滌装置及
びこれを利用した基板の洗滌方法を説明するための図面
であり、スピンドライユニットを具備した基板の洗滌装
置の概略的な断面図である。
【００１６】本発明による液晶表示装置の基板の洗滌装
置は、基板の洗滌及び乾燥のために一連の装置で構成さ
れたスピンドライユニット１００を使用する。
【００１７】スピンドライユニット１００は、図３に図
示されたように、基板１１０を回転させる回転装置１２
０が配置されたスピンドライ用のカップ１５０と、スピ
ンドライ用のカップ１５０の外郭に設置されて空気と共
に回転される基板１１０から排出される異物が吸入され
る空気吸入管１３０と、空気吸入管１３０から吸入され
た空気及び異物を外部に排気させるミストトラップ１４
０と、ミストトラップ１４０に設置されてミストトラッ
プ１４０内の排気圧を調節するそれぞれのマニュアルダ
ンパー１６０及びオートダンパー１７０と、ミストトラ
ップ１４０に設置されて回転される基板１１０から排出
される化学薬品や水分を外部に排出させるドレン１８０
で構成される。この時、前記マニュアルダンパー１６０
は手動操作で開閉が制御され、前記オートダンパー１７
０は基板１１０が回転装置１２０にロードされて洗滌工
程が実行される場合のみにオープンされるようにセッテ
ィングされる。
【００１８】一方、前記オートダンパー１７０の部位は
排気を外部に流出させるためのメインダクト（図示せ
ず）に連結されている。
【００１９】前記構成を有した液晶表示装置の基板の洗
滌装置及び方法を説明すると次の通りである。
【００２０】図３に図示されたように、まず、前記スピ
ンドライ用のカップ１５０内に配置される所定の回転装
置１２０上に基板１１０載せた後に、前記回転装置によ
り前記基板１１０を回転させれば、基板の洗滌時に使用
した化学薬品または水分と、前記基板１１０の表面に存
在する多様な異物らが遠心力及び前記空気吸入口１３０
に吸入される空気の流れにより前記ミストトラップ１４
０内に流入される。
【００２１】前記ミストトラップ１４０の内部には前記
基板１１０の表面に埋めていた異物と基板の洗滌時に使
用した化学薬品等の多様な物質らが混在されているが、
ここで、化学薬品や水分のような液体状態の異物は前記
ミストトラップ１４０の下部に設置されたドレン１８０
を経由して外部に排出される。
【００２２】一方、前記ミストトラップ１４０内に流入
される異物は前記マニュアルダンパー１６０とオートダ
ンパー１７０を経由して外部に排出される。ここで、前
記マニュアルダンパー１６０は必要によって手動で開閉
を制御することができ、前記オートダンパー１７０は平
常には閉鎖された状態であり、基板１１０が回転装置１
２０にロードされて洗滌工程が実行される場合のみにオ
ープンされるようにセッティングされる。
【００２３】したがって、前記スピンドライユニット１
００の回転装置１２０に洗滌及び乾燥工程が実行される
基板１１０がロードされていないと前記ダンパー１６
０，１７０らが常に閉鎖された状態にあるために前記ス
ピンドライユニット１００は作動をしない。これにより
排気量を減少させることができ、他の作動中であるスピ
ンドライユニットに十分な排気圧を供給することができ
る。
【００２４】もしも、前記スピンドライユニット１００
の回転装置１２０に洗滌及び乾燥されなければならない
基板１１０がロードされれば、前記オートダンパー１７
０がオープンされてスピンドライユニット１００が作動
するようになる。このような一連の作業、すなわち前記
スピンドライユニット１００の作動時間及び休止時間な
どを定めた所定の作業順序表を変更して前記スピンドラ
イユニット１００を作動させる。
【００２５】以下は本発明に対して多様な条件で実験し
た結果を示した表である。 （実験１）下記の表１は図１に図示されたような従来の
スピンドライユニット、例えば、実際装備であるティ
