JP2000294531A - 枚葉化学処理装置とその運転方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 同一カップ内で薬液処理と水洗処理とを行う
スピン処理装置では薬液と処理水との効率的な分離が困
難である。 【解決手段】 底部に排液口を有し基板の大きさと大き
くカップ状容器の最小内径よりも大きい上部開口部を有
する皿状インナーカップ５０を、昇降して（ａ）のよう
にカップ状容器２８の内壁に押し付ける状態と、（ｂ）
のように皿状インナーカップ５０をカップ状容器２８の
内壁から離間させた状態とに切り換えて排液空間を二分
し、各空間毎に処理を専用化する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は半導体集積回路およ
び液晶デバイスなどの製造工程において用いられる化学
処理装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】周知のように半導体集積回路および液晶
デバイスなどの微細加工においては多数回の食刻・洗浄
工程が必要である。洗浄工程の実施形態としては以下に
述べるようなものがあり、実に多種多様である。先ず第
１の例としては、写真食刻工程における感光性樹脂（レ
ジスト）を塗布する前の洗浄があり、これは微細な感光
性樹脂パターンの形成に障害となる大小の付着したパー
ティクルやダスト、異物の除去が主目的である。

【０００３】次に第２の例としては、製膜工程における
製膜前の製膜前洗浄があり、これはピンホールや膜剥が
れのない製膜の障害となる大小の付着したパーティクル
やダスト、異物の除去に加えて膜の密着性を強化するた
めの表面改質と、多層配線構造において上下の導電性パ
ターン間に接触（コンタクト）不良が生じないように下
地の導電層表面の酸化膜を除去するための表面処理など
の複数の目的を有している。

【０００４】第３の例としては、食刻後および感光性樹
脂の剥離後の洗浄があり、これは主としてこれらの処理
に使用した薬液と剥離液中に残存する未分解の、または
水洗時に析出する感光性樹脂の除去を目的としている。
上記した食刻・洗浄工程においては、何れも洗浄の最終
工程では純水を用いて単結晶シリコンやガラス等の基板
を洗浄し、付着している薬液やダスト、異物を除去する
のが一般的であり、写真食刻工程の現像プロセスや食刻
プロセスにおいては純水を基板上にシャワー状またはス
プレイ状に吹き付けるようにして一枚ずつ連続的に処理
する製造装置が、量産工場では多用される。

【０００５】図３はこのような食刻・洗浄装置の概略の
断面構成図を示す。食刻・洗浄装置としての構成では、
（薬液）処理室１と水洗室２および乾燥室３とが最低限
の構成要素である。薬液処理時間が長くなる場合には処
理室１を２段にして長くしたり、処理液の水洗室２への
持出し量を低下させるために処理室１と水洗室２との間
に液切り室などの緩衝室を設けたり、同じく処理液の装
置外への拡散を防止するために処理室１の上流側に緩衝
室を配置するなどの設計的手法が加味されることは公知
である。

【０００６】以下に簡単に装置の構成内容を説明する
と、薬液循環ポンプ４、薬液中のダストまたはパーティ
クルを除去するためのフィルタ５および流量調整用のバ
ルブ６よりなる配管系７と、薬液を噴射するノズル８、
処理室１、処理室１の底部に設けられた薬液回収配管９
および薬液循環タンク１０とで閉ループを構成し、薬液
１１を循環使用する構成が代表的である。薬液の循環に
よるダスト除去を優先する場合には、薬液循環ポンプ
４、フィルタ５および薬液循環タンク１０とで循環系統
を独立させることも多い。

【０００７】ストップバルブ１２を有する薬液供給配管
１３は、薬液循環タンク１０に新規な薬液１１を供給す
るための配管系であり、図示はしないが例えば別の場所
に設置された供給タンクからＮ₂（窒素）加圧で圧送に
よって新規な薬液が循環タンク１０に供給される。同じ
くストップバルブ１４を有する薬液廃棄配管１５は、使
用済みの薬液１１を外部に廃棄するための配管系であ
り、図示はしないが屋外に設置された廃液タンクなどに
移し替えてから産業廃棄物として処理するなどの手続き
がなされる。

【０００８】水洗室２では基板に付着している薬液を洗
い流すために一般的には適度な純度の純水が必要である
ので、流量調整用バルブ１６を有する純水供給配管１７
が設けられ、配管の先端部には純水を噴射するノズル１
８が配置される。水洗室２の底部に設けられた回収配管
１９は基板を水洗した処理水の排水管であり、純水洗浄
の初期にはある程度の薬液が排水中に含まれるので、公
害対策のための適当な処理を施されてから工場排水とし
て廃棄されることも多い。

【０００９】水洗室を２段構成とし、第１の水洗室は上
記したように処理し、第２の水洗室の処理水は比較的汚
れが少ないので回収して再び他の目的の純水源として、
あるいは純水製造装置の原水として使用するなどの省資
源・省エネルギの取り組みも最近では定着しつつある。
水洗時にただ単純に基板に純水を噴射するだけではな
く、噴射する純水に超音波を重畳したり、高圧の噴射ジ
ェットにしたりして物理的な力で基板に付着した異物や
パーティクルの除去能力を高めることも最新の洗浄機で
は標準的なものとなりつつある。

【００１０】乾燥室３では水洗後の濡れた基板を乾燥す
るために、圧力計２０と流量調整用バルブ２１を有する
ドライエアまたは窒素ガスなどの乾燥ガス配管２２が設
けられ、配管２２の先端部には上記乾燥ガスを基板上に
シート状に噴射する乾燥ノズル２３が配置される。２４
は乾燥室５内で乾燥ノズル２３によって凝集した水を廃
棄するための排水管である。このように乾燥したガスを
基板に吹き付けて乾燥する方式は別名エアナイフとも呼
ばれる。

【００１１】純水噴射ノズル１８および乾燥ノズル２３
は基板裏面の除去のため基板上のみならず基板下からも
噴射するのが効率的であり、かつ一般的である。なお、
２５は基板の搬送ラインで、基板の搬送機構、処理室２
と水洗室４との間に設置されるゲートバルブあるいはエ
アカーテンなどの排気干渉防止機構、さらには各室内の
雰囲気を排気する排気管は図面上では省略してある。

【００１２】また、水洗後の濡れた基板を乾燥させるに
は、エアナイフ以外にもＩＰＡ（イソプロピル・アルコ
ール）などの速乾性有機溶剤を用いた置換型乾燥、ある
いは基板を高速で回転させて乾燥するスピン方式もある
が、ここでは説明を省略する。上記した設備構成は、処
理装置が長くなることと、基板の乾燥時に大量の乾燥ガ
スを消費する欠点があり、かつエアナイフで飛散した水
滴が基板上に跳ね返ってきて付着し、いわゆるウォータ
・マークとして膜剥がれやコンタクト不良など品質上あ
るいは歩留上の不良の原因となりやすい。また筋状の乾
燥斑も発生し易い。

【００１３】そのような場合には、乾燥手段として図４
に示したように基板４０を高速回転させながら乾燥させ
るスピン乾燥が用いられる。２６は基板４０を保持する
チャックで、一般的には真空吸着で保持されるが、基板
４０の裏面も洗浄したい場合にはチャック２６を円盤状
ではなく格子状に構成し、かつチャック外周に止めピン
を配置して基板が飛んでいかないようにしている。２７
はチャック２６を支持、回転させるためのシャフトであ
る。２９は処理室となるカップ状容器２８とシャフト２
７とをシールする機構である。ノズル８はここでは第１
の薬液を噴射または滴下するノズルであり、ノズル１８
はここでは第２の薬液または純水を噴射もしくは滴下す
るノズルである。

【００１４】また、図示はしないが、カップ状容器２８
で上部には基板４０の搬入・搬出のための大きな開口部
が設けられ、処理中に発生する薬液あるいは処理液のミ
ストを排出するための排気口も設けられ、さらに薬液あ
るいは処理液のミストの装置外への飛散を防止するため
にカップ状容器２８に蓋を併用することも多い。同じく
図示はしないが基板４０を高速回転するに当り、乾燥時
間を短縮するために基板４０に乾燥ガスを吹き付けるノ
ズルが設けられる。

【００１５】カップ状容器２８内の薬液あるいは処理液
のミストを排気する方法には、排液管３０に枝管３１を
付加し、枝管３１を排気系統に接続する方法も可能であ
る。枝管３１内に配置された３２はミスト・トラップま
たはミスト・セパレータで排気系統に大量のミストが流
れ込むのを阻止している。