ー．イ．エル トラックディベロッパー（ＴＥＬ ＴＲ
ＡＣＫ ＤＥＶＥＬＯＰＥＲ）のあらゆる基板の洗滌装
置のダンパーを開放させた場合において、装備１ないし
装備９に設けられた各スピンドライユニット（ユニット
１ないしユニット３）の排気圧を示す表である。ここ
で、単位はパスカル（Ｐａ）である。
【表１】
【００２６】（実験２）下記の表２は図１に図示された
ような従来のスピンドライユニット、例えば、実際装備
であるティー．イ．エル トラックディベロッパー（Ｔ
ＥＬ ＴＲＡＣＫ ＤＥＶＥＬＯＰＥＲ）の装備１のダ
ンパーを閉鎖させた場合において、基板の洗滌装置のう
ち装備２ないし装備９に設けられた各スピンドライユニ
ット（ユニット１ないしユニット３）の排気圧を示す表
である。ここで、単位はパスカル（Ｐａ）である。
【表２】
【００２７】（実験３）下記の表３は図１に図示された
ような従来のスピンドライユニット、例えば、実際装備
であるティー．イ．エル トラックディベロッパー（Ｔ
ＥＬ ＴＲＡＣＫ ＤＥＶＥＬＯＰＥＲ）の装備１及び
２のダンパーを閉鎖させた場合において、各基板の洗滌
装置のうち装備３ないし装備９に設けられた各スピンド
ライユニット（ユニット１ないしユニット３）の排気圧
を示す表である。ここで、単位はパスカル（Ｐａ）であ
る。
【表３】
【００２８】（実験４）下記の表４は図１に図示された
ような従来のスピンドライユニット、例えば、実際装備
であるティー．イ．エル トラックディベロッパー（Ｔ
ＥＬ ＴＲＡＣＫ ＤＥＶＥＬＯＰＥＲ）の装備１ない
し３のダンパーを閉鎖させた場合において、各基板の洗
滌装置のうち装備４ないし装備９に設けられた各スピン
ドライユニット（ユニット１ないしユニット３）の排気
圧を示す表である。ここで、単位はパスカル（Ｐａ）で
ある。
【表４】
【００２９】（実験５）下記の表５は図１に図示された
ような従来のスピンドライユニット、例えば、実際装備
であるティー．イ．エル トラックディベロッパー（Ｔ
ＥＬ ＴＲＡＣＫ ＤＥＶＥＬＯＰＥＲ）の装備１ない
し４のダンパーを閉鎖させた場合において、各基板の洗
滌装置のうち装備５ないし装備９に設けられた各スピン
ドライユニット（ユニット１ないしユニット３）の排気
圧を示す表である。ここで、単位はパスカル（Ｐａ）で
ある。
【表５】
【００３０】（実験６）下記の表６は図１に図示された
ような従来のスピンドライユニット、例えば、実際装備
であるティー．イ．エル トラックディベロッパー（Ｔ
ＥＬ ＴＲＡＣＫ ＤＥＶＥＬＯＰＥＲ）の装備１ない
し５のダンパーを閉鎖させた場合において、各基板の洗
滌装置のうち装備６ないし装備９に設けられた各スピン
ドライユニット（ユニット１ないしユニット３）の排気
圧を示す表である。ここで、単位はパスカル（Ｐａ）で
ある。
【表６】
【００３１】一方、下記の表７は前記６回の実験に対す
るメインダクト内の風速、風量及び増減量を示す表であ
る。ここで、風速単位は秒当たりメートル（Ｍ／Ｓｅ
ｃ）であり、風量単位は分当たりの三乗メートル（ＣＣ
Ｍ）である。
【表７】
【００３２】前記表７で増減量は実験１を基準として風
量の差を表す。
【００３３】
【発明の効果】以上で説明したように、本発明はスピン
ドライユニットに空気吸入管及びマニュアルダンパー及
びオートダンパーが設けられたトラップを設置し、前記
スピンドライユニットのノーマルオープンモードをシグ
ナル変更及びレシピー変更を通じてノーマルクローズモ
ードに変えて、少ない量の排気量を使用しても装備内の
ダウンフローを強化して原価低減及び工程マージンを向
上させる。したがって、本発明は排気量の減少によって
原価を節減し、排気圧の増加によって工程マージンを向
上させるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来技術による基板の洗滌装置及び方法を説明