【００１６】

【発明が解決しようとする課題】上述したようなスピン
型の処理装置を用いて薬液処理と水洗・乾燥処理とを一
つの装置で実行すること可能であり、事実、写真食刻工
程では現像、リンス、乾燥と三つの機能を共有する装置
が既に量産工場で稼動している。ただし、ブタジエン系
ゴム樹脂を主成分とするネガ型感光性樹脂（レジスト）
のように現像液（キシレン）もリンス液（酢酸ブチル）
も有機溶剤で、基板１枚毎に使用済みの２種類の薬液を
混合して回収してもよい場合は問題はないが、ノボラッ
ク樹脂を主成分とするポジ型感光性樹脂（レジスト）の
ように、現像液がＴＭＡＨ水溶液でリンス液が純水の場
合には、現像液と処理水を分離して回収しようとすると
解決は容易ではなくなる。

【００１７】使用済みの現像液と処理水とを分離しよう
とすると、カップ状容器２８からの排液管３０に切替バ
ルブ３３を設けて、適当なタイミングで薬液回収配管９
または処理水排水管１９に切り替えるしか方法がない
が、現像液の供給停止後に現像液を十分に回収できる程
に時間をおいて純水を供給することは現像反応が進行す
ることからできず、数秒以内に純水を供給せざるを得な
い。このため現像液と純水の混同は避け難く、薄まった
現像液が所定の使用量よりも多く回収されるか、かなり
の現像液が混入した処理水が回収されるか、何れかの選
択を迫られ、現像液の廃棄コストまたは処理水の産業廃
棄物としての処理コストが増加する事態は免れない。現
像液以外の薬品を用いた食刻または洗浄処理装置全く同
様のことが当てはまる。

【００１８】本発明は上述した問題点に鑑みなされたも
ので、スピン処理型の薬液処理装置において第１の薬液
と第２の薬液または純水とを効率的に分離、回収するこ
とができる枚葉化学処理装置とその運転方法を提供する
ことを目的とする。

【００１９】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明においては底部に排液口を有し基板の大きさ
とカップ状容器の最小内径よりも大きい上部開口部を有
する皿状インナーカップと、前記皿状インナーカップを
昇降してカップ状容器の内壁に押し付ける機構とを付与
している。この皿状インナーカップをカップ状容器の内
壁に押し付けることにより二分されたカップ状容器内の
各処理室毎に排液管を接続し、二つの排液空間が形成さ
れる。これによって第１の薬液処理時の排液系統と第２
の薬液または純水処理時の排液系統の分離が図られ、効
率的な排液回収が可能となる。

【００２０】

【発明の実施の形態】本発明の枚葉化学処理装置は、基
板を静止または回転させながら第１の薬液および第２の
薬液または純水を滴下あるいは噴射して処理する化学装
置において、底部に排液口を有し基板の大きさとカップ
状容器の最小内径よりも大きい上部開口部を有する皿状
インナーカップと、前記インナーカップを昇降してカッ
プ状容器の内壁に押し付ける機構とを有することを特徴
とする。

【００２１】また、本発明の枚葉化学処理装置の運転方
法は、排液空間を選択的に指定することで二つ考えら
れ、その一つは底部に排液口を有し、基板の大きさとカ
ップ状容器の最小内径よりも大きい上部開口部を有する
皿状インナーカップをカップ状容器の内壁に押し付け、
基板を保持するチャックを停止または低速回転させなが
ら第１の薬液を滴下または噴射して処理した後、前記チ
ャックの回転数を上げて基板上の第１の薬液を飛散させ
て第１の薬液処理を終了し、前記皿状インナーカップを
下降させてカップ状容器の下方に待機させるとともに前
記チャックを回転させながら第２の薬液または純水を滴
下あるいは噴射して処理することを特徴とする。

【００２２】もう一つの運転方法は、底部に排液口を有
し基板の大きさとカップ状容器の最小内径よりも大きい
上部開口部を有する皿状インナーカップをカップ状容器
の下方に待機させ、基板を保持するチャックを低速回転
させながら第１の薬液を滴下または噴射して処理した
後、前記チャックの回転数を上げて基板上の第１の薬液
を飛散させて第１の薬液処理を終了し、前記インナーカ
ップを上昇させてカップ状容器の内壁に押し付け、第２
の薬液または純水を滴下あるいは噴射して処理すること
を特徴とする。

【００２３】以下に図１と図２を用いて本発明による化
学処理装置と運転方法を説明する。なお、図３と図４に
示す従来例の化学処理装置と同じ機能を有する部材およ
び手段については同じ符号を付すことにより詳細な説明
は省略する。図１（ａ）（ｂ）は本発明の化学処理装置
を本発明の第１の実施の形態による運転方法で運転した
場合の工程を示し、図２（ａ）（ｂ）は本発明の化学処
理装置を本発明の第２の実施の形態による運転方法で運
転した場合の工程を示す。

【００２４】本発明の化学処理装置は、図１（ａ）
（ｂ）に示すように構成されており、図４に示した従来
のスピン処理装置との差異は、底部に排液口５１を有し
基板４０の大きさとカップ状容器２８の最小内径よりも
大きい上部開口部を有する皿状インナーカップ５０と、
前記インナーカップ５０を昇降してカップ状容器２８の
内壁に押し付ける機構（図示せず）を付加した点と、第
１の薬液と第２の薬液または純水に対応した回収排液配
管５１と１９（または９）が夫々専用に設けられている
点である。なお、２９ａ，２９ｂは夫々皿状インナーカ
ップ５０とシャフト２７、カップ状容器２８と排液配管
５１とをシールする機構である。

【００２５】インナーカップ５０を昇降してカップ状容
器２８の内壁に押し付ける機構については、バネなどの
付勢手段でインナーカップ５０を上昇させてカップ状容
器２８の内壁に押し付け、バネの付勢に抗してインナー
カップ５０を下降させる機械的な機構、あるいはラック
とピニオンとを組み合わせてモータでインナーカップ５
０を昇降させる電動式などの各種の機構の何れであって
も実現できる。

【００２６】図１（ａ）と図２（ｂ）は皿状インナーカ
ップ５０をカップ状容器２８の内壁に押し付けた状態の
カップ状処理装置を示し、皿状インナーカップ５０の上
部開口部はカップ状容器２８の最小内径よりも大きいの
で、皿状インナーカップ５０の上部開口部は必ずカップ
状容器２８の内壁に密接する。図１（ｂ）と図２（ａ）
は皿状インナーカップ５０を下降させてカップ状容器２
８の下方に静止させた状態のカップ状処理装置を示し、
皿状インナーカップ５０の上部開口部をカップ状容器２
８の内壁から十分に離すことができる。

【００２７】本発明の枚葉化学処理装置の運転方法は排
液空間を選択的に指定することで二つ考えられ、その内
の一つである第１の実施の形態による運転方法を以下に
述べる。図１（ａ）で皿状インナーカップ５０はカップ
状容器２８の内壁に押し付けられて、皿状インナーカッ
プ５０の上部開口部はカップ状容器２８の内壁に密接し
ている。図示はしないが基板４０はカップ状容器２８外
の所定の停止位置からチャック２６上に適当な搬送機構
で搬送される。ここではチャック２６は真空吸着で基板
４０を保持するものとする。基板４０の上方の中央部に
第１の薬液噴射ノズル８を移動させるか、あるいは適当
な噴射角を与えて図示したように固定位置から第１の薬
液を所定の量もしくは所定の時間滴下または噴射して薬
液処理を行う。一般的な食刻の場合には反応（処理）の
均一性を高めるためにチャック２６に数rpm〜数10rpm
の回転を与えるが、写真食刻の場合には静止させて薬液
処理を行うことも多い（パドル現像）。そこでチャック
２６を停止または数10 rpm以下の回転数で回転しなが
ら、第１の薬液を第１の供給配管７から供給し、第１の
薬液噴射ノズル８より基板４０に噴射または滴下して薬
液処理を行う。チャック２６が停止または低速回転して
いるので基板４０上の薬液は基板４０より溢れるように
外周方向に流出し、皿状インナーカップ５０内へ落ち込
み、底部に設けられた排液回収管５１を経て第１の薬液
回収排液配管９に流れ込む。薬液処理終了後にチャック
２６に数秒間、数 100 rpmの回転を与えて処理済みの第
１の薬液を基板４０が乾燥しない程度に軽く飛散させ
る。すると遠心力で外周方向に飛散した薬液はカップ状
容器２８の内壁に到達して内壁を伝って下方に流れて皿
状インナーカップ５０内へ流れ込み、同じく第１の薬液
回収排液配管９に流れ込む。

【００２８】皿状インナーカップ５０の上部開口部は、
図１（ａ）ではカップ状容器２８の内壁の絞り（形状）
に合わせたナイフ・エッジ状として皿状インナーカップ
５０をカップ状容器２８の内壁に押し付けた時に隙間が
できないようにして、処理薬液を皿状インナーカップ５
０へ効率的に集めている。さらに完全を期すならば、皿
状インナーカップ５０の上部開口部端に樹脂製のＯリン
グを装荷すると良いであろう。あるいはカップ状容器２
８の内壁に皿状インナーカップ５０の上部開口部と整合
した切り込みを入れても良い。