するための図面。
【図２】従来技術による基板の洗滌装置の使用例を図示
した図面。
【図３】本発明による基板の洗滌装置及び方法を説明す
るための図面。
【符号の説明】
１００ スピンドライユニット １１０ 基板 １２０ 回転装置 １３０ 空気吸入口 １４０ ミストトラップ １５０ スピンドライ用のカップ １６０ マニュアルダンパー １７０ オートダンパー １８０ ドレン
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 柳 在 キョン 大韓民国 ソウル市 瑞草區 蠶院洞 ハ ンシン２次アパート13−602 Ｆターム(参考） 2H088 FA21 FA30 HA01 MA20 2H090 JC19 3B201 AA02 AB33 AB47 BB22 BB72 BB92 CC15 CD11

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 基板を洗滌及び乾燥させるスピンドライ
    ユニットを具備した液晶表示装置の基板の洗滌装置にお
    いて、 前記スピンドライユニットは、 基板を回転させる回転装置が配置されたスピンドライ用
    のカップと、 前記スピンドライ用のカップの外郭に設置され、空気と
    共に前記回転される基板から排出される異物が吸入され
    る空気吸入管と、 前記空気吸入管から吸入された空気及び異物を外部に排
    気させるトラップと、 前記トラップに設置されて前記トラップ内の排気圧を調
    節する排気圧調節部と、 前記トラップに設置されて前記回転される基板から排出
    される化学薬品や水分を外部に排出させるドレンを備え
    て構成されることを特徴とする液晶表示装置の基板の洗
    滌装置。
  2. 【請求項２】 前記排気圧調節部は手動操作で開閉を制
    御するマニュアルダンパーと、 自動操作で開閉を制御し、前記基板が前記回転装置にロ
    ードされて洗滌工程が実行される場合にオープンされる
    ようにセッティングされたオートダンパーを備えたこと
    を特徴とする請求項１に記載の基板の洗滌装置。
  3. 【請求項３】 基板を洗滌及び乾燥させるスピンドライ
    ユニットを具備した液晶表示装置の基板の洗滌装置にお
    いて、 前記スピンドライユニットは、 基板を回転させる回転装置が配置されたスピンドライ用
    のカップと、 前記スピンドライ用のカップの外郭に設置されて、空気
    と共に前記回転される基板から排出される異物が吸入さ
    れる空気吸入管と、 前記空気吸入管から吸入された空気及び異物を外部に排
    気させるトラップと、 前記トラップに設置されて前記トラップ内の排気圧を調
    節し、手動操作で開閉を制御するマニュアルダンパー及
    び自動操作で開閉を制御し、前記基板が前記回転装置に
    ロードされて洗滌工程が実行される場合にオープンされ
    るようにセッティングされたオートダンパーと、 前記トラップに設置されて前記回転される基板から排出
    される化学薬品や水分を外部に排出させるドレンを備え
    て構成されることを特徴とする液晶表示装置の基板の洗
    滌装置。
  4. 【請求項４】 請求項１の基板の洗滌装置を準備する段
    階と、 前記回転装置に前記基板をロードする段階と、 前記マニュアルダンパーを手動操作で閉鎖し、前記基板
    が前記回転装置にロードされて洗滌工程が実行される場
    合に前記オートダンパーを自動操作でオープンさせる段
    階を備えることを特徴とする液晶表示装置の基板の洗滌
    方法。
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