【００２９】第１の薬液処理終了後に、図１（ｂ）に示
したように皿状インナーカップ５０をカップ状容器２８
から離すべく降下させて所定の位置で静止する。そして
チャック２６を数10 rpm〜数100rpmで回転させながら第
２の薬液または純水を供給配管１７から供給し、噴射ノ
ズル１８より基板４０上に滴下または噴射すると、基板
４０が中速回転しているために遠心力で外周方向に飛散
した第２の薬液または純水はカップ状容器２８の内壁に
到達して内壁を伝って下方に流れてカップ状容器２８の
底部に設けられた第２の薬液（処理水）回収排液配管１
９に流れ込む。基板４０を回転させながら第２の薬液処
理または水洗処理を所定の時間行い、第２の薬液処理ま
たは純水の吐出を停止した後、数100rpm〜数1000 rpmで
チャック２６を高速回転して乾燥を行うが、この時も遠
心力で外周方向に飛散した薬液または純水はカップ状容
器２８の内壁に到達して内壁を伝って下方に流れてカッ
プ状容器２８の底部に設けられた第２の薬液回収排液配
管１９に流れ込む。

【００３０】基板４０の高速回転による乾燥時、乾燥時
間短縮するために乾燥した空気や窒素ガスあるいはそれ
らの熱したものなどの乾燥ガスを吹き付けるノズルを設
置することも多いが、ここでは省略する。次に第２の実
施の形態による運転方法を以下に述べる。排液空間の担
う分担が異なるので図１（ａ）（ｂ）と図２（ａ）
（ｂ）を比べると、第１の薬液回収配管９と第２の薬液
または処理水回収配管１9とが入れ替わる点に注目され
たい。

【００３１】図２（ａ）に示したように皿状インナーカ
ップ５０はカップ状容器２８から離れて下方の所定の位
置で静止している。図示はしないが基板４０はカップ状
容器２８外の所定の停止位置からチャック２６上に適当
な搬送機構で搬送される。基板４０の上方の中央部に第
１の薬液噴射ノズル８を移動させるか、あるいは適当な
噴射角を与えて図示したように固定位置から第１の薬液
を所定の量もしくは所定の時間滴下または噴射して薬液
処理を行う。この時、皿状インナーカップ５０はカップ
状容器２８から離れているのでチャック２６から溢れた
第１の薬液が皿状インナーカップ５０に流れ込まないよ
うに、チャック２６を数10 rpm以上の回転数で回転しな
がら第１の薬液を第１の供給配管７から供給して第１の
薬液噴射ノズル８より基板４０に噴射または滴下して薬
液処理を行う。チャック２６が低速回転しているので基
板４０上の薬液は基板４０より溢れるように外周方向に
流出し、遠心力で外周方向に飛散した薬液はカップ状容
器２８の内壁に到達して内壁を伝って下方に流れてカッ
プ状容器２８の底部に設けられた第１の薬液回収排液配
管９に流れ込む。薬液処理終了後にチャック２６に数秒
間、数 100 rpmの回転を与えて処理済みの第１の薬液を
基板４０が乾燥しない程度に軽く飛散させる。すると遠
心力で外周方向に飛散した薬液はカップ状容器２８の内
壁に到達して内壁を伝って下方に流れて同じく第１の薬
液回収排液配管９に流れ込む。

【００３２】第１の薬液処理終了後に、図２（ｂ）に示
したように皿状インナーカップ５０を上昇させてカップ
状容器２８の内壁に押し付け、皿状インナーカップ５０
の上部開口部をカップ状容器２８の内壁に密接させる。
そしてチャック２６を数10 rpm〜数100rpmで回転させな
がら第２の薬液または純水を供給配管１７から供給し、
噴射ノズル１８より基板４０上に滴下または噴射する
と、基板４０が中速回転しているために遠心力で外周方
向に飛散した第２の薬液または純水はカップ状容器２８
の内壁に到達して内壁を伝って下方に流れて皿状インナ
ーカップ５０内へ流れ込み、底部に設けられた排液回収
管５１を経て第２の薬液（処理水）の排液回収配管１９
に流れ込む。基板４０を回転させながら第２の薬液処理
または水洗処理を所定の時間行い、第２の薬液処理また
は純水の吐出を停止した後、数100rpm〜数1000 rpmでチ
ャック２６を高速回転して乾燥を行うが、この時も遠心
力で外周方向に飛散した第２の薬液または純水はカップ
状容器２８の内壁に到達して内壁を伝って下方に流れて
いき、インナーカップ５０の底部に設けられた第２の薬
液の排液回収配管１９に流れ込む。

【００３３】本発明の第２の実施の形態による運転方法
では、基板４０を静止させて薬液処理を行うことはでき
ないが、第１の薬液処理時と第２の薬液処理または水洗
処理時における薬液処理時の排液空間の大きさを比較す
ると後者の方が小さいので、第１の薬液の影響を受ける
ことが少なく、第２の薬液処理または水洗処理の品質を
向上させることが容易であり、また第２の薬液処理また
は水洗処理時間を短縮することが可能となる。

【００３４】

【発明の効果】以上のように本発明の化学処理装置は、
カップ状容器内に皿状インナーカップを配置し、皿状イ
ンナーカップを昇降してカップ状容器の内壁に押し付け
ることで薬液の回収される空間を二分し、夫々の空間で
別々の薬品または純水を用いて基板を処理する機能を有
している。そこで、先に使用する薬品を処理終了後に短
時間の高速回転で飛散させて回収しておけば、後で使用
する薬品への混入を回避することができる。

【００３５】したがって、例えば化学処理装置としてポ
ジレジストの現像装置に適用した場合には、使用後に回
収する現像液にリンス液としての純水が混入する恐れは
飛躍的に低下し、同じく回収する処理水に混入する現像
液は極めて微量とすることが可能になり、換言すれば現
像液の回収効率が高く、廃液処理コストの無用な増大を
防止できて工業的な価値は高い。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態による化学処理装置
の運転方法の工程図

【図２】本発明の第２の実施の形態による化学処理装置
の運転方法の工程図

【図３】従来の枚葉化学処理装置の概略構成図

【図４】従来の枚葉化学処理装置の水洗部の詳細な構成
図

【符号の説明】

１ （薬液）処理室 ２ 水洗室 ３ 乾燥室 ７ （第１の薬液の）供給配管 ８ （第１の薬液の）ノズル ９ （第１の薬液の）回収排液配管 １７ （第２の薬液または純水の）供給配管 １８ （第２の薬液または純水の）ノズル １９ （第２の薬液または純水の）回収排液配管 ２２ 乾燥ガス供給配管 ２３ 乾燥ノズル ２６ 基板チャック ２８ カップ状容器 ３１ 排気口 ３３ 切替バルブ ４０ 基板 ５０ 皿状インナーカップ ５１ 排液回収口

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基板を静止または回転させながら第１の薬
   液および第２の薬液または純水を滴下あるいは噴射して
   処理する化学装置において、 底部に排液口を有し基板の大きさとカップ状容器の最小
   内径よりも大きい上部開口部を有する皿状インナーカッ
   プと、 前記インナーカップを昇降してカップ状容器の内壁に押
   し付ける機構とを有する枚葉化学処理装置。
2. 【請求項２】底部に排液口を有し、基板の大きさとカッ
   プ状容器の最小内径よりも大きい上部開口部を有する皿
   状インナーカップをカップ状容器の内壁に押し付け、基
   板を保持するチャックを停止または低速回転させながら
   第１の薬液を滴下または噴射して処理した後、前記チャ
   ックの回転数を上げて基板上の第１の薬液を飛散させて
   第１の薬液処理を終了し、前記皿状インナーカップを下
   降させてカップ状容器の下方に待機させるとともに前記
   チャックを回転させながら第２の薬液または純水を滴下
   あるいは噴射して処理することを特徴とする枚葉化学処
   理装置の運転方法。
3. 【請求項３】底部に排液口を有し、基板の大きさとカッ
   プ状容器の最小内径よりも大きい上部開口部を有する皿
   状インナーカップをカップ状容器の下方に待機させ、基
   板を保持するチャックを低速回転させながら第１の薬液
   を滴下または噴射して処理した後、前記チャックの回転
   数を上げて基板上の第１の薬液を飛散させて第１の薬液
   処理を終了し、前記皿状インナーカップを上昇させてカ
   ップ状容器の内壁に押し付け、第２の薬液または純水を
   滴下あるいは噴射して処理することを特徴とする枚葉化
   学処理装置の運転方法